JPS62252032A - フエ−スパネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明はフェースパネルの製造方法に関する。

（従来の技術） 一般にカラー受像管においてはフェースパネル内面に形
成された蛍光体層を被うようにメタルバック層が形成さ
れている。このメタルバック層は蛍光体の発光を効率良
くフェースパネル外面に放出するため、光反射性に優れ
ていることが要求され、通常人Ｑ等の金属を蒸着、スパ
ッタリングすることにより形成される。

また画像映出時に走査される電子ビームは大半がシャド
ウマスクに照射され、シャドウマスクが加熱され色ずれ
等の原因となるため、このシャドウマスクの熱を吸収し
、シャドウマスクの温度上昇を抑えることを目的として
、前記メタルバック層上にＦθ、Ｎｉの酸化物、黒鉛等
の黒色の熱吸収層が形成される（特開昭５３−８５１５
３号公報、特開昭５１−５３４５４号公報等）。

しかしながら従来法ではメタルバック層と熱吸収層を別
々に形成するため、製造工程が複雑となる等の問題点が
あった。

このような問題に対し、１０′″４〜１０−”　Ｔｏｒ
ｒで３〜１０　ｖｏＱ％の窒素を含有する雰囲気でＡ４
ターゲットを用いスパッタリングすることにより、蛍光
体側の面は光反射性金属面であり、反対側、すなわちシ
ャドウマスクに対向する側の面は黒色の膜を形成するこ
とが提案されている（特開昭６０−１０５８３７号公報
）、　このような方法によれば、メタルバック層と熱吸
収層とを同時に形成できるため、製造工程は簡略化され
る。

（発明が解決しようとする問題点） 特開昭６０−１９５８３７号公報に記載された方法は。

メタルバック層及び熱吸収層とを同時に一工程で形成で
きるため有力な方法であるが、形成された膜の光反射特
性及び熱吸収特性が十分ではないという問題点があった
０本発明はこの問題を解決するためになされたものであ
る。

〔発明の構成〕

（問題点を解決するための手段及び作用）本発明は、ス
パッタリング時に窒素を供給する雰囲気下で、金属成分
としてＡｌを主体とするターゲットを用いて、高周波マ
グネトロンスパッタリングを行なうことにより、メタル
バック層を形成することを特徴とするフェースパネルの
製造方法である。本発明によれば、けい光面側が光反射
特性に優れ、シャドウマスク側が真黒色で、熱吸収特性
、導電性、膜の物理・化学的安定性、熱伝導性に優れた
メタルバック層を得ることができる。

以下に本発明方法を詳細に説明する。

カラー受像管のフェースパネル内面には一般的な手法に
より、けい光体層が形成されている。このけい光体層は
、けい光体の保護、メタルバック層形成面の平滑性を目
的とし必要に応じフィルム膜で被覆される。このけい光
体層上に、フィルム膜がある場合はフィルム膜上にメタ
ルバック層を形成する。

メタルバック層の形成時にはチャンバー内を一旦１０−
”Ｐａ以下程度に真空排気を行なった後、ガスを導入し
０．０２〜１０ＰＱ程度のスパッタリング雰囲気とし、
高周波マグネトロンスパッタリングを行なう６メタルバ
ツク層のフェイスパネル側の色は。

以りでは透明になり、アンチドーミング性を持つメタル
バック層として好ましくない。

スパッタリング雰囲気は通常の希ガス（Ｈｅ　ＨＮｏ　
＋＾ｒ、Ｋｒ、Ｘｓ）の他に窒素を含めば良い。窒素の
含有形態としてはＮ２ガス、アンモニアガス等が挙げら
れ、Ｎ、Ｈ４，ＩＩＮ、などスパッタリング時に窒素を
分離発生する化合物気体でも良い、実用上はＮ、ガスと
希ガスの混合ガスを用いることが好ましい、このとき窒
素分圧は０．０１〜１．ＯＰａ、さらには０．０３〜０
．５Ｐａであることが好ましい、あまり窒素分圧がこの
範囲をはずれると黒色膜が得にくくなる。また必要に応
じ酸素、水素、二酸化炭素を１０″”Ｐａ程度まで混合
しても良い。

高周波マグネトロンスパッタリングの高周波出力は１０
０Ｗ以上とすることが好ましい。それ以下では生成する
プラズマの状態が不安定になり充分に均質な膜が出来な
い。

このスパッタリングは５００〜５０００人程度の膜が形
成される様に行なうことが好ましい、Ｓ厚が薄いと光反
射特性が充分ではなく、また黒化度が不足し、熱吸収性
が低い、また膜厚が厚いと電子ビームの透過度が低下し
てしまう。

また使用するターゲットとしては、アルミニウム、アル
ミニウム合金、窒化アルミニウム、酸窒化アルミニウム
等、メタル成分としてＡｇを主成分とするものであれば
良い。

このような本発明によればメタルバック層のけい光体層
側は光反射性に優れた金属光沢を有し。

反対側すなわちシャドウマスクに対向する面は熱吸収特
性に優れた黒色となる。従って工程が簡略化される。ま
た形成されたメタルバック層は熱吸収性に優れ、また熱
伝導性が高いため色ずれ防止に効果的である。

（実施例） 以下、実施例を挙げて本発明の方法を詳説する。

実施例１ 内面にけい光体層およびフィルム層が形成されたフェー
スパネルを油拡散ポンプを併用する真空ポンプに接続す
ることによって真空度１０’″’Ｐａに排気した。その
後フェースパネル内に分圧０　、０６Ｐａの窒素ガスと
分圧０　、４４Ｐａのアルゴンガスを導入して全圧を０
　、５Ｐａに保持しながらアルミニウム金属をターゲッ
トとして高周波出力１にＶで、５分間高周波マグネトロ
ンスパッタリングすることでフィルム層上に厚さが１５
００±２００人、外表面が黒色の皮膜を形成した。スパ
ッタリング中の全圧は約０．４５Ｐａであった。このよ
うにして製造されたフェースパネルからフィルム層と上
記黒色皮膜を剥離せしめたところ黒色皮膜のフィルムと
の接触面は約５００人の厚さの光反射性の金属光沢を有
する鏡面となっていた。すなわちフィルム層上に形成さ
れた皮膜はフィルム層側の面は光反射性金属膜状であり
、反対側の表面は黒色を呈する２面性膜となっていた。

この膜の導電率は８．８　Ｘ　１０’Ω−１３−１で。

また、熱伝導度は２００Ｗ　ｍ　−’　Ｋ−’であった
。さらに５ｋｍ−１における反射率は２％であった。従
って電子ビーム照射による蛍光面のチャージアップを防
止し、またけい光体の効率を高め、かつシャドウマスク
の熱膨張を有効に防止できる。

実施例２ 内面にけい光体層およびフィルム層が形成されたフェー
スパネルを油拡散ポンプを併用する真空ポンプに接続し
て真空度１０−”Ｐａに排気した。その後フェースパネ
ル内に分圧０．ｌＰａの窒素ガスと分圧０．７Ｐａのア
ルゴンガス導入一定に保持した。スパッタリング中の全
圧は約０，７Ｐａであった。アルミニウム金属をターゲ
ットとして高周波出力３ＫＶで高周波マグネトロンスパ
ッタリングを３分間行ないフィルム層上に厚さ２４００
±２００人、外表面が黒色の皮膜を形成した。

このようにして製造されたフェースパネルからフィルム
層と上記黒色皮膜を剥離せしめたところ、フィルム層上
に形成された皮膜はフィルム側の面が約６００人の光反
射性金属光沢の鏡面膜となりその上に約１８００人の黒
色膜ができ反対側の表面は黒色を呈する面性膜であった
。この膜の導電率は８．５Ｘ１０″Ω−’（１ｍ−’、
熱低伝導度２１０Ｗｍ−’に−１で５ｋｍ−Ｌにおける
反射率は０．５％であった。

実施例３−２５ 実施例１と同様の方法で光反射性金属光沢膜と黒色の熱
吸収性膜を形成した側を第１表に示した。

これらの実施例により形成された膜の性質を第２表に示
した。

（以下余白） 以上の結果から分圧０．０１〜１．ＯＰａの窒素ガスも
しくはアンモニアガスと分圧０．０１〜９．９０Ｐａの
アルゴンガス等の希ガスとの混合気体が本発明の方法で
用いる気体として好適であり、ターゲットの種類その他
の条件によりこれに酸素、水素、二酸化炭素を分圧１０
−４〜１０−’Ｐａ加えることも有効である。

〔発明の効果〕

以上のように本発明のフェースパネルの製造方法は、従
来の方法に比べて簡便かつ迅速にフェースパネルをｍ造
でき生産性が高いこと、形成された熱吸収性物質膜の熱
吸収性、熱伝導性が非常に良好でカラーブラウン管画面
の色ずれ防止に有効である。

【図面の簡単な説明】

図面はカラー受像管の一例を示す要部断面概略図である
。 １・・・フェースパネル、２・・・蛍光体層、３・・・
シャドウマスク、４・・・電子銃、５・・・電子ビーム
、６・・・フィルム層、７・・・光反射性金属膜、８・
・・熱吸収性物質膜。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. （１）スパッタリング時に窒素を供給する雰囲気下で、
   金属成分としてＡｌを主体とするターゲットを用いて、
   高周波マグネトロンスパッタリングを行なうことにより
   、メタルバック層を形成することを特徴とするフェース
   パネルの製造方法。
2. （２）前記スパッタリングの高周波出力が１００Ｗ以上
   であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフ
   ェースパネルの製造方法。
3. （３）前記雰囲気は全圧が０．０２〜１０Ｐａであるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフェースパ
   ネルの製造方法。
4. （４）前記雰囲気は窒素分圧が０．０１〜１．０Ｐａで
   あることを特徴とする特許請求の第１項記載のフェース
   パネルの製造方法。
5. （５）前記雰囲気は窒素分圧が０．０３〜０．５Ｐａで
   あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のフェ
   ースパネルの製造方法。