JPS6226809A - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置

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Publication number
JPS6226809A
JPS6226809A JP16638885A JP16638885A JPS6226809A JP S6226809 A JPS6226809 A JP S6226809A JP 16638885 A JP16638885 A JP 16638885A JP 16638885 A JP16638885 A JP 16638885A JP S6226809 A JPS6226809 A JP S6226809A
Authority
JP
Japan
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vapor
crucible
power source
metal vapor
ionized
Prior art date
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Pending
Application number
JP16638885A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Tanaka
毅 田中
Shigeo Hayashi
成男 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPS6226809A publication Critical patent/JPS6226809A/ja
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  • Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、真空中で薄膜を蒸着させる装置の電源に関
するものである。
〔従来の技術〕
従来のM着装置の構成を第3図に示す。
図において、1はるつぼ、2は該るつぼ1内に収容され
た金属、3は上記るつぼ1の小孔、4は上記金属2の蒸
気、5は上記るつぼ1を加熱するるつぼ加熱フィラメン
ト、6は電源、7は直流電源、8はグリッド電極、9は
上記金属蒸気2をイオン化するために電子を放出するイ
オン化電子放出フィラメント、10は電源、11は直流
電源、12はイオン化した金属蒸気を加速し基板に蒸着
させる加速電極、13は基板、14は蒸着膜、15は直
流電源、16は真空容器、20及び21は電子流、30
〜37はブッシングである。
次に動作について説明する。るつぼ加熱フィラメント5
は、電源6によって加熱され、直流電源7によって電圧
を与えられ、熱電子を発生し、熱電子は電子流20とな
ってるつぼ1に衝突する。
このことによりるつぼ1は加熱され、るつぼ1内の金属
2は溶融し蒸発して金属蒸気4となり小孔3を通って基
板13へ向かって噴出する。この時イオン化電子放出フ
ィラメント9は電源10により加熱されており、直流電
源11により与えられた電圧によってグリッド電極8に
向かって電子流21を発生する。該電子流21はグリフ
)電極8を通り抜け、金属蒸気4に衝突し、金属蒸気4
の電子を剥奪しイオン化させる。イオン化した金属蒸気
は加速電極12と直流電源15により加速され、基板1
3に衝突し、蒸着膜14をうくる。
なお、金属蒸気4の発生速度は、るつぼ温度即ち加熱電
力により決るので、るつぼ加熱フィラメント5に流れる
電流及び電源7の電圧調整により、電子流20の発生量
と、電子の運動エネルギーを変化させて、加熱電力の調
整を行う。
また、金属蒸気4のイオン化量は、電子流21に依存し
、電子流21の発生量及び電子の運動エネルギーはイオ
ン化電子放出フィラメント9を流れる電流及び電源11
の電圧により決まる。
更に、イオン化された金属蒸気の蒸着強度は金属蒸気の
速度によって決まるので、加速電極12に与えられる直
流電源15の電圧により、金属蒸気の速度を変化させ、
上記蒸着強度を調整する。
次に従来装置の直流電源7,11.15の電圧制御の構
成を第4図に示す。図において、43は電源、44はト
ランス、45は整流回路、46はリアクトル、47はコ
ンデンサ、48はサイリスク、51はゲート制御回路で
ある。
従来装置においては直流電源7,11.15の電圧制御
は、第4図に示す様な回路構成において、整流回路45
及びゲート制御回路51によって位相制御され、リアク
トル46とコンデンサ47とによって平滑された電圧を
負荷へ出力していた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の蒸着装置は以上のように構成されているので、金
属蒸気の発生量、該蒸気のイオン化量及びイオン化蒸気
の速度のggのために多(の直流電源の出力を位相制御
等の複雑な制御を用いて連続的に変化させなければなら
ず、直流電源の出力制御回路及びこれの制御方法が複雑
であった。
この発明は上記の様な問題点を解消するためになされた
もので、電源の出力制御回路及びその制御方式を簡略化
するとともに、安価で信頼性の高い蒸着装置を提供する
ことを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明に係る蒸着装置は、るつぼ加熱フィラメント用
、イオン化電子放出用及び加速電極用の3つの直流電源
にそれぞれ開閉操作のみで電力の出力制御を行う開閉制
御手段を備えたものである。
〔作用〕
この発明においては、開閉制御手段により直流電源の出
力を開閉制御するようにしたから、複雑な直流電圧制御
回路が不必要となり、複雑な制御方式を採用する必要が
なくなるうえ、直流電源の構成部品点数が減少し、装置
のコスト低減、信頼性向上が実現できる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図につも)で説明する。第
1図は本発明の一実施例による蒸着装置を示し、図にお
いて、1はるつぼ、2は金属、3は小孔、4は金属蒸気
、5はるつぼ加熱フィラメント、42は該るつぼ加熱フ
ィラメント5用直流電源、8はグリッド電極、9はイオ
ン化電子放出フィラメント、10は電源、41は上記イ
オン化電子放出フィラメント9用直流電源、12は加速
電極、13は基板、14は蒸着膜、40は上記加速電極
12用直流電源、16は真空容器、20.21は電子流
、30〜37はブッシングである。
また、第2図は第1図における直流電源40〜42の具
体的な回路構成の一実施例を示し、図において、43は
電源、44はトランス、45は整流回路、46は直流リ
アクトル、47はコンデンサ、49はダイオード、50
はスイッチ、52はスイッチ開閉制御回路である。
次に動作について説明する。第1図において、電源6で
加熱されたるつぼ加熱フィラメント5から直流電源42
により電子流20が発生し、るつぼ1に衝突してるつぼ
1を加熱する。そして、るつぼ1内の金属2が加熱され
蒸発し、金属蒸気4となって小孔3より噴出する。イオ
ン化電子放出フィラメント9は電源10で加熱され直流
電源41によりイオン化電子放出フィラメント9からグ
リッド8に向かって電子流21が発生する。この電子流
21はグリッド8を通り抜けて金属蒸気4に衝突し金属
蒸気4をイオン化する。イオン化された金属蒸気は加速
電極12と直流電源4oとにより加速されて基板13に
衝突し、蒸着膜14を形成する。
なお、金属蒸気4の発生速度はるつぼ加熱フィラメント
5に流れる電流と直流電源42の平均電圧とを変化させ
て調整され、金属蒸気4のイオン化量はイオン化電子放
出フィラメント9に流れる電流と直流電源41の平均電
圧とを変化させることにより調整される。また金属蒸気
4の蒸着強度は直流電源40の平均電圧によりイオン化
された金属蒸気の速度を変化させて調整される。これら
直流電源40〜42の回路構成は第2図に示すようにな
っており、スイッチ50とスイッチ開閉制御回路52と
により電源43を開閉することにより、直流電圧の平均
値を調整する。
このような本実施例装置においては、直流電源にスイッ
チ開閉制御回路を設けたので、金属蒸気の発生量、イオ
ン化量及び蒸着される薄膜の付着力を複雑な制御回路や
その制御方式がなくとも調節できる。従って電源の部品
点数が減少して電源回路を簡素化でき、装置が安価とな
り、その信頼性も向上する。
なお、上記実施例では、直流電源40,41゜42の開
閉制御手段にスイッチを用いているが、これはサイリス
クやトランジスタ等の半導体、あるいは真空管を用いて
も良い。
また、上記実施例ではスイッチはトランス44の1次側
のみに設けたものを示したが、これは1次側だけでな(
2次側に接続してもよい。
〔発明の効果〕
以上の様に、この発明によれば蒸着装置の各種直流電圧
源をスイッチにより開閉制御するようにしたので、装置
の構造が簡単になり、制御方式か簡単になり、さらには
、信頼性の向上、コスト低減の効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例によるつぼ装置を示す図、
第2図は実施例装置の直流電源の回路構成を示す図、第
3図は従来の蒸着装置を示す図、第4図は従来の装置の
直流電源回路の回路図である。 1・・・るつぼ、2・・・金属、3・・・小孔、4・・
・金属蒸気、5.9・・・フィラメント、6.10・・
・電源、8・・・グリッド電極、12・・・加速電極、
13・・・基板、14・・・蒸着膜、16・・・真空容
器、20.21・・・電子流、30〜37・・・ブッシ
ング、40〜42・・・直流電源、43・・・電源、4
4・・・トランス、45・・・整流回路、46・・・リ
アクトル・・・47・・・コンデンサ、49・・・ダイ
オード、50・・・スイッチ、52・・・スイッチ開閉
制御回路。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所定の真空度に保持された真空層と、該真空槽内
    に設けられ基板に蒸着すべき物質の蒸気を上記真空槽内
    に噴出して該蒸気中の多数の原子が緩く結合したクラス
    タを発生するるつぼと、該るつぼを加熱するるつぼ加熱
    フィラメントと、上記るつぼからのクラスタに電子を照
    射して該クラスタをイオン化させるイオン化電子放出フ
    ィラメントと、 上記イオン化されたクラスタイオンを加速しこれを基板
    に衝突させて薄膜を蒸着させる加速電極とを備え、真空
    中で金属蒸気をイオン化して加速し、基板に蒸着させる
    蒸着装置において、 上記るつぼ加熱フィラメント、イオン化電子放出フィラ
    メント、及び加速電極の各々に電力を供給する直流電圧
    源を各々開閉制御する開閉制御手段を備えたことを特徴
    とする蒸着装置。
JP16638885A 1985-07-26 1985-07-26 蒸着装置 Pending JPS6226809A (ja)

Priority Applications (1)

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JP16638885A JPS6226809A (ja) 1985-07-26 1985-07-26 蒸着装置

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JP16638885A JPS6226809A (ja) 1985-07-26 1985-07-26 蒸着装置

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JPS6226809A true JPS6226809A (ja) 1987-02-04

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ID=15830492

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JP16638885A Pending JPS6226809A (ja) 1985-07-26 1985-07-26 蒸着装置

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JP (1) JPS6226809A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4982696A (en) * 1988-01-08 1991-01-08 Ricoh Company, Ltd. Apparatus for forming thin film

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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