JPS62250653A - ウエフア位置づけ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、カセット内のウェファの位置を自動的に測定
し、この・測定値に基づきウェファ処理装置を制御する
ための装置に関する。

〔背景技術〕

半導体ウェファ処理装置がより自動化されるにつれて、
ある装置から他の装置へとウェファを移動させるために
カセットが用いられてきた。カセットは、ウェファに損
傷を与えないようにソフトプラスチックで作られる。

しかしながら、そのようなカセットは、使用中に歪んだ
り変形したりして、寸法安定性が悪い、ときにはウェフ
ァが割れたり、あるいはウェファ群から抜は落ちたりし
て、カセット内に空白スペースを生じる事があった。こ
のような場合には、貴重な処理時間を浪費してしまう事
になる。

〔発明の目的〕

本発明の一目的は、種々のカセット内の個々のウェファ
の正確な位置を考慮するウェファ位置づけ装置を提供す
ることである。

本発明の他の目的は、カセットからウェファが抜けた事
を考慮するウェファ位置づけ装置を提供することである
。

〔発明の概要〕

上述のおよび他の目的および利点は、以下の説明から明
らかとなろう０本発明に従い、概要を述べる。入力ロー
ドロックおよび出力ロードロックに、エレベータおよび
光学センサーが備えられる。光学センサーは、コンピュ
ータに接続される。コンピュータが動作して、各ウェフ
ァの存在および位置ならびに空白カセットスロットの存
在および位置が測定され、該コンピュータ内に記憶され
る。コンピュータが空白（ブランク）スロットをスキッ
プして、マニピュレータ装置を移動させ、測定位置にお
けるウェファを探し出す、あるいは、ウェファを空のス
ロットの位置へと移動させる。

本発明のこれらのおよび他の構造上および動作上の特徴
は、図面を参照した以下の説明によって、より明らかと
なろう、好適実施例および変形例は、本発明を塵室する
ものではない。

〔好適実施例〕

図面を参照すると、様々な図の全てに部品を示すために
参照番号が使用されており、第１図には本発明に従った
ウェーハ処理装置の部分断面正面図が示されている。投
入ロードロック１０がウェーハのカセットを積み込むた
めに使用されている０分離バルブ１２がウェーハの通路
内で第１加エチエンバ１４の前に設置されている。第２
分離バルブ１６がウェーハの通路内で第２加エチエンバ
１８の前に設置されている。第３分離バルブ２０は第２
加エチエンバ１８と取出しロードロック２２どの間に設
置されている。キーボードとタッチスクリーンで制御す
るコンピュータ２４が装置の動作を制御するために使用
されている６分離真空ボンピング接続２６．２８．３０
．３２．３４．３６及び３８がロードロック１２．２２
、バルブ１２．１６．２０及び加工チェンバ１４．１８
の各々になされている。各ボンピング接続はコンピュー
タ２４によって制御される。この例では加工ステージョ
ンが２つだけ示されているが、どんな数の加工ステージ
ョン及び分離バルブも連続して使用できる。

第２図は第１図の装置を線２−２で切断した部分断面を
示し、第３図は同じ装置を線３−３で切断した部分断面
を示す、第２図において、ウェーハ取扱いアーム４０．
４２．４４が特定位置で実線によって示されている。ウ
ェーハ取扱いアーム４０が点ｍ４６で示され、カセッ）
５０からウェーハ４８をつかんでいる。ウェーハ取扱い
アーム４０は点線５２で示されるところでウェーハ４８
を加工チェンバ１４内にユいている。同様に、点線５４
で示されたウェーハ取扱いアームは第１加エチエンバ内
でウェーハを取り、点１！１１５６で示されたところで
は第２加エチエンバ１８内にウェーハを置いている。ウ
ェーハ取扱いアーム４４は点線５８で示されたところで
第２加エチエンバ１８からウェーハを収り、点線６０で
示されたところでウェーハを取出しカセット６２内に置
く。

第３図において、ウェーハ取扱いアーム４０．４４はバ
ルブ１２．２０内で近くにバルブウェッジ（＋ｗｃｄｇ
ｅ）が設置された特定位置に示されている。バルブ１６
内のウェーハ取扱いアームは第１加エチエンバ１４内で
実線６８で示されており、第２加エチエンバ１８内で点
線５６によって示されている。バルブ１６のバルブウェ
ッジ６９は開いた位置に示されており、取扱いアームが
バルブシート内の開孔フ１を通ってどちらの方向にも動
くことができることを示している。

前記のバルブ及びウェーハ取扱いアームの各々の細部が
第４−９図に示されている。その装置は第４図に側面図
で示されている＠密閑Ｏ−リング７２を備えるプレート
７０は、バルブ及びウェーハ取扱いアームを装置内に密
関するために使用される。第２図に示されるように、プ
レートフ０は装置の主フレームとの取付は部に配置され
る。第４−６図は、バルブウェッジ７４とその動作機構
及びウェーハ取扱いアーム８４とその動作ｌ１ＩＩＩｌ
は全て統一構造を形成するためにプレー）７０に取り付
けられている。第８図には、バルブとウェーハアームユ
ニットを装置の主フレームに取り付けるためのボルト（
図示せず）を受けるためのスロット７１及びアパーチャ
ア３が備わったプレート７０を示している。この構造は
装置のほかの如何なる部分も取り除くことなく、単一ユ
ニットとしてバルブとウェーハアームを迅速に取り除き
、交換することを可能にしている。

バルブウェッジ７４は両側にバルブシート８０（第３図
参照）に密閉するための０−リングフロ、７８を有する
。リイアーアクチュエータ（１ｉｎｅａｒ　ａｃｔｕａ
ｔｏｒ）　８２は空気、液体又は電気で駆動されてよく
、バルブウェッジ７４を上方へシートの中に動かすため
に使用される。

この上方ｌ＼の運動は、最上の閉じた位置の点線に示さ
れたバルブウェッジフ４とともに第５図に示されている
。

ウェーハ取扱いアーム８４は、バルブウェッジ７４が最
高点の閉じた位置にあるか、又は最下点の開いた位置に
あるか否かによらず、装置内で同じ高さにある。バルブ
ウェッジ７４はそれが回転して通り、また、バルブ内で
アーム８４を密閉することが可能なように保管ノツチ８
８を有する。

ウェーハ取扱いアーム８４には２つの回転アクチュエー
タ９０．９２が備えられており、該アクチュエータは歯
付きベルト９８．１００及び歯付きプーリ１０２．１０
４．１０５．１０６によって同心シャフト９４．９６を
駆動する。同心シャフト９４．９６はシャフトボルダ−
１０７内に取り付けられており、その頭部と底部がロー
ラベアリング１０８．１１０．１１２で支持されている
。シャフトに良好な回転真空シールを与えるために、二
組の０−リング１１４．１１６．１１８．１２０が各シ
ャフトのまわりに設けられている。穴１２２が外シヤフ
ト９６を貫通して設けられており、内シヤフト９４の満
１２４と通じている。外シヤフト９６の溝１２６は各シ
ャフト上のＯ−リングシールの各組の間に別の真空ボン
ピング及び加圧をするために穴１２２及びポンプ排気口
１２８と通じている。バルブウェッジ７４とプレート７
０との間にはベローズシール１３０が設けられている。

取扱いアーム８４は４つの小さな部品からできている。

基部支持部品１３２は第１端部で直角に外シヤフト９６
にしっかりと取り付けられている。末端支持部品１３４
はその一端が基部支持部品１３２の他の端部に旋回可能
に取り付けられている。基部エクステンサ（ｅｘＬｅｎ
ｓｏｒ　）部品１３６が第１端部で直角にしっかりと内
シヤフト９４に取り付けられている。末端エクステンサ
部品１３８は、その一端が、基部エクステンサ部品１３
６の第２端部に旋回可能に取り付けられている。末端エ
クステンサ部品１３８は末端支持部品１３４の第２端部
で旋回可能に取り付けられている。末端支持部品１３４
上にある基部支持部品１３２と末端エクステンサ部品１
３８との取り付は点は、その間隔が基部エクステンサ部
品１３６の大きさだけ離れている。基部エクステンサ部
品１３６は基部支持部品１３２よりもずっと短くできる
。基部支持部品に対して基部エクステンサ部品１３６が
小さくなればなるほど、たたまれた位置にあるときのア
ームは小さくなる。アームの４つの部品は取り付は点と
シャフト軸との間に平行四辺形を形成する。もし４つの
アーム部品の全てがブレードのように形成されるならば
、旋回止め具はゆるく固定されたりベットでよい、外シ
ヤフト９６が回転させられると、全アームが回転する。

内シヤフト９４が外シヤフトに関して回転させられると
、アームが伸び又、折りたたまれる。

このように記載したアームは、独立に同心シャフトを回
転することによってウェーハを保持する先端部がどのよ
うに複雑な曲線でも動くように動かされ得る。アームを
保管するために必要とされる小さなスペースはアームが
分離バルブハウジング内に保管されることを可能にする
。バルブのハウジングは前もって示されたような分離ユ
ニット又は加工チェンバの不可欠な部分として形成され
得る。前記のようにアームのための駆動手段を取り１寸
け、作ることは、駆動パーツが１つのユニットとして迅
速に取りはずされ、また交換されることを可能にし、そ
れによって稼働休止時間が最小にされる。

バルブは加工チェンバに使用されるものと同じボンピン
グ装置によって同時に、又は交換バルブによってボンピ
ング機構をタイムシェアリングでポンプされてもよい、
もし同時ボンピングが必要であるならば、加工チェンバ
からポンプされる化学活性処理ガスはバルブハウジング
中に逆流する。これはバルブハウジング中への不活性ガ
スの小さな流れをｔ、＋ｉ持して連続的にハウジング及
びボンブラインを流すことで防げる。この流れは５　ｃ
ｃ／分はどの小さなものでよい。

第１図及び第１０図において、本発明に従ったロードロ
ック及びエレベータａｉｍが示されている。ロードロッ
クドアー１５０は一組のロッド１５２に取り付けられて
おり、そのロッドはロードロックチェンバ１５Ｂの外側
に設置されたベアリング１５４上に乗っている。カセッ
ト６２はテーブル１５８上に乗っており、テーブルはカ
セット６２をただ一個所に置くために固定されている。

マイクロスイッチ１６０又は別の同等のセンサーがカセ
ットが適切に置かれているとき、それを検知するのに使
用される。

装置を制御するコンピュータはカセット６２が適切に置
かれるまでロードロックドアー１５０を開いたままで保
持するようにプログラムされている。テーブル１５８は
シャフト１６２上に乗っており、そのシャフトはバー１
６４内で終っている。バー１６４はモータ１６８及びプ
ーリ１７０によりスクリュー１６６によってＨｒＥｒさ
れる。

ガイドロッド１７２とベアリング１７４はエレベータを
安定させるのに使用される。シャフト１６２のまわりに
真空密閉をつくるためにベローズ１７６はチェンバ１５
６をバー１６４に密閉する。

第１．１０及び１１図に示されているように、ドアー１
５０の後ろに０−リング１７８が設置され、ドアが押し
閑じられるときチェンバ１５６の表面と密１７】する、
ロードロックの主要なロッキング機４１ａは、チェンバ
１５６がボンピングボー１−１８０から排気されたとき
にドアー１５０上にかかる大気の圧力である。０−リン
グ１７８を押し付け、ドアー１５０を閉じたまま保持す
るのに十分なほどチェンバ１５６内の圧力が下がるまで
ドアー１５０を保持することを助けるために、真空又は
ソフトラッチが設けられている。

ソフトラッチは第１１図に示されているようにチェンバ
１５６の壁中でＯ−リング１７８の外側に取り付けられ
た、好適にはネオプレンフオームの４つのＯ−リングシ
ール１８２から成る。

これらＯ−リングシールはＯ−リング１フ８と密着して
ドアーを保持するのに十分な力を与えるのに適した形状
と大きさに作ってもよい。

ネオプレンフオームＯ−リングはオープンセル又はクロ
ーズドセル型にしてもよいが、柔軟クローズドセル型ネ
オプレン○−リングは特に良い機ｆＦを果たす、第１１
図は１つの例のドアーの背面の図であり、０−リングシ
ール１８２が合わさる位置が点線で示されている（シー
ル１８２はチェンバの表面上にあるからである）、Ｏ−
リングシール１８２はドアー上にも置けるが、ボンビン
グチャネ１１をチェンバを介して動かした方がより便利
である。各シール１８２は、もしそれらが図示したよう
にチェンバ上にあるならば、ドアー１５０の後ろ側のス
ムーズな表面と密閉する。もしシールがドアー側にあれ
ば、スムーズな表面はチェンバ側にある。各シール１８
２の中心には第１Ｚ図に示されているようにチャネル１
８６を通ってバルブ及びボンピング装置に通じる穴１８
４がおいている。マイクロスイッチ検知器１８８はドア
ー１５０が閉じるのを検知する。大気中へ通じるバルブ
１８８は閉じられ、ボンピング装置に通じるバルブ１９
０は引き続き開けられている。

シール１８２のもとての真空排気はドアー１５０を閉じ
た状態で保持する。もし、チェンバ１５６がチェンバの
排気以前に手で開くことができるならば、ハンドル１９
４上のスイッチ１９２は連続してボンピング装置に通じ
るバルブ１９０を閉じ、外気に通じるバルブ１８日を開
くために使用される１次にシール１８２はドアーを解放
する。一度チェンバ１５６でボンピングが開始されると
、ソフトラッチはコンピュータ２４によって自動的に解
放される。このようにソフトラッチを主０−リングシー
ル１７８の外側に置くのが有利である。ソフトラッチン
グのこの装置はカセットの自動取扱いに特に有利である
。

ドアーの大きさ及び取付は装置の嵌合の密閉具合とに依
存して、２乃至４つ或いはそれ以上のソフトラッチが必
要となろう、十分に嵌合したヒンジをもつ小さなドアー
については、十分な大きさの単一のソフトラッチが適切
である。第１３図には一つの実施例が示されており、ヒ
ンジ１９７に取り付けられ、一つだけＯ−リング１９８
を有するドアー１９６がソフトラッチとしてｌａ（ｍす
るチェンバ上に収り付けられた単一シール１９８を有す
る。ソフトラッチがドアーと接触する点が点線で示され
ている。

カセットは摩滅したり、そうでなければ変形したりする
ので、エレベータ機構に相対するウェーハの位置は既知
のカセットの形状からは決定できない、ウェーハは前の
加工工程中にこわされ、又は除かれ、従ってカセットの
スロットから紛失することもあるかもしれない、これら
の問題を補うためにチェンバ内に光学又は赤外線発射器
１５６が同じ高さでチェンバの反対側にある光学又は赤
外線検知器２０２と向い合わせて設けられている。チェ
ンバ１５６が４１Ｆ気されるに従って、エレベータテー
ブル１５８が上に駆動され、次に下降される。各ウェー
ハが発射器２００からのビームを横切ると、ビームの遮
断が検知器２０２で感知される。

その遮断は制御コンピュータ及び結合したハードウェア
に記録される。エレベータは位置が速度と時間の積から
分かるように一定の既知の速度で駆動される１位置はエ
レベータテーブル１５８に関して測定される。このよう
にして、カセットの各スロットの位置及び各ウェーハつ
存在が確認される。制御コンピュータ２４は次にコンピ
ュータメモリー内の測定位置で各ウェーハを取り上げ、
カセットをウェーハのない所へ飛び越すようにプログラ
ムされる。　＋’＋ｔｌ記のウェーハ取扱いａｍとウェ
ーハ位置決定装置との組み合わせは、装置か投入カセッ
ト内のウェーハにランダムアクセスに動作し、出て行く
ウェーハを保管するカセット場所の任意選択を可能にす
る。

第１４−１６図には本発明に従って処理中のウェーハを
受は取り、中心づけ、保持するための装置を示す、ウェ
ーハは、ウェーハ取扱いアームを用いてチャックプラッ
トフォーム上で中心づけられる。リフトピン２１２が、
３本又はそれ以上で組合わさって、ウェーハの下で上昇
さぜられ、ウェーハを取扱いアームから持ち上げる０次
に、取扱いアームは、チェンバから引込められる１次に
、ウェーハは、第１５図で破線で第１６図で実線で示す
ように、ビンがのびた位置にあるリフトビン２１２の上
に残される。リフトビン２１２が上方にのびると同時に
、保持ビン２１４はウェーハから離れて斜め上方にのび
る。各保持ビン２１４は、保持ビンのシャフトの直径よ
り大きいヘッド拡張部２１６を有する。ヘッド拡張部２
１６は、小さい円盤、円、筒、又は他の物のように形成
してもよい、ヘッド拡張部２１６は、ウェーハのエツジ
を捕えるために十分に大きくて切り立った形状である。

リフトビン２１２がバネ２１３によって下方に引張られ
てウェーハをチャックプラットフォーム２１０の最上部
の上に配置するとき、保持ビン２１４はヘッド２１Ｂを
用いてウェーハのエツジを締め付ける。保持ピン２１４
は２本又はそれ以上であってよいが、保持ビン２１４が
多くなるとともにウェーハはよりしっかりとチャックに
保持される。静電容量センサ（ｃａｐａｃｉＬｎＬｉｖ
ｅ　５ｅｎｓｏｒ）　２１８が、ウェーハのチャック上
への設置を確認するために用いられる。

各保持ピン２１４が、ビンのためのガイドを形成するビ
ンホルダ２２０に固定される。各ビンホルダ乏２０は、
バネ２２２によって下方へ駆動される。リフトピン２１
２及び保持ピン２１４は、リフトテーブル２２４によっ
て共に駆動される。

リフトテーブル２２４は丸みをつけた上方縁を有し、ビ
ンホルダ２２０は丸みをつけた下方端を有して、リフト
テーブル２２４上でのビンホルダ２２０の円滑な滑動を
容易にする。リフトテーブル２２４は、ネジシャフト２
２６及びネジシリンダ２２８上で上方に駆動される。ネ
ジシリンダ２２８のまわりのふいご及びＯ−リングシー
ル２３０が、真空気密として用いられる。ネジシャフト
２２６は、プユリー２３２及びモータ２３４によって駆
動される。

前述のようにチャックプラットフォーム２１０にしっか
りと締め付けられたウェーハを、チャックの内部から供
給される気体によって裏側から加熱又は冷却することが
できる。その気体は、チャックとウェーハとの間の伝達
媒体として用いられるものである。チャックプラットフ
ォーム２１０内で、プリナム２３６が。

内部経路（図示せず）を通じて真空の外側のソースから
気体に供給される。半径方向経路２３８が、チャック−
の表面上の一連の半径方向の又は同心の、或いは（半径
方向及び同心の）結合したｉｌａ　（図示せず）内へそ
の気体を供給するために用いられる。ウェーハの下から
気体の漏出が、気体の連続的な流れを必然的にイ：１′
う、チャックの温度は、センサを用いて監視され、それ
によって２１節される。

他のチャックが第１７及び第１８図に示されている。ヘ
リウムガスを使用するのに適したいくつかの応用例にお
いては、ウェーハをチャックの表面により確実に密着さ
せるための締イ・１け手段を設ける必要がある。このチ
ャックにおいて、ウェーハ３００はチャック表面３０２
上に示されている。３、又はそれ以上のリフ１−ビン３
０４は、ウェーハ３００を繰作アームから持ち上げ、表
面３０２へとウェーハ３００を下降さぜる。ビン３０４
はスパイダ３０６に取り付けられ、空気式アクチュエー
タにより駆動される。ベローズ３１０によりビンのまわ
りが真空の状態に保たれる。温度制御ガスが入口３１２
から導入され、内側チャネル３１４を通り、チャック表
面３０２にある中央穴へと流れる。チャネル３１８は、
チャックの内側のまわりの温度を調節する流体のために
設けられたものである。

放射状スロット３２０がチャック上の表面上に穴３１６
と連結するように設けられている。スロットストップ３
２２はスロットを塞ぎ、ウェーハの下でヘリウムが逃げ
ないようにする。

ウェーハをチャックに確実に保持するため。

に、複数のクランプが設けられている。６インチ（１５
，２４ｃ…）のウェーハでは３−７２個のクランプが使
用できる。より小さいウェーハに対しては数を減らして
使用してもよく、より大きなウェーハに対してはまり数
を増して使用してもよい、ここでは簡略化のため８個の
ものが示されている。各クランプは、ウェーハの外側の
まわりに配置されたばね３２Ｇに連結され金属製シート
の薄いフック３２４から成る。各フック３２４が通るス
ロット３３０を備えた展開リング３２８がある。スロッ
ト３３０は、フックがスロットなしでリフトリング３３
２上に位置しているときには任意的なものである。

展開リング３２８の下方にリフトリング３３２がある。

展開リングには２、又はそれ以上の空気式アクチュエー
タ３３４（ここでは３つ示されている）及びベローズ真
空シール３３６が備えつけられている。リフトリング３
３２も同様に２つ又はそれ以上の空気式アクチュエータ
３３８（ここでは３つ示されている）及びベローズ真空
シール３４０が備えつけられている。

各フック３２４は上方保持リップ３４２、下方展開リッ
プ３４４及びリフトスロット３４６を有する。

フックが上方の展開位置から下方の締付は位置へと動く
と、ばね３２６の力によって、フックはリフトスロット
３４６のところでリフトリングのまわりに駆動し、ウェ
ーハ３００の縁に押しつけられる。これにより、ウェー
ハはフックの間で中心に惹かれる。フックが下方の締付
は位置から上方の展開位置へと動くと、リフトリング３
３２はウェーハの方向に持ち上げられ、フック３２４は
上方向の力を受けて、保持リップ３４２によってウェー
ハ上に作用した力を解放する。展開リング３２８が下降
してフック３２４の展開リップ３４４に圧力を加えると
、フック３２４はリフトスロット３４６のところで外側
に駆動する。静電容量センサ３４８及び／若しくは光学
センサ３３０並びに／又は背圧センサ（図示せず）がウ
ェーハ３００の存在を検知するために使用することがで
きる。検知情報はシステムコンピュータ２４に送信され
る。チャック本体３５２は、締付は機構を適切な位置に
保持しつつボルト３５４をはずすことにより、センサ３
４８又は３５Ｇの保守点検のための取外しができる。ウ
ェーハ保持チャックの他の実施例としては、チャックを
カートリッジ式ヒータにより加熱してもよく、水のよう
な流体で冷却してもよい、また、その流体を外部で加熱
、冷却してもよい、チャックの温度はセンサによりモニ
ターすることができ、その温度は処理コンピュータ２４
と接続し得る制御コンピュータにより調節することがで
きる。

第１９図において、タスク位置づけシステムが図式化さ
れている。この例では、２基の処理チェンバ、ウェーハ
ハンドラーを備えた３基のバルブ及び２基のロードロッ
クが用いられている。バルブ及びウェーハハンドラーに
応じて、任意の数の処理チェンバを用いることができる
。この図式の左上には、種々のタスク記号が定義されて
いる０例えば、ＳＮＤは、センダーロードロックを換気
または排気することを意味する０種々のタスク状態記号
が図式の右側において定義されている。状態＃１は、エ
レメントが準備されていないことあるいは何かをするた
めに待機していることを意味する。状態＃２は、エレメ
ントが、ウェーハを操作ずべき準備ができていることを
意味する。状態＃３は、エレメントが活動中であること
を意味する。このコードは、第１９図中の図式のマトリ
クスには用いられていないが、完全性を期すために定義
した。操作すべきある特定のタスクのために、活動性の
欠除のみが必要となる。状態＃４は、エレメントが状Ｒ
１まはた２にあって、３ではないことを意味する。第５
番目の状態記号°°任意°°は、エレメント他の４つの
状態のいずれかであることを意味する。１．２または３
のいずれかで良いタスクの状態と、４及び５の組合わせ
または１まなは２であって良い必要状態との間には、差
異がある。多くのタスクは、１から２．３へと進み１に
戻る。しかしＳＮＤは、１から２．３へと進んで２に戻
る。これらの状態のカテゴリーの意味の理解を助けるた
めに、いくつかの例を挙げる。

処理チェンバにウェーハが無いとき、例えばＣＩＰの状
態は＃１である。ウェーハがチェンバへと移動した後に
は、状態は＃２に変化する。そして処理が始まって、状
態が＃３に変化する。処理が終了すると、状態は＃１へ
と戻る。バルブは、状態変化と同様な順序で進行する。

しかじウェーハの存在は、バルブ自身内ではなくむしろ
上流のコンパートメント内で検出される。ウェーハがバ
ルブ自身内にあるのは、バルブが活動中のときだけであ
る。

タスク位置づけシステムは、システムの各エレメントの
実際の状態を感知して、上記の３種のカテゴリーに従っ
て状態をコンピュータ内に記憶する。各エレメントは他
のエレメントの活動とは独立に命令を受ける。ただし、
他のエレメントの状態が正しいことを条件とする。シス
テムは固定した時間の順序に従って運転するわけではな
い。

タスク位置づけシステムは、第１９図のマトリクスの左
側に記されたタスクの実際の状態と、図式化されたテー
ブル内の必要状芯を示すコラム各々とを比較して、タス
クを開始して良いか否かを決定する。もし条件が第１９
図のテーブルに示すようであったならば、タスクを始め
て、次に状態を最新にする。

このようにして、タスクの各々の相対的期間に拘らず最
適の順序が進行する。このことは、タスク位置づけシス
テムが順序を決定しようとしないで、常にできるだけ忙
しくシステムを保つという抽象的な目標を追求するとい
うことによる。

例えば、第２の処理チェンバをレシーバ−ロードロック
との間のレシーバ−バルブがどのような条件で運転する
かを決定するために、最後から２番目の列にあるＨＲＭ
まで、頂部の行にあるタスクの名前を読む０次に、各状
態記号へと読んでゆき、タスク名のために左へと読んで
ゆく、システムは、センダーが何をしているのかについ
て気にかけず、また第１のバルブについても無関心であ
り、第１の処理チェンバが活動中か否かについても無関
心である。システムが要求することは、チェンバ間のバ
ルブ＃２が非活動であること（−２Ｍ＝４）、第２の処
理チェンバ内の処理が完了していること（Ｃ２Ｐ＝　１
　）　、レシーババルブが第２の処理チェンバ（ＷＲＮ
＝　２　）内にあるウェーハを操作する準備ができてい
ること、及びレシーバロードロックが空であること＜Ｕ
ＣＶ＝１）である、これらのＫＢ条件の下で、レシーバ
バルブは順序に関係無く動作する。

本発明は、上述の好適実施例や変形実施例に限定される
ものではない０本発明の範囲を外れることなく、種／ｌ
の部分について機械的、電気的に等価な修正や変化がな
され得る１本発明の範囲は、特許請求の範囲のみによっ
て定まる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に従ったウェファ処理装置の部分断面
正面図である。 第２図は、第１図の２−２線に沿って取った部分断面図
である。 第３因は、第２図の３−３線に沿って取った断面図であ
る。 第４図は、バルブおよびウェファ処理アームの側面図で
ある。 第５図は、第４図の５−５線に沿って取った断面図であ
る。 第６図は、第４図の６−６ぜんに沿って収った断面図で
ある。 第７図は、第６図の７−７線に沿って取った断面図であ
る。 第８図は、第４図の装置の平面図である。 第９図は、第４図の装置のウェファ処理アームが部分的
に拡張した状態を示している。 第１０図は、第１図のロードロックのドアの１０−１０
線に沿って取った部分断面側面図である。 第１１図は、第１０図の１１−１１線に沿って取った、
ロードロックのドアのシールの配置を示す図である。 第１２図は、本発明に従ったソフトラッチの制御に用い
るバルブ配置である。 第１３図は、本発明に従ったソフトラッチの変形例を示
す正面図である。 第１４図は、本発明に従ったウェファ保持チャックの平
面図である。 第１５図は、第１４図の１５−１５線に沿って取った断
面図である。 第１６図は、第１４図の１６−１６１ｉに沿って取った
チャック断面図である。 第１７図は、第１８図の１７−１７線に沿った、本発明
に従ったウェファ保持チャックの他の実施例の断面図で
ある。 第１８図は、第１７図の１８−１８線に沿って取った、
チャックの部分断面平面図である。 第１９図は、タスク位置づけ装置のダイアダラムを示す
。 〔主要符号の説明〕 １０・・・投入ロードロック、１２・・・分離バルブ、
１４・・・第１加エチエンバ、１６・・・第２分離バル
ブ、１８・・・第２加エチエンバ、２０・・・第３分離
バルブ、２２・・・取出しロードロック、２４・・・コ
ンピュータ、２６．２８．３０．３２．３４．３６．３
８・・・分離真空ボンピング接続、４０．４２．４４・
・・ウェーハ取扱いアーム、４６・・・点線、４８・・
・ウェーハ、５０・・・カセット、５２．５４．５６．
５８．６０・・・点線、６２・・・取出しカセット、６
８・・・点線、６９・・・バルブウェッジ、７０・・・
プレート、７１・・・開孔、７１・・・スロット、７２
・・・０−リング、７３・・・アパーチャー、７４・・
・バルブウェッジ、７６．７８・・・０−リング、８０
・・・バルブシート、８２・・・リイアーアクチュエー
タ、８４・・・ウェーハ取扱いアーム、８８・・・保管
ノツチ、９０．９２・・・回転アクチュエータ、９４．
９６・・・同心シャフト、９８．１００・・・歯付きベ
ルト、１０２．１０４．１０５．１０６・・・歯付きプ
ーリ、１０７・・・シャフトホルダー、１０８．１１０
．１１２・・・ローラベアリング、１１４．１１６．１
１８．１２０・・・０−リング、１２２・・・穴、１２
４．１２６・・・溝、１２８・・・排気口、１３０・・
・ベローズシール、１３２・・・基部支持部品、１３４
・・・末端支持部品、１３６・・・基部エクスデンサ部
品、１３８・・・末端エクステンサ部品、１５０・・・
ロードロック、１５２・・・ロック、１５４・・・ベア
リング、１５６・・・ロードロックチェンバ、１５８・
・・テーブル、１６０・・・マイクロスイッチ、１６２
・・・シャフト、１６４・・・バー、１６６・・・スク
リュー、１６８・・・モータ、１７０・・・プーリ、１
７２・・・ガイドロッド、１７４・・・ベアリング、１
７６・・・ベローズ、１７８・・・０−リング、１８０
・・・ボンピングボード、１８２・・・０−リングシー
ル、１８４・・・穴、１８６・・・チャネル、１８８・
・・マイクロスイッチ検知器、１９０・・・バルブ、１
９２・・・スイッチ、１９４・・・ハンドル、１９６・
・・ドアー、１９７・・・ヒンジ、１９８・・・０−リ
ング、１９８・・・シール、２００・・・発射器、２０
２・・・赤外線検知器、２１０・・・チャックプラット
フォーム、２１２・・・リフトビン、２１３・・・バネ
、２１４・・・保持ビン、２１６・・・ヘッド拡張部、
２１８・・・静電容量センサ、２２０・・・ビンホルダ
、２２２・・・バネ、２２４・・・リフトテーブル、２
２６・・・ネジシャフト、２２８・・・ネジシリンダ、
２３０・・・０−リングシール、２３２・・・ブユリー
、２３４・・・モータ、２３６・・・プリナム、２３８
・・・半径方向経路、３００・・・ウェーハ、３０２・
・・チャック表面、３０４・・・リフトビン、３０６・
・・スパイダ、３１０・・・ベローズ、３１２・・・入
口、３１４．３１８・・・チャネル、３１６・・・穴、
３２０・・・放射状スロット、３２２・・・スロットス
トップ、３２４・・・フック、３２６・・・ばね、３２
８・・・展開リング、３３０・・・スロット、３３２・
・・リフトリング、３３４・・・アクチュエータ、３３
６・・・真空シール、３３８・・・空気式アクチュエー
タ、３４０・・・ベローズ真空シール、３４２・・・保
持リップシール、３４４・・・展開リップ、３４６・・
・リフトスロット、３４８．３５０・・・静電容量セン
サ、３５２・・・チャック本体、３５４・・・ボルト。 特許出願人　　パリアン・アソシェイツ・インコーホレ
イテッド

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　被加工物のカセットを処理するための装置であって
   、以下の手段および特徴から成るもの： 緊密にコリメートされた輻射ビームを送るための送信器
   手段； 前記の緊密にコリメートされた輻射ビームを検出するた
   めの受信器手段； 前記カセットを一定速度で移動させて前記輻射ビームを
   通過させるための輸送手段； 時間の関数としての前記輻射ビームの遮断を位置情報へ
   と変換するための信号処理手段；ならびに 該信号処理手段からの情報を受信して記憶するためのコ
   ンピュータ手段。 ２　特許請求の範囲第１項記載の装置であつて前記輸送
   手段が、ウエファを水平面に備えるカセットを上昇かつ
   下降させるためのエレベータである； ところの装置。 ３　特許請求の範囲第２項記載の装置であって前記送信
   器および検出器が、赤外輻射で動作するようにされてい
   る； ところの装置。 ４　特許請求の範囲第２項記載の装置であって前記送信
   器および検出器が、可視輻射で動作するようにされてい
   る； ところの装置。