JPS622683A - パルスガスレ−ザ装置 - Google Patents
パルスガスレ−ザ装置Info
- Publication number
- JPS622683A JPS622683A JP14173385A JP14173385A JPS622683A JP S622683 A JPS622683 A JP S622683A JP 14173385 A JP14173385 A JP 14173385A JP 14173385 A JP14173385 A JP 14173385A JP S622683 A JPS622683 A JP S622683A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- inductance
- discharge
- laser
- capacitor
- energy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は容量移行型を用いるＴＥＡＣＯ２レーザ、エキ
シマレーザなどのパルスガスレーザに関スルものである
。
シマレーザなどのパルスガスレーザに関スルものである
。
（従来の技術）
第２図は従来の容量移行型励起回路を用いたパルスガス
レーザの構成図である（レーザ共振器は省略）。第２図
のパルスガスレーザにおいては、スイッチング素子７を
オンにし主コンデンサ３に蓄積したエネルギーを急速に
ピーキングコンデンサ５に移すことにより放電電極１，
２にかかる電圧ｖ３を急激に立上げ、放電空間３にてレ
ーザ励起のための放電を得ている。
レーザの構成図である（レーザ共振器は省略）。第２図
のパルスガスレーザにおいては、スイッチング素子７を
オンにし主コンデンサ３に蓄積したエネルギーを急速に
ピーキングコンデンサ５に移すことにより放電電極１，
２にかかる電圧ｖ３を急激に立上げ、放電空間３にてレ
ーザ励起のための放電を得ている。
従来の容量移行型励起回路を用いたパルスガスレーザに
ついては詳しい説明は、文献、レーザ研究第９巻第６号
８７頁〜９２頁に述べられているのでここでは省略する
。
ついては詳しい説明は、文献、レーザ研究第９巻第６号
８７頁〜９２頁に述べられているのでここでは省略する
。
（発明が解決しようとする問題点）
第２図の従来の容量移行型励起回路を用いたパルスガス
レーザにおいてｃ、 ｄ、 ｅ、 ｆの回路が低インダ
クタンス（普通１０ｎＨ以下）であるため放電空間に流
れる放電電流のパルス幅が短かく、従って短かいパルス
幅のレーザ光しか得られない。例えば市販される容量移
行型励起回路を用いたＸｅＣ１エキシマレーザにおいて
は、約５０ｎｓの放電電流幅しか得られず、レーザ光の
パルス幅が約２０ｎｓ Ｌ、がならない。レーザ光のパ
ルス幅が短かいということはレーザ光のレーザ共振器の
往復回数が少ないということで、レーザ光のコヒーレン
ジイーが悪いということである。また、レーザ共振器の
往復回数が少ないと狭いスペクトル幅のレーザ光が得ら
れなくなる。
レーザにおいてｃ、 ｄ、 ｅ、 ｆの回路が低インダ
クタンス（普通１０ｎＨ以下）であるため放電空間に流
れる放電電流のパルス幅が短かく、従って短かいパルス
幅のレーザ光しか得られない。例えば市販される容量移
行型励起回路を用いたＸｅＣ１エキシマレーザにおいて
は、約５０ｎｓの放電電流幅しか得られず、レーザ光の
パルス幅が約２０ｎｓ Ｌ、がならない。レーザ光のパ
ルス幅が短かいということはレーザ光のレーザ共振器の
往復回数が少ないということで、レーザ光のコヒーレン
ジイーが悪いということである。また、レーザ共振器の
往復回数が少ないと狭いスペクトル幅のレーザ光が得ら
れなくなる。
以上のように、従来の容量移行型励起回路を用いたパル
スガスレーザにおいてはコヒーレンジイが悪く、またス
ペクトル幅の広いレーザ光しか得られない欠点があった
。
スガスレーザにおいてはコヒーレンジイが悪く、またス
ペクトル幅の広いレーザ光しか得られない欠点があった
。
本発明の目的は、高効率でレーザ光のパルス幅が長いパ
ルスガスレーザ得ることにある。
ルスガスレーザ得ることにある。
（問題を解決するための手段）
本発明ではピーキングコンデンサがらレーザ励起のため
の放電空間へのエネルギー注入のときに電流が流れる回
路のうち、主コンデンサからピーキングコンデンサへエ
ネルギーが移行するときに電流が流れる部分をのぞいた
部分に付加インダクタンスを付加した点に特徴がある。
の放電空間へのエネルギー注入のときに電流が流れる回
路のうち、主コンデンサからピーキングコンデンサへエ
ネルギーが移行するときに電流が流れる部分をのぞいた
部分に付加インダクタンスを付加した点に特徴がある。
（作用）
容量移行型励起回路を用いたパルスガスレーザにおいて
、レーザ出力を効率良く得たい場合は主コンデンサから
ピーキングコンデンサへのエネルギー移（テ・を急速に
行い放電電極に印加する電圧（第２図のＶ３）の立上が
りを早くする必要がある。なぜなら、ｖ３の立上がりが
遅いと、■３がピーク値に達する前に放電空間３に放電
が生じ効率良いレーザ励起が行えないからである。そこ
で、第２図に示すａ、 ｂ。
、レーザ出力を効率良く得たい場合は主コンデンサから
ピーキングコンデンサへのエネルギー移（テ・を急速に
行い放電電極に印加する電圧（第２図のＶ３）の立上が
りを早くする必要がある。なぜなら、ｖ３の立上がりが
遅いと、■３がピーク値に達する前に放電空間３に放電
が生じ効率良いレーザ励起が行えないからである。そこ
で、第２図に示すａ、 ｂ。
ｃ、ｄの回路のインダクタンスを極力小さくしなければ
ならない（普通１００ｎＨ〜１５０ｎＨ位に小さくして
いる）。
ならない（普通１００ｎＨ〜１５０ｎＨ位に小さくして
いる）。
一方、第２図に示すｃ、 ｄ、 ｅ、 ｆの回路に５０
ｎＨ前後のインダクタンスがあれば、放電電流のパルス
幅が１００ｎｓ以上になり、レーザ光のパルス幅を５０
ｎｓ以上にできる（これはピーキングコンデンサの容量
が３０ｎＦ位を用いたＸｅＣ１エキシマレーザの場合で
ある）。そこで第２図のｄとｅ又はＣとｆの間にインダ
クタンスを付加することにより放電電極への印加パルス
電圧の立上がりが早く、かつ放電電流のパルス幅が長←
なり高効率で長いパルス幅のレーザ光が得られる。
ｎＨ前後のインダクタンスがあれば、放電電流のパルス
幅が１００ｎｓ以上になり、レーザ光のパルス幅を５０
ｎｓ以上にできる（これはピーキングコンデンサの容量
が３０ｎＦ位を用いたＸｅＣ１エキシマレーザの場合で
ある）。そこで第２図のｄとｅ又はＣとｆの間にインダ
クタンスを付加することにより放電電極への印加パルス
電圧の立上がりが早く、かつ放電電流のパルス幅が長←
なり高効率で長いパルス幅のレーザ光が得られる。
（実施例）
次に図面を用いて本発明を説明する。
第１図は本発明の一実施例の構成図で、点りとＥの間に
付加インダクタンスＬａ８を付加しているのが特徴であ
る（この実施例ではＤ−Ｅ間であるがＣ−Ｆ間に付加イ
ンダクタンスを設けても効果は同じである。）。回路Ａ
、 Ｂ、 Ｃ，Ｄには特にインダクタンスを挿入してい
す、浮遊インダクタンスＬｏのみである。
付加インダクタンスＬａ８を付加しているのが特徴であ
る（この実施例ではＤ−Ｅ間であるがＣ−Ｆ間に付加イ
ンダクタンスを設けても効果は同じである。）。回路Ａ
、 Ｂ、 Ｃ，Ｄには特にインダクタンスを挿入してい
す、浮遊インダクタンスＬｏのみである。
ＬＯは小さいから（１００ｎＨ〜１５０ｎＨ）スイッチ
ング索子７がオンしたとき主コンデンサ４からピーキン
グコンデンサ４へ急速にエネルギーが移行し早い立上が
り時間Ｔｖの■３が得られる。ｖ３は放電電極１，２に
かかる電圧で、Ｔｖは次式で得られる。
ング索子７がオンしたとき主コンデンサ４からピーキン
グコンデンサ４へ急速にエネルギーが移行し早い立上が
り時間Ｔｖの■３が得られる。ｖ３は放電電極１，２に
かかる電圧で、Ｔｖは次式で得られる。
Ｔｖ＝ｎＸ ０ＣＩＣ２／Ｃ１＋Ｃ２’ここでＣＩ、
Ｃ２は各々主コンデンサ、ピーキングコンデンサの容
量法にピーキングコンデンサ５から放電空間６ヘエネル
ギーが注入されるとき、すなわち放電電流が流れるとき
、Ｌａが付加されているので長いパルスｇＴｌの放電電
流が得られる。慣は次式である。
Ｃ２は各々主コンデンサ、ピーキングコンデンサの容
量法にピーキングコンデンサ５から放電空間６ヘエネル
ギーが注入されるとき、すなわち放電電流が流れるとき
、Ｌａが付加されているので長いパルスｇＴｌの放電電
流が得られる。慣は次式である。
’ｈ＝ｎｘ Ｖ口５Ｒｊ
例えばＬａ ＝５０ｎＨ，Ｃ２＝３０ｎＦの場合Ｔｒ
＝ １２０ｎｓとなり従来の２倍以上の値が得られる。
＝ １２０ｎｓとなり従来の２倍以上の値が得られる。
以上説明した様に本発明の一実施例である第１図の構成
においては、立上がりの早い電圧ｖ３が放電電極１，２
に印加され、かつ放電電流が長くなるので従って効率良
く、長いパルス幅のレーザ光が得られる。
においては、立上がりの早い電圧ｖ３が放電電極１，２
に印加され、かつ放電電流が長くなるので従って効率良
く、長いパルス幅のレーザ光が得られる。
（発明の効果）
本願によれば、効率良く長いパルス幅のレーザ光が得ら
れコヒーレンジイが良く、スペクトル幅の狭いレーザ光
が得られる。
れコヒーレンジイが良く、スペクトル幅の狭いレーザ光
が得られる。
第１図は本発明の一実施例を示す構成図、第２図は従来
の容量移行型励起回路を用いたパルスガスレーザの構成
図である。 １．２・・・放電電極 ３・・・放電空間４・・
・主コンデンサ ５・・・ピーキングコンデンサ７
・・・スイッチング索子 ８・・・付加インダクタンス
第 １ 図 第 ？ 図 手続補正書（自発） １、事件の表示 昭和６０年 特許願 第１４１７
３３号２、発明の名称 パルスガスレーザ装置 ３、補正をする者 事件との関係 出願人 東京都港区芝五丁目３３番１号 （４２３） 日本電気株式会社 代裏者 関本忠弘 ４、代理人 （連絡先 日本電気株式会社特許部） ５、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 １）特許請求の範囲を別紙のとおり補正する。 ２）明細書第５頁第１３行目に ｒ’ｒｖ：ｎｘ ０ＣＩＣ２／Ｃ１＋Ｃ２Ｊとあるの
をｒＴｙ＝ｎＸｖ’Ｌ−ｏ（４Ｃ２／（Ｃ１＋Ｃ２）Ｊ
と補正する。 ３）明細書第５頁第２２行目に ｒ Ｔｌ ＝ ＩＩ Ｘ ｊｉ苅ＳＪ トあるのを別紙 特許請求の範囲
の容量移行型励起回路を用いたパルスガスレーザの構成
図である。 １．２・・・放電電極 ３・・・放電空間４・・
・主コンデンサ ５・・・ピーキングコンデンサ７
・・・スイッチング索子 ８・・・付加インダクタンス
第 １ 図 第 ？ 図 手続補正書（自発） １、事件の表示 昭和６０年 特許願 第１４１７
３３号２、発明の名称 パルスガスレーザ装置 ３、補正をする者 事件との関係 出願人 東京都港区芝五丁目３３番１号 （４２３） 日本電気株式会社 代裏者 関本忠弘 ４、代理人 （連絡先 日本電気株式会社特許部） ５、補正の対象 明細書の特許請求の範囲の欄 明細書の発明の詳細な説明の欄 ６、補正の内容 １）特許請求の範囲を別紙のとおり補正する。 ２）明細書第５頁第１３行目に ｒ’ｒｖ：ｎｘ ０ＣＩＣ２／Ｃ１＋Ｃ２Ｊとあるの
をｒＴｙ＝ｎＸｖ’Ｌ−ｏ（４Ｃ２／（Ｃ１＋Ｃ２）Ｊ
と補正する。 ３）明細書第５頁第２２行目に ｒ Ｔｌ ＝ ＩＩ Ｘ ｊｉ苅ＳＪ トあるのを別紙 特許請求の範囲
Claims (1)
- 予備電離アーク放電空間とピーキングコンデンサとを直
列接続した回路を、スイッチング素子と主コンデンサと
付加インダクタンスと放電電極とを直列接した閉回路の
付加インダクタンスと放電電極に並列に接続した容量移
行型励起回路と、レーザ共振器とを備えていることを特
徴とするパルスガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14173385A JPS622683A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | パルスガスレ−ザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14173385A JPS622683A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | パルスガスレ−ザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS622683A true JPS622683A (ja) | 1987-01-08 |
Family
ID=15298942
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14173385A Pending JPS622683A (ja) | 1985-06-28 | 1985-06-28 | パルスガスレ−ザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS622683A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6847670B1 (en) | 1999-09-16 | 2005-01-25 | Ushio Denki Kabushiki Kaisya | Gas laser apparatus emitting ultraviolet radiation |
-
1985
- 1985-06-28 JP JP14173385A patent/JPS622683A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6847670B1 (en) | 1999-09-16 | 2005-01-25 | Ushio Denki Kabushiki Kaisya | Gas laser apparatus emitting ultraviolet radiation |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001525946A (ja) | ハイパワーレーザにおけるイントラキャビティ及びインタキャビティ高調波発生 | |
| ATE231294T1 (de) | Passiv modengekoppelter femtosekundenlaser | |
| US20020015430A1 (en) | Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser | |
| CA2069368A1 (en) | Pulsed laser | |
| Zapka et al. | Dye laser frequency tripling at 106 nm | |
| JPS622683A (ja) | パルスガスレ−ザ装置 | |
| EP1085623B1 (en) | Gas laser apparatus emitting ultraviolet radiation | |
| JPH0433150B2 (ja) | ||
| Gordon et al. | Gas pumping in continuously operated ion lasers | |
| JPS622682A (ja) | パルスガスレ−ザ装置 | |
| JPS6027183A (ja) | 横励起高出力レ−ザ−系の励起回路 | |
| Uchiki et al. | Pulse shortening in dye laser side-pumped by TEA N 2 laser | |
| DE69201002D1 (de) | Entladungsgepumpter Gas-Laser mit einer unabhängigen Preionizierungsschaltung. | |
| JPS61212080A (ja) | パルスガスレ−ザ励起回路 | |
| Gessel et al. | Lattice paths and Faber polynomials | |
| JPS63217685A (ja) | パルスレ−ザ装置 | |
| JPH01130581A (ja) | パルスガスレーザ | |
| Langford et al. | The hybrid mode-locking of a cw Rhodamine 700 dye laser | |
| Wakata et al. | Study of opto-galvanic effect in two-photon transition | |
| JPH0357284A (ja) | パルスガスレーザの駆動装置 | |
| JPH05243656A (ja) | 光増幅装置 | |
| Rigrod et al. | Diffraction Studies with Plane‐Parallel Maser Interferometer | |
| KIM et al. | Gas and metal vapor lasers and applications; Proceedings of the Meeting, Los Angeles, CA, Jan. 22, 23, 1991 | |
| Cheng et al. | Free‐running XeF (C‐A) lasing at 2.2 atm in a commercial discharge excimer laser | |
| Pbasada et al. | WAVELENGTH TURNING OF A SUPERRADIANT DTDC IODIDE DYE LASER. |