JPS62275334A - 情報記録媒体 - Google Patents

情報記録媒体

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JPS62275334A
JPS62275334A JP61117963A JP11796386A JPS62275334A JP S62275334 A JPS62275334 A JP S62275334A JP 61117963 A JP61117963 A JP 61117963A JP 11796386 A JP11796386 A JP 11796386A JP S62275334 A JPS62275334 A JP S62275334A
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JP
Japan
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alloy
phase
information
recording
recording layer
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Pending
Application number
JP61117963A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsumi Suzuki
克己 鈴木
Naomasa Nakamura
直正 中村
Tadashi Kobayashi
忠 小林
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 [発明の目的] (産業上の利用分野) この発明は、光ビームにより情報を記録再生すると共に
、消去可能のいわゆるイレーザブル光ディスク等の情報
記録媒体に関する。
(従来の技術) 従来の光ディスクとしては、第14図乃至第16図に示
すものがある。第14図に示す光ディスクは、基板1上
に低融点材料の薄膜2を形成し、この薄膜2にレーザビ
ームをスポット照射し、薄m2を局部的に溶融蒸発させ
、微小な穴3を形成する。情報をこの穴3の形成により
記録する。
また、第15図に示す光ディスクにおいては、基板4上
に2wJ以上(7)li[6,71jlWIJさせ、レ
ーザビームをスポット照射したときに、下地膜6から気
泡を発生させ、WI膜7にふくらみ8を形成して情報を
記録する。しかしながら、この第14図又は第15図に
示す光ディスクにおいては、記録部(3,8)に不可逆
的な変化を与えるから、記録は可能であるが、消去する
ことはできない。
第16図に示す光ディスクにおいては、基板9上に温度
により組織が変化する材料でfa[10を形成し、レー
ザビームのスポット照射でsi*i。
の局部11を加熱してIIIを光反射率が異なる組繊に
変化させて情報を記録するものである。この場合には、
@膜10を温度により光学的特性が可逆的に変化する材
料で形成すれば、記録及び消去が可能になる。
このような材料として、Ge、又はTe等の半導体材料
がある。これらはその温度により、結晶質相と非晶質相
との2つの状態を選択的にとるので、レーザビームによ
る熱処理でこの2つの状態を可逆的に変化させて情報を
記録消去するLJ。
of  Non −Crystalline  5ol
id 411970  及びMetalluroica
l  Transactions 2641 1971
  )。
また、結晶と非晶質との間の相変化を利用して情報を記
録消去するイレーザブル光ディスクに使用される材料と
して、TC30x及びTe−Sn−8e等のカルコゲナ
イド系材料又はAuS i及びGeTe等の共晶合金材
料も開発されている(例えば、TeOxについては、竹
永著[書き換え可能な大容量光ディスク]日本学術振興
会第131委員会第116回研究資料;昭和58年5月
26日に解説されている)。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、前述の半導体材料は、化学的に不安定で
耐久性が低く、実用化が困難であるという問題点がある
。つまり、(3e、又はTe等の半導体は溶融状態まで
加熱して高速で冷却すると非晶質になり、融点よりも低
い温度に加熱して低速で冷却すると結晶質になる。この
非晶質相と結晶質相とでは、夫々n−1kで現される複
素屈折率(但し、nは屈折率、kは消衰係数、iは虚数
単位〉が異なる。これにより、情報の書込み及び読取り
が可能になるが、これらの半導体を薄膜にすると、化学
的安定性が低く、大気中では次第に腐蝕して劣化する。
このため、情報を記録再生する光デイスク用材料として
実用化することは困難である。
また、カルコゲナイド系材料においては、その非晶質相
が安定でないという問題点があり、一方、共晶合金材料
においては、結晶化に時間がかかり、情報を高速で消去
することが困難であるという欠点がある。
この発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、
安定して情報を記録することができると共に、その^速
消去が可能の相変化型情報記録媒体を提供することを目
的とする。
[発明の構成コ (問題点を解決するための手段) この発明に係る情報記録媒体は、光ビームにより情報を
記録及び再生すると共に、この情報を消去可能の情報記
録媒体において、基板と、光ビームにより情報を記録す
る記録層と、記録層を挟んで基板と対向する反射層と、
を有し、前記基板は、状態図上で金属間化合物又は規則
合金が安定相として現れる合金系であって、その準安定
相として液相線の外挿により規定される共晶合金が現れ
る合金系のその共晶合金が現れる組成範囲内の合金で形
成されていることを特徴とする。
(作用) この発明においては、金属間化合物又は規則合金が安定
相として現れる合金系であって、その金l1llsil
化合物又は規則合金が、結晶核が形成されないとか、冷
却が早くて結晶化されないとかの事情で現れず、その替
りに準安定相として液相線の外挿により規定される共晶
合金が現れるような合金を情報記録材料として使用する
。このような合金を、その共晶合金が現れる組成範囲内
に成分調整すると、その合金を一旦加熱溶融して急冷す
ることにより、非晶質相が得られる。この非晶質合金材
料を結晶化温度以上に加熱して結晶化することにより、
記録媒体が初期化される。そして、この記録媒体に光ビ
ームを照射すると、その照射領域が溶融し急冷されて非
晶質相となる。これにより、情報が記録される。この非
晶質相領域を結晶化温度以上に加熱すると、この領域が
結晶化して金属間化合物又は規則合金が現れる。これに
より、情報が消去される。情報の消去のためには、記録
媒体全体をヒータ等で加熱してもよいが、情報の記録時
に使用する光ビームの出力より小さい出力の光ビームを
使用して記録ビット部のみを結晶化温度以上に加熱する
ことも可能である。
この発明に係る情報記録媒体用材料は、結晶化温度が室
温以上であるから、室温において、非晶質相が安定的に
存在する。この準安定相である非晶質相は結晶化温度以
上に加熱されて金属間化合物又は規則合金になる。この
ため、結晶化に際しての原子の移動距離は短いので、轟
速の情報消去が可能である。
また、記録層には、その基板側から光ビームが入射する
が、その基板の反対側には、反射層を設けである。これ
により、基板と記録層との界面及び記録層と反射層との
界面からの反射の干渉効果を有効に活用することができ
、記録層における結晶質相と非晶質相との間の複素屈折
率の相違による反射率変化を増幅することができる。こ
れにより、信号のS/Nを高めることができる。
(実施例) 以下、添付の図面を参照してこの発明の実施例について
具体的に説明する。第1図はこの発明の実施例に係る光
ディスクを示す断面図である。
基板12は透明で経時変化が少ない材料で作られており
、例えば、ガラス、PMMA樹脂、ポリカーボネイト(
PC)樹脂、エポキシ樹脂、又は石英等の材料で作るこ
とができる。
このJIIi12の上には、情報を記録するための記録
層13が形成されている。記録層13の上には、金jI
製の反1114が形成されている。この反射層14はA
l、CU又はCr等の反射率が高い金属薄膜で形成され
ており、レーザビームを記録1113と反射1114と
の界面で反射させる。
記録層13は、状態図上で金属間化合物又は規則合金が
安定相として現れる合金系であって、その準安定相とし
て液相線の外挿により規定される共晶合金(以下、深い
準安定共晶合金という)が現れる合金系において、その
共晶合金が現れる組成範囲内に成分調整した合金で形成
しである。
このような深い準安定共晶合金としては、40乃至70
原子%のMgを含むAl−MO合金、18乃至45原子
%のAsを含むCu−As合金、1o乃至70原子%の
Caを含むMo−ca金合金60乃至85原子%のMg
を含むCu−MO合金、40乃至68原子%のSbを含
むに一Sb合金、20乃至85原子%のPbを含むMO
−Pb合金、又は1o乃至90原子%のSnを含むMO
−Sn合金等がある。
第2図(a)は、このような準安定共晶合金が現れるA
−8合金系の代表的な状態図を示す。純金属Aと純金J
IBとにより構成される2元系合金において、このA及
びB成分を所定の割合いで有する金属間化合物20が存
在する。一方、液相線21.23を延長すると、点25
にて交差する。
従って、この状態図において、安定相である金属間化合
物20が、結晶核が形成されないとか、冷却速度が早す
ぎて結晶化されないとかの何らかの理由で形成されない
場合に、準安定相として液相1121.23の外挿[1
22,24により規定される準安定共晶合金が形成され
る。点25はこの準安定共晶合金の共晶点になる。この
液相線21゜23の傾斜が大きい場合にこの準安定共晶
は深い共晶系になるので、この系を深い準安定共晶合金
と呼ぶことができる。
この第2図(a)に示す合金系について、温度T1にお
ける各相の自由エネルギの変化を第2図(b)に示す。
純金mA及びBの混合物の自由エネルギは純金属Aの自
由エネルギ曲線(実線26にて示す)と純金属Bの自由
エネルギ曲1!(実線27にて示す)との共通接線であ
る実1128により現される。一方、この温度T1では
、金属間化合物20が最も安定であることから、金属間
化合物の自由エネルギの変化曲線(実線29にて示す)
はその組成にJ5いて鋭く降下している。実$130は
過冷却の液体の自由エネルギ変化曲線であり、破線31
は過冷却液体の自由エネルギ変化曲線(実線30)と純
金属A又はBの自由エネルギ変化曲線(実1126.2
7)との共通接線である。
また、破1132は金属間化合物の自由エネルギ変化曲
it(寅[129)と純金mA又はBの自由エネルギ変
化曲線(実[126,27)との共通接線である。なお
、過冷却液体はこの温度において純金属A及びBの相互
拡散によって非晶質化している。
このような自由エネルギの変化をそのヒエラルキから考
察すると、先ず、金属間化合物と純金属との自由エネル
ギの共通接線が最も低いので、この金属間化合物が最も
安定である。しかし、実線30にて示す非晶質相の自由
エネルギ変化曲線と。
実1126.27にて示す純金属A、Bの自由エネルギ
変化曲線との共通接線31は、純金属の混合物の自由エ
ネルギ(実[128)よりも低い。このため、非晶質相
のヒエラルキは純金属のヒエラルキよりも下にあるから
、図中a及びbにて示す組成範囲内においては、非晶質
相が準安定に存在する。つまり、aとbとの間の組成に
純金属を混合して相互拡散させると、完全な非晶質相が
準安定的に形成される。なお、このような非晶質になり
やすい合金について、液相線に基づいて考察した論文が
[アモルファス金属の熱力学]と題する文献(固体物理
第20巻第8号の第77乃至85頁)に記載されている
以上説明したように、金属間化合物又は規則合金が現れ
る合金系において、その液相線の外挿線が深い共晶系と
なるような合金においては、安定相として金属間化合物
又は規則合金が現れ、準安定相として非晶質相が現れる
。この発明においては、このような深い準安定共晶合金
を記1illi13に使用する。
この記録層13の層厚は10人乃至5μmであること、
が好ましい。また、この合金からなる記録l!13は、
この合金をターゲットに使用した通常のスパッタ法、各
純金属をターゲットに使用した2元同時スパッタ法、又
は各金属を使用した2元同時N着法等により形成するこ
とができる。
次ぎに、このように構成された光ディスクの動作につい
て説明する。この光ディスクにおいては、第1図に示す
ように、光ビーム16が集束レンズ15により集束され
て基板12側から記録1113に照射される。
」l【 成III後の記録層13は非晶質であるので、この光デ
ィスクを使用する前に、記[113を結晶質にする。こ
の記録層の結晶化による光ディスクの初期化は、ヒータ
によりディスクの全体を結晶化温度以上に加熱すること
によりおこなってもよいし、また、光ビームを記録11
3に順次照射してこの光ビームにより記録層13を加熱
することによりおこなってもよい。
乱1 光ディスクに対する情報の記録においては、記録層13
に光ビーム16を短時間照射し、この照射1JI4!1
7を一旦溶融させた後急冷することにより非晶質に相変
化させる。光ビームとしては、50n秒乃至2μ秒の早
いパルス状のレーザビームを使用することが好ましい。
また、このレーザビームの出力は、例えば、その1パル
スで深い準安定共晶合金を溶融させることができるもの
であればよいが、通常、5乃至20mWである。このよ
うな深い準安定共晶合金の溶融急冷による非晶質化によ
り、情報が記録層13に書込まれる。
■ 記録層13に1込まれた情報は、この記録ビット(la
域17)に光ビームを照射し、その反射光の強度を検出
することにより読取る。つまり、結晶質相と非晶質相と
で、光ビームを照射したときの表面反射率が異なること
を利用し、反射光の強度を検出することにより、光ビー
ムの照射w4域が結晶質相であるか、非晶質相であるか
を判別する。
この場合に、記録層13における合成反射率Rは、基板
12と記録1113との間の界面、記録層13と反射1
114との間の界面、及び反射層14と外界との間の界
面(光ディスクの表面)にて生じる反射の総和で現すこ
とができる。ところで、複素屈折率N−n−1kにおい
て、消衰係数kが大きな金属で反射1i14を形成した
場合には、反射層14がないときに比して、記It@1
3と反射1114との界面で生じる反射を大きくするこ
とができる。このため、基板12と記録層13との間の
界面、及び記録1113と反射層14との間の界面から
の反射の干渉効果を有効に活用して、記録1113にお
ける結晶質相と非晶質相との間の複素屈折率の相違によ
る反射率変化を111幅することができる。
第3図は記録層の上に反射層を形成していない場合、第
4図は、この実施例のように、記録層の上に反射層を形
成した場合について、反射率と記録層層厚との関係を、
結晶質相と非晶質相とで比較して示す。記録層は、いず
れも、層厚が250人であってTeを60原子%含有す
る3b−Te合金で形成してあり、反射層は1000人
の層厚のA1で形成した。第3図から明らかなように、
反射層がない場合には、結晶質相と非晶質相との間の反
射率の相違が小さいのに対し、第4図から明らかなよう
に、反射層を設けた場合には、多重干渉により、結晶質
相と非晶質相との間で約40%も反射率が相違する。
この第4図の光学的特性が得られた光ディスクを、回転
数が700rl)m、記録時のレーザ出力が10mW、
記録時のパルス幅が200n秒、消去時のレーザ出力が
5mW、記録時のパルス幅が3μ秒、という条件で記録
と消去とを繰返したところ、S/N比が45dBと高い
値が得られた。
更に、この光ディスクを温度が60℃、湿度が80%の
雰囲気下で2週間加速劣化試験を実施したところ、S/
N比の劣化は実質的に生じなかった。
逼」L 記録層13の記録ビット(領域17)に情報記録時の光
ビームの出力より小さな出力で光ビームを照射し、記録
1113を形成する合金の融点より低い温度であって、
結晶化温度より高い温度に記録層13を加熱する。これ
により、記録層の記録ビットは結晶化し、情報が消去さ
れる。この発明においては、非晶質相を金属層化合物に
相変態させることにより情報を消去するので、従来の共
晶合金を使用した場合に比して、高速で情報を消去する
ことが可能である。このため、従来の共晶合金を使用し
た場合のように、光の照射時間を長くすることなく、光
ビームの照射出力を記録時の出力より単に小さくするだ
けで情報を消去することができる。つまり、従来のよう
に、消去用に惰円状の光ビームを使用する必要がなく、
この発明においては、その出力を調整するのみで記録用
の光ビームをそのまま消去に使用することができる。
以上のように、この発明は、情報記録媒体として、深い
準安定共晶合金を利用する。この深い準安定共晶合金に
光ビームを照射することにより、これが溶融しその後急
冷して生成する非晶質は準安定相であるが、室温におい
て安定である。従って、情報を安定して記録させること
ができる。一方、この非晶質に光ビームを照射すると、
結晶化して金属間化合物又は規則合金が生成する。これ
により、情報が消去される。従来の非晶質形成能がある
共晶合金を使用した場合には、その結晶化で共晶反応が
生じるために結晶化が2段階になる。
しかし、この深い準安定共晶合金の場合には、短範囲の
原子の拡散移動のみで、1段階で結晶化が生じる。この
ため、この発明は、従来の共晶合金に比して、高速消去
が可能である。
また、深い準安定共晶合金においては、金属間の結合が
強く、化学的に安定であるため、酸化等による劣化がな
いのに加え、例えば、濃度が60℃、相対湿度が80%
の環境下においても、反射率等の光学的特性が1月を越
えても変化しない。
また、記録層の上に反射損を形成することによって、結
晶質相と非晶質相との間の反射率の相違を拡大すること
ができ、信号のS/Nを高めることができる。
なお、記録層と基板の間又は記録層と反射層との間に、
SiO2等からなる保護層を形成してもよい。この保1
11fにより、光ビームの照射による深い準安定共晶合
金の蒸発を抑制することができる。また、反17111
の上に光ディスクの取扱上発生する損傷から防止する保
護膜を形成することもできる。この損傷保護膜は、例え
ば、紫外線硬化樹脂を反131M4上に塗布した後、こ
れに紫外線を照射することにより硬化させて形成するこ
とができる。
更に、記録層を、深い準安定共晶合金からなる微粒子を
誘電体中に分散させることにより、この合金と誘電体と
の混合物として形成することもできる。このように記録
層を深い準安定共晶合金と誘電体との混合層とした場合
には、その単一層構造であっても合金の蒸発を抑制する
ことができる。
このような深い準安定共晶合金として、第5図乃至第1
3図にその状態図を示すものが考えられる。第5図は約
40乃至70原子%のMoを含むA I−Mg合金、第
6図は約18乃至45原子%のAsを含むCLI−AS
合金(この合金系においてはCux As規則合金及び
Cus AS2金属間化合物が安定相として存在する)
、第7図は約10乃至70原子%のCaを含むMO−C
a合金(この合金系においてはMO2Ca合金2i!間
化合物が安定相として形成される)、第8図は約60乃
至85原子%のMgを含むCu−Mg金合金この合金系
においてはMO2Cu金属間化合物が安定相として形成
される)、第9図は約40乃至68原子%のsbを含む
に一Sb合金(この合金系においては安定な金属間化合
物としてに5Sb4、)(3b、KSb2が形成される
)、第10図は約20乃至85原子%のPbを含むMO
−Pb合金(この合金系においてはMgz Pb金属間
化合物が形成される)、第11図は約10乃至90原子
%のSnを含むMo−5n合金(この合金系においては
Mg2Snが安定な金属間化合物として形成される)、
第12図は約45乃至60原子%のsbを含むNa−3
b合金(安定相としてNaSb金属間化合物が形成され
る)、第13因は約30乃至90原子%のTeを含むS
b−Te合金(Sb2Te3規則合金が安定相である)
が、夫々、深い準安定共晶系の合金であることを示して
いる。この発明においては、このような組成の準安定共
晶合金を記録層に使用することができる。
[発明の効果] この発明によれば、非晶質相として情報が記録される記
録ビットは極めて安定であり、しかも、この記録情報を
高速で消去することができる。また、記録−との界面で
光ビームを反射する反射層を設けであるから、結晶質相
と、非晶質相との間での反射率の相違を増幅することが
できる。このため、情報のS/Nが高い。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の実施例に係る光ディスクを示す断面
図、第2図(a)は2元系合金の状態図、第2図(1)
)は同じくその自由エネルギ変化曲線を示す模式図、第
3図及び第4図は記録層の層厚と反射率との関係を示す
グラフ図、第5図乃至第13図はこの発明に使用される
合金系の状態図、第14図乃至第16図は従来の光ディ
スクを示す図である。 12;基板、13;記録層、14;反射層、20;金I
i1間化合物、21.23:液相線、22゜24:外挿
線 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第1図 第2(a)図 第2(b)図 第4図 Mg      Ca’/。 第7図 第8図      第9図 Mg   l)b’/。 第10図 S b     Te ’/。 第13図 第14図 第16図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光ビームにより情報を記録及び再生すると共に、
    この情報を消去可能の情報記録媒体において、基板と、
    光ビームにより情報を記録する記録層と、記録層を挟ん
    で基板と対向する反射層と、を有し、前記記録層は、状
    態図上で金属間化合物又は規則合金が安定相として現れ
    る合金系であって、その準安定相として液相線の外挿に
    より規定される共晶合金が現れる合金系のその共晶合金
    が現れる組成範囲内の合金で形成されていることを特徴
    とする情報記録媒体。
  2. (2)前記合金は、40乃至70原子%のMgを含むA
    l−Mg合金、18乃至45原子%のAsを含むCu−
    As合金、10乃至70原子%のCaを含むMg−Ca
    合金、60乃至85原子%のMgを含むCu−Mg合金
    、40乃至68原子%のSbを含むK−Sb合金、20
    乃至85原子%のPbを含むMg−Pb合金、10乃至
    90原子%のSnを含むMg−Sn合金、45乃至60
    原子%のSbを含むNa−Sb合金、及び30乃至90
    原子%のTeを含むSb−Te合金から選択されたもの
    であることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の
    情報記録媒体。
JP61117963A 1986-05-22 1986-05-22 情報記録媒体 Pending JPS62275334A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04146188A (ja) * 1990-10-09 1992-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学的情報記録媒体および光学的情報記録再生方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04146188A (ja) * 1990-10-09 1992-05-20 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光学的情報記録媒体および光学的情報記録再生方法

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