JPS62267947A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPS62267947A JPS62267947A JP11076286A JP11076286A JPS62267947A JP S62267947 A JPS62267947 A JP S62267947A JP 11076286 A JP11076286 A JP 11076286A JP 11076286 A JP11076286 A JP 11076286A JP S62267947 A JPS62267947 A JP S62267947A
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- Pending
Links
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザ光を用いて情報の記録・再生・消去を行
う光磁気記録に係り、特に高寿命に好適な光磁気ディス
クに関する。
う光磁気記録に係り、特に高寿命に好適な光磁気ディス
クに関する。
光磁気記録においては、膜面に垂直な方向に磁化容易軸
のある磁性薄膜(垂直磁化膜)が用いられ、最近特に実
用化記録膜として、例えば特開昭58−73746号公
報に示されるように、希土類−鉄族系非晶質膜が有望視
されている。しかし、これらの膜付酸化しやすい希土類
元素を含むため、耐食性・耐酸化性が悪く寿命が短い欠
点を有している。そこで記録膜の高寿命化を図る方法と
して酸化物・窒化物等の無機物誘電体膜(例えば特開昭
57−66549 、特開昭58−45488)や金属
膜(例えば特開昭57−76920 、特開昭57−8
0676)を記録膜上に被着することにより、保護膜と
して耐食性、耐酸化性を向上させている。
のある磁性薄膜(垂直磁化膜)が用いられ、最近特に実
用化記録膜として、例えば特開昭58−73746号公
報に示されるように、希土類−鉄族系非晶質膜が有望視
されている。しかし、これらの膜付酸化しやすい希土類
元素を含むため、耐食性・耐酸化性が悪く寿命が短い欠
点を有している。そこで記録膜の高寿命化を図る方法と
して酸化物・窒化物等の無機物誘電体膜(例えば特開昭
57−66549 、特開昭58−45488)や金属
膜(例えば特開昭57−76920 、特開昭57−8
0676)を記録膜上に被着することにより、保護膜と
して耐食性、耐酸化性を向上させている。
しかし無機物誘電体膜はピンホールが比較的多く、また
従来提案されているAn、Ti、ステンレス等の金属膜
でも、腐食・酸化が起ることから、寿命向上の点ではま
だ不十分であった。
従来提案されているAn、Ti、ステンレス等の金属膜
でも、腐食・酸化が起ることから、寿命向上の点ではま
だ不十分であった。
本発明の目的は耐食性、耐酸化性が優れた高寿命の光磁
気記録媒体を提供することにある。
気記録媒体を提供することにある。
本発明は高耐食性の非晶質合金を記録膜の保護膜として
用いるものである。
用いるものである。
高耐食性非晶質膜としては、(1)B、C。
Si、Pをガラス化元素とし、Fa、Ni、G。
等の遷移金属元素との組合せからなる金属−非金属系非
晶質合金にTi、Zr、V、Nb、Ta。
晶質合金にTi、Zr、V、Nb、Ta。
Cr、Mo、W、Cu若しくは白金元素を添加元素とし
て含む合金系を用いたもの、(2)金属のガラス化元素
であるZ r 、T ig )(f + N b +T
a等とFe、Ni、Co等の遷移金属元素との組合せか
らなる金属−金属系非晶質合金にV。
て含む合金系を用いたもの、(2)金属のガラス化元素
であるZ r 、T ig )(f + N b +T
a等とFe、Ni、Co等の遷移金属元素との組合せか
らなる金属−金属系非晶質合金にV。
Cr、Mo、W、Cuまたは白金属元素を添加元素とし
て含むもの1等がある。中でも特に金属−非金属系では
Cr、Pを共に含む非晶質合金はステンレス鋼よりもは
るかに優れた高耐食性を示す。
て含むもの1等がある。中でも特に金属−非金属系では
Cr、Pを共に含む非晶質合金はステンレス鋼よりもは
るかに優れた高耐食性を示す。
(作用)
これらは、従来、超急冷非晶質U帯として(厚さ10〜
200μm)得られていたが、本発明者等は、これらの
非晶質合金をスパッタ法、蒸着法で薄膜化することによ
っても同様の効果が得られることを確認した。これらの
膜を希土類−鉄族系非晶質膜の光磁気記録膜上に形成し
て保護膜として用いることにより、著しく記録膜の酸化
・腐食を防ぎ、膜特性劣化を抑止し、より高寿命の光磁
気記録媒体が得られる。
200μm)得られていたが、本発明者等は、これらの
非晶質合金をスパッタ法、蒸着法で薄膜化することによ
っても同様の効果が得られることを確認した。これらの
膜を希土類−鉄族系非晶質膜の光磁気記録膜上に形成し
て保護膜として用いることにより、著しく記録膜の酸化
・腐食を防ぎ、膜特性劣化を抑止し、より高寿命の光磁
気記録媒体が得られる。
以下1本発明の一実施例について説明する。
ガラス基板上に記録膜である非晶質垂直磁化膜を形成し
、この記録膜上に種々の保護膜を形成した。即ち1本発
明の保護膜の一例として高耐食性非晶質膜Fe7acr
toP rzacaを用い、その比較例の保護膜として
5in(あるいは5iOz)。
、この記録膜上に種々の保護膜を形成した。即ち1本発
明の保護膜の一例として高耐食性非晶質膜Fe7acr
toP rzacaを用い、その比較例の保護膜として
5in(あるいは5iOz)。
T3.、AQを用い、それぞれマグネトロンスパッタ法
で記録膜であるT bzzF etsCO?膜(厚さ1
000人)、保護膜(厚さ500人)の順に被着して、
記録媒体を作成した。第1表にこれらを80℃相対湿度
95%の条件下で1日放置した後のカー回転角θにと保
磁力Haの変化率(%)を示す。
で記録膜であるT bzzF etsCO?膜(厚さ1
000人)、保護膜(厚さ500人)の順に被着して、
記録媒体を作成した。第1表にこれらを80℃相対湿度
95%の条件下で1日放置した後のカー回転角θにと保
磁力Haの変化率(%)を示す。
表中へ〇に、ΔHcはそれぞれカー回転角、保磁力の変
化量を、0K(0)、H(1! (Q)はそれぞれカー
回転角、保磁力の初期値を示す、第1表から明らかなよ
うに本発明の高耐食性非晶質膜の保護膜を用いた媒体は
特性劣化がより小さく、他の保護膜よりも記録膜の保護
効果がより優れていることがわかる。
化量を、0K(0)、H(1! (Q)はそれぞれカー
回転角、保磁力の初期値を示す、第1表から明らかなよ
うに本発明の高耐食性非晶質膜の保護膜を用いた媒体は
特性劣化がより小さく、他の保護膜よりも記録膜の保護
効果がより優れていることがわかる。
第 1 表
第1図は(a)〜(h)本発明の高耐食性非晶質膜を用
いた各種多層膜ディスクの断面図を示すものである。基
板(1)にはガラス、PMMA、エポキシ樹脂あるいは
ポリカーボネイトを用いた。
いた各種多層膜ディスクの断面図を示すものである。基
板(1)にはガラス、PMMA、エポキシ樹脂あるいは
ポリカーボネイトを用いた。
SiO膜(2) (厚さ700〜1000人)。
TbzeFeezCotz膜(3) (厚さ1000人
)、高耐食性非晶質膜Coフoc rxoPzo、膜(
4)(厚さ50〜1000人)はそれぞれマグネトロン
スパッタ法で被潰し、光磁気記録媒体を作製した。第1
図(a)、(b)、(e)〜(h)において、基板(1
)と記録膜(:3)との間に形成する高耐食性非晶質膜
(4)の厚さは光が通過出来る50〜200人の厚さに
した。
)、高耐食性非晶質膜Coフoc rxoPzo、膜(
4)(厚さ50〜1000人)はそれぞれマグネトロン
スパッタ法で被潰し、光磁気記録媒体を作製した。第1
図(a)、(b)、(e)〜(h)において、基板(1
)と記録膜(:3)との間に形成する高耐食性非晶質膜
(4)の厚さは光が通過出来る50〜200人の厚さに
した。
第1図には、高耐性非晶質膜(4)を希土類−鉄族系非
晶質垂直磁化膜(3)のいずれか一方の側に設けた場合
と、両側に設けた場合を示した。
晶質垂直磁化膜(3)のいずれか一方の側に設けた場合
と、両側に設けた場合を示した。
いずれか一方の側に高耐食性非晶質膜(4)を設ける場
合、(a)、(d)に示すようにSiO膜を介在させて
形成してもよいし、(b)、(c)に示すように記録膜
上に直接形成しても良い1両側に高耐食性非晶質膜を設
ける場合においても、両側の高耐食性非晶質膜をそれぞ
れ記録膜上に直接形成したり(e)、また両側をそれぞ
れS i O膜を介在させて形成したり(h)、一方を
記録膜上に直接形成し他方をSiO膜を介在させて形成
する等種々の多層構造をとり得る。
合、(a)、(d)に示すようにSiO膜を介在させて
形成してもよいし、(b)、(c)に示すように記録膜
上に直接形成しても良い1両側に高耐食性非晶質膜を設
ける場合においても、両側の高耐食性非晶質膜をそれぞ
れ記録膜上に直接形成したり(e)、また両側をそれぞ
れS i O膜を介在させて形成したり(h)、一方を
記録膜上に直接形成し他方をSiO膜を介在させて形成
する等種々の多層構造をとり得る。
高耐食性非晶質膜の例としては上述のCoCrP膜のイ
也、N 17oc rzoPxsB+s+ N 1eo
c rzoPzo+T i soCuaISPay T
i aaN i atP3tCoesc rxaZ
rzo、 CoesN bzoZ r16+FssoB
1sSi1oCria等でも同様の効果を奏することが
できた。
也、N 17oc rzoPxsB+s+ N 1eo
c rzoPzo+T i soCuaISPay T
i aaN i atP3tCoesc rxaZ
rzo、 CoesN bzoZ r16+FssoB
1sSi1oCria等でも同様の効果を奏することが
できた。
以上の説明から明らかなように、本発明の高酎食性非晶
質膜を保護膜に用いた光磁気記録媒体は、特性劣化が少
なく、高耐食性、高耐酸化性を示し、ディスク寿命を著
しく改善することがわかった。
質膜を保護膜に用いた光磁気記録媒体は、特性劣化が少
なく、高耐食性、高耐酸化性を示し、ディスク寿命を著
しく改善することがわかった。
第1図は高耐食性非晶質膜を保護膜として用いた各種多
層膜ディスクの構成断面図を示すm図である。 1・・・基板、2−5i0,3”・TbzeFeszC
ozz、4=Co7oCrtoP2o*
層膜ディスクの構成断面図を示すm図である。 1・・・基板、2−5i0,3”・TbzeFeszC
ozz、4=Co7oCrtoP2o*
Claims (1)
- 1、光磁気記録膜と保護膜および/もしくは干渉膜と基
板とからなる光磁気ディスクにおいて、上記保護膜の一
部もしくは全部に高耐食性非晶質膜を用いたことを特徴
とする光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11076286A JPS62267947A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11076286A JPS62267947A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62267947A true JPS62267947A (ja) | 1987-11-20 |
Family
ID=14543924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11076286A Pending JPS62267947A (ja) | 1986-05-16 | 1986-05-16 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62267947A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5492773A (en) * | 1988-09-13 | 1996-02-20 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
-
1986
- 1986-05-16 JP JP11076286A patent/JPS62267947A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5492773A (en) * | 1988-09-13 | 1996-02-20 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
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