JPS62250654A - 傾斜した締付けピンを使用したウエ−ハ処理チヤツク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 Ｌ１Σα杜肛た１ 本発明は半導体ウェーハ処理装置内のウェーハを保持し
、その温度を制御する装置に関する。

１１皮Ｅ 従来のウェーハ処理装置において、半導体ウェーへのホ
ルダは、ウェーハが手によって装填さ゛れるためだいた
いが単純な装置であった。半導体が精巧で連続した自動
処理を受けながら移動するときには、ウェーハをウェー
ハ保持装置へと運ぶように設計されたウェーハ操作手段
がなければならない、処理の間にウェーハの温度を制御
する必要がある場合に、いろいろな手段を使用すること
ができる。温度制御されたチャックがウェーハの温度を
調節するために真空内で使用されるときには、熱伝達と
いう問題が生ずる。最も信頼できる熱伝達手段の１つは
、米国特許４，５１２，３９１号、第４．５１４．６３
６号及び４．５６５，６０１号に示されているようにウ
ェーハの背後にガスを供給することである。ウェーハの
温度を有効に制御するためには、ウェーハ保持手段によ
ってウェーハを温度制御されたチャックに締付けること
が必要である。ウェーハ締付は手段と操作手段は信頼で
きる方法で協動させる必要がある。

正月しとｌ珀一 本発明の目的は、熱伝達媒体としてガスを使用する、温
度制御されたチャックに半導体ウェーハを締付ける手段
を提供することである。

本発明の他の目的は、ウェーハをウェーハ移送装置から
受け取り、そのウェーハをチャックへと移動させるため
の信頼性のある手段を提供することである。

光ｊＦυ肚藍一 本発明のこれらの目的及び他の目的、特徴、利点は、一
群のりフトピンがウェーハを移送装置から受け取り、ウ
ェーハを温度制御されたチャックの表面へと降下させる
本発明によって達成できる。一群の保持ビンがウェーハ
を保持してチャックへと降下させる。リフトピン及び保
持ビンは、リフト及び保持８１能を連動させるために共
通軸駆動ｉ構により駆動される。チャックとウェーハと
の間で良い熱伝達を達成するために、ガスがチャックの
中に供給され、チャネルを通ってチャックの表面にある
溝へと導かれる。

チャックの温度は、加熱手段、水冷手段、温度センサ及
び制御コンピュータにより制御される。

本発明のこれらの及び他の構造上及び動作上の特徴は、
限定をなす例でない好適実施例及び変形例を説明する図
面とともに以下の詳細な説明からより明らかになるであ
ろう。

１１え１匠 図面を参照すると、図面全体を通して各部品を示すため
に参照番号が使用されており、第１図には本発明に従っ
たウェーハ処理装置の部分断面正面図が示されている。

投入ロードロック１０がウェーハのカセットを装填する
ために使用されている６分離バルブ１２がウェーハの通
路内で第１処理チエンバ１４の前に設置されている。

第２分離バルブ１６がウェーハの通路内で第２処理チエ
ンバ１８の前に設置されている。第３分離バルブ２０は
第２処理チエンバ１８と取出しロードロック２２どの間
に設置されている。キーボードとタッチスクリーンで制
御するコンピュータ２４が装置の動作を制御するために
使用されている。

分離真空ボンピング接続口１４．２６．２８．３０．３
２．３４．３６及び３８がロードロック１２．２２、バ
ルブ１２．１６．２０及び処理チェンバ１４．１８の各
々になされている。各ポンピング接続口はコンピュータ
２４によって制御される。この例では処理ステーション
が２つだけ示されているが、どんな数の処理ステーショ
ン及び分離バルブをいくつでも直列に使用できる。

第２図は第１図の装置を線２−２で切断した部分断面を
示し、第３図は同じ装置を線３−３で切断した部分断面
を示す、第２図において、収納位置のウェーハ操作アー
ム４０．４２．４４が実線によって示されている。ウェ
ーハ操作アーム４０は点線４６で示されているようにカ
セット５０からウェーハ４８を取り出す、ウェーハ操作
アーム４０は点線５２で示されているようにウェーハ４
８を処理チェンバ１４内に配置する。同様に、点線５４
で示されているようにウェーハ操作アームは第１処理チ
エンバ内でウェーハを取り、点線５６で示されているよ
うに第２処理チエンバ１８内にウェーハを配置する。ウ
ェーハ操作アーム４４は点線５８で示されているように
第２処理チエンバ１８からウェーハを取り、点線６０で
示されたところでウェーハを取出しカセット６２内に配
置する。

第３図において、ウェーハ操作アーム４０．４４がバル
ブ１２．２０内側の収納位置にあることが示されている
。そのバルブ１２．２０は閉じた位置にあるバルブウェ
ッジ（ｗｅｄｇｅ　）を有している。

バルブ１６内のウェーハ操作アームは第１処理チエンバ
１４内では実線６８で示されており、第２処理チエンバ
１８内では点線５６によって示されている。

バルブ１６のバルブウェッジ６９は開いた位置で示され
ている。操作アームがバルブシート内の開孔７１を通っ
てどちらの方向にも動くことができる。

前記のバルブ及びウェーハ操作アームの各々の細部が第
４−９図に示されている。その装置は第４図に側面図で
示されている。密閉Ｏリングツ２を有するプレート７０
は、バルブ及びウェーハ操作アームを装置の中に密閉す
るために使用されている。第３図に示されるように、プ
レー）７Ｇは装置の主フレームに配置されている。第４
−６図は、バルブウェッジ７４とその動作機構及びウェ
ーハ操作アーム８４とその動作機構は全て統一したＪ′
ｌＩ造をなすようにプレート７０に取り付けられている
ことを示す、第８図には、バルブ及びウェーハアームユ
ニットを装置の主フレームに取り付けるためのボルト（
図示せず）を通すためのスロット７１及びアパーチャア
３が備わったプレート７０を示している。この構造は、
装置の如何なる部分も取り外すことなく、バルブとウェ
ーハアームを一体として迅速に取り外し、交換すること
を可能にしている。

バルブウェッジ７４はその両側にバルブシート８０（第
３図参照）に密閉するための０リング７６．７８を有す
る。リニアーアクチュエータ（１ｉｎｅａｒ　ａｃｔｕ
ａｔｏｒ）　８２は空気、液体又は電気で駆動されるも
のでもよく、バルブウェッジ７４をシートの中へと上方
に動かすために使用される。この上方への移動が、最上
の閉じた位置にある点線に示されたバルブウェッジ７４
とともに第５図に示されている。

ウェーハ操作アーム８４は、バルブウェッジ７４が最高
点の閉じた位置にあるか、又は最下点の開いた位置にあ
るか否かによらず、装置内で同じ高さにある。バルブウ
ェッジ７４は、それが回転して通り、また、バルブ内で
アーム８４を密閉できるように収納ノツチ８８を有する
。

ウェーハ操作アーム８４には２つの回転アクチュエータ
９０．９２が備えられており、該アクチュエータは歯付
きベルト９８．１００及び歯付きプーリー１０２．１０
４．１０５、ｔｏｅによって同心シャフト９４．９８を
駆動する。同心シャフト９４．９Ｂはシャフトホルダ１
０７内に取り付けられており、その頭部と底部がローラ
ベアリング１０８．１１０．１１２で支持されている。

シャフトに良好な回転真空シールを与えるために、二組
のＯリング１１４．１１６．１１８．１２０が各シャフ
トのまわりに設けられている。穴１２２が外シヤフト９
６を貫通して設けられており、内シヤフト９４の１７１
１２４と通じている。

外シヤフト９６の満１２６は各シャフト上のＯリングシ
ールの各組の間に別の真空ボンピング及び加圧をするた
めに穴１２２及びポンプ排気口１２８と通じている。バ
ルブウェッジ７４とプレートフ０との間にはベローズシ
ール１３０が設けられている。

操作アーム８４は４つの小さな部品からできている。基
部支持部品１３２の第１端部が外シヤフト９６と直角と
なるようにそのシャフトにしっかりと取り付けられてい
る。末端支持部品１３４の一端は基部支持部品１３２の
他の端部に枢着されている。基部エクステンサ（ｅｘＬ
ｅｎｓｏｒ　）部品１３６が第１端部と直角になるよう
にしっかりと内シヤフト９４に取り付けられている。末
端エクステンサ部品１３８は、その一端が、基部エクス
テンサ部品１３６の第２端部に枢着されている。

末端エクステンサ部品１３８は末端支持部品１３４の第
２端部に枢着されている。

末端支持部品１３４上にある基部支持部品１３２と末端
エクステンサ部品１３８との取り付は点は、その間隔が
基部エクステンサ部品１３６の大きさの分だけ離れてい
る。基部エクステンサ部品１３６は基部支持部品１３２
よりもずっと短くできる。

基部支持部品に対して基部エクステンサ部品１３６が小
さくなればなるほど、折りたたまれた位置にあるときの
アームは小さくなる。アームの４つの部品は取り付は点
とシャフト軸との間に平行四辺形を形成する。もし４つ
のアーム部品の全てがブレードのように形成されるなら
ば、枢動止め具はゆるく固定されたリベットでよい。

外シヤフト９６を回転させると、全アームが回転する。

内シヤフト９４が外シヤフトに関して回転させられると
、アームが伸び又、折りたたまれる。

このように記載したアームは、独立に同心シャフトを回
転させることによって、ウェーハを保持する先端部をど
のように複雑な曲線にでも動くようできる。アームを保
管するために必要とされる小さなスペースはアームが分
離バルブハウジング内に収納されることを可能にする。

バルブのハウジングは前に説明した分離ユニット又は処
理チェンバに対して不可欠な部分として形成され得る。

前記のようにアームのための駆動手段を取り付け、作る
ことは、駆動パーツが１つのユニットとして迅速に取り
はずされ、また交換されることを可能にし、それによっ
て稼働休止時間が最小にされる。

バルブは処理チェンバに使用されるものと同じボンピン
グ装置によって同時に、又は交換バルブによってボンピ
ング機構をタイムシェアリングでポンプされてもよい、
もし同時ボンピングが必要であるならば、処理チェンバ
からポンプされる化学活性処理ガスはバルブハウジング
中に逆流する。これはバルブハウジング中への不活性ガ
スの小さな流れを維持して連続的にハウジング及びポン
プラインを流すことで防げ得る。この流れは５ａａ／分
はどの小さなものでよい。

第１図及び第１０図において、本発明に従ったロードロ
ック及びエレベータ機構が示されている。ロードロック
ドア１５０は一組のロッド１５２に取り付けられており
、そのロッドはロードロックチェンバ１５６の外側に設
置されたベアリング１５４上に乗っている。カセット６
２はテーブル１５８上に乗っており、テーブルはカセッ
ト６２をただ一個所に置くために固定されている。マイ
クロスイッチ１６０又は別の同等のセンサーがカセット
が適切に置かれているとき、それを検知するのに使用さ
れる。装置を制御するコンピュータはカセット６２が適
切に置かれるまでロードロックドア１５０を開いたまま
で保持するようにプログラムされている。テーブル１５
８はシャフト１６２上に乗っており、そのシャフトはバ
ー１６４内で終っている。バー１６４はモータ１６８及
びプーリー１フＯ並びにスクリュー１６６によって駆動
される。

ガイドロッド１７２とベアリング１７４はエレベータを
安定させるのに使用される。シャフト１６２のまわりに
真空シールをつくるためにベローズｌフロはチェンバ１
５６とバー１６４を密閉する。

第１．１０及び１１図に示されているように、ドア１５
０の後ろに０リング１７８が設置され、ドアが押し閉じ
られるときチェンバ１５６の表面を密閉する。ロードロ
ックの主要なロッキング機構とは、チェンバ１５６がボ
ンビングロ１８０から排気されたときにドア１５０上に
かかる大気の圧力によるものである。０リング１７８を
押し付け、ドア１５０を閉じたまま保持するのに十分な
ほどチェンバ１５６内の圧力が下がるまでドア１５０を
保持することを助けるために、真空又はソフトラッチが
設けられている。

ソフトラッチは第１１図に示されているようにチェンバ
１５６の壁の中で０リング１７８の外側に収り付けられ
た、好適にはネオプレンフオーム製の４つの０リングシ
ール１８２から成る。これら０リングシールはＯリング
１７８と密着してドアを保持するのに十分な力を与える
のに適した形状と大きさに作ってもよい、ネオプレンフ
オームＯリングはオープンセル又はクローズドセル型に
してもよいが、柔軟クローズドセル型ネオプレン０リン
グは特に良い（ｌｌｆｉｍを果たす、第１１図は１つの
例のドアの背面の図であり、０リングシール１８２が合
わさる位置が点線で示されている（シール１８２はチェ
ンバの表面上にあるからである）、ｏリングシール１８
２はドア上にも置けるが、ボンピングチャネルをチェン
バを介して動かした方がより便利である。各シール１８
２は、もしそれらが図示したようにチェンバ上にあるな
らば、ドア１５０の後ろ側のスムーズな表面を密閉する
。もしシールがドア側にあれば、スムーズな表面はチェ
ンバ側にある。各シール１８２の中心には第１２図に示
されているようにチャネル１８６を通ってバルブ及びボ
ンピング装置に通じる穴１８４がおいている。マイクロ
スイッチ検知器１８８はドア１５０が閉じるのを検知す
る。大気中へ通じるバルブ１８８は閑じられ、ボンピン
グ装置に通じるバルブ１９０は引き続き開けられている
。シール１８２のもとての真空排気はドア１５０を閏じ
た状態で保持する。もし、チェンバ１５６がチェンバの
排気以前に手で開くことができるならば、ハンドル１９
４上のスイッチ１９２は連続してボンピング装置に通じ
るバルブ１９０を閉じ、外気に通じるバルブ１８８を開
くために使用される０次にシール１８２はドアを開放す
る。

一度チェンバ１５６でボンピングが開始されると、ソフ
トラッチはコンピュータ２４によって自動的に開放され
る。このようにソフトラッチを主０リングシール１７８
の外側に置くのが有利である。

ソフトラッチングのこの装置はカセットの自動操作に特
に有利である。

ドアの大きさ及び取付は装置の嵌合の密閉具合とに依存
して、２乃至４つ或いはそれ以上のソフトラッチが必要
となろう、十分に嵌合したヒンジをもつ小さなドアにつ
いては、十分な大きさの単一のソフトラッチが適切であ
る。第１３図には一つの実施例が示されており、ヒンジ
１９７に取り付けられ、一つだけ０リング１９８を有す
るドア１９６がソフトラッチとして機能するチェンバ上
に取り付けられた単一シール１８２を有する。ソフトラ
ッチがドアと接触する点が点線で示されている。

カセットは摩耗したり、そうでなければ変形したりする
ので、エレベータ機構に相対するウェーハの位置は既知
のカセットの形状からは決定できない、ウェーハは前の
処理工程中にこわされ、又は除去され、従ってカセット
のスロットからなくなることもあるかもしれない、これ
らの問題を補償するためにチェンバ内に光学又は赤外線
発射器１５６が同じ高さでチェンバの反対側にある光学
又は赤外線検知器２０２と向い合わせて設けられている
。チェンバ１５６が排気されるに従って、エレベータテ
ーブル１５８が上に駆動され、次に下降される。各ウェ
ーハが発射器２００からのビームを横切ると、ビームの
遮断が検知器２０２で感知される。その遮断は制御コン
ピュータ及び結合したハードウェアに記録される。エレ
ベータは位置が速度と時間の積から分かるように一定の
既知の速度で駆動される０位置はエレベータテーブル１
５８に関して測定される。このようにして、カセットの
各スロットの位置及び各ウェーハの存在が確認される。

制御コンピュータ２４は次にコンピュータメモリー内の
測定位置で各ウェーハを取り上げ、カセットをウェーハ
のない所へ飛び越すようにプログラムされる。前記のウ
ェーハ操作ａ構とウェーハ位置決定システムとの組み合
わせにより、システムは投入カセット内のウェーハにラ
ンダムアクセスに動作し、出て行くウェーハを収納する
カセットの間隔を任意選択できる。

第１４−１６図には本発明に従って処理中のウェーハを
受け取り、中心づけ、保持するための装置を示す、ウェ
ーハは、ウェーハ操作アームを用いてチャックプラット
フォーム上で中心づけられる。３本又はそれ以上の組と
なったりフトビン２１２が、ウェーハの下から上昇し、
ウェーハを操作アームから持ち上げる０次に、操作アー
ムは、チェンバから引込められる０次に、ウェーハは、
第１５図で破線で第１６図で実線で示すように、ビンが
伸長位置にあるリフトピン２１２の上に位置する。リフ
トピン２１２が上方にのびると同時に、保持ピン２１４
はウェーハから斜め上方に離れるように伸長する。各保
持ピン２１４は、保持ピンのシャフトの直径より大きい
ヘッド拡張部２１６を有する。ヘッド拡張部２１６は、
小さい円盤、円、筒、又は他の物のように形成してもよ
い、ヘッド拡張部２１６は、ウェーハのエツジを捕える
ために十分に大きくて切り立った形状、゛ある。リフト
ピン２１２がバネ２１３によって下方に引張られてウェ
ーハをチャックプラットフォーム２１０の最上部の上に
配置するとき、保持ピン２１４はヘッド２１６を用いて
ウェーハのエツジを締め付ける。保持ピン２１４は２本
又はそれ以上であってよく、保持ピン２１４が多くなる
とウェーハはよりしっかりとチャックに保持される。

静電容量センサ（ｃａｐａｅ＋ｔａｔｉｖｅ　５ｅｎｓ
ｏｒ）２１８が、ウェーハのチャック上への設置を確認
するために使用されている。

各保持ピン２１４が、ビンのためのガイドを形成するピ
ンホルダ２２０に固定される。各ビンホルダ２２０は、
バネ２２２によって下方向の力を受ける。リフトピン２
１２及び保持ピン２１４は、リフトテーブル２２４によ
って共に駆動される。リフトテーブル２２４の上方縁は
丸みがつけられ、ピンボルダ２２０の下方縁は丸みがつ
けられている。

そのため、リフトテーブル２２４上′でのビンホルダ２
２０の円滑な滑動を容易にする。リフトテーブル２２４
は、ネジシャフト２２６及びネジシリンダ２２８により
上方へと駆動される。ネジシリンダ２２８のまわりに位
置するベローズ及びＯリングシール２３０が、真空シー
ルとして用いられている。ネジシャフト２２６は、プー
リー２３２及びモータ２３４によって駆動される。

前述のようにチャックプラットフォーム２１０にしっか
りと締め付けられたウェーハを、チャックの内部から供
給されるガスによって裏側から加熱又は冷却することが
できる。そのガスは、チャックとウェーハとの間の伝達
媒体として用いられるものである。チャックプラットフ
ォーム２１０内で、ブリナム２３６には、内部チャネル
（図示せず）を通じて真空の外側にあるガス源からガス
が供給される。半径方向経路２３８が、チャックの表面
上の一連の半径方向の講、或いは同心の溝、又は（半径
方向及び同心の溝）組合せ溝（図示せず）内へそのガス
を供給するために用いられる。ウェーハの下からガスが
漏出することで、ガスの連続的な流れが必然的に形成さ
れることになる。チャックの温度は、センサを用いてモ
ニターされ、それによって調節される。

他のチャックが第１７及び第１８図に示されている。ヘ
リウムガスを使用するのに適したいくつかの応用例にお
いては、ウェーハをチャックの表面により確実に密着さ
せるための締付は手段を設ける必要がある。このチャッ
クにおいて、ウェーハ３００はチャック表面３０２上に
示されている。３つ又はそれ以上のリフトピン３０４は
、ウェーハ３００を操作アームから持ち上げ、表面３０
２へとウェーハ３００を下降させる。ビン３０４はスパ
イダ３０６に取り付けられ、空気式アクチュエータによ
り駆動される。ベローズ３１０によりビンのまわりが真
空の状態に保たれる。温度制御ガスが入口３１２から導
入され、内側チャネル３１４を通り、チャック表面３０
２にある中央穴へと流れる。

チャネル３１８は、チャックの内側のまわりの温度を調
節する流体のために設けられたものである。放射状スロ
ット３２０がチャック上の表面上に穴３１６と連結する
ように設けられている。スロットストツア３２２はスロ
ットを塞ぎ、ウェーハの下でヘリウムが逃げないように
する。

ウェーハをチャックに確実に保持するために、複数のク
ランプが設けられている。６インチ（１５，２４ｃ＋＊
）のウェーハでは３−７２個のクランプが使用できる。

より小さいウェーハに対しては数を減らして使用しても
よく、より大きなウェーハに対しては数を増して使用し
てもよい、ここでは簡略化のため８個のものが示されて
いる。

各クランプは、ウェーハの外側のまわりに配置されたバ
ネ３２６に連結され金属製シートの薄いフック３２４か
ら成る。各フック３２４が通るスロット３３０を備えた
展開リング３２８がある。スロット３３０は、フックが
スロットなしでリフトリング３３２上に位置していると
きには任意的なものである。展開リング３２８の下方に
リフトリング３３２がある。展開リングには２つ又はそ
れ以上の空気式アクチュエータ３３４（ここでは３つ示
されている）及びベローズ真空シール３３６が備えつけ
られている。リフトリング３３２も同様に２つ又はそれ
以上の空気式アクチュエータ３３８くここでは３つ示さ
れている）及びベローズ真空シール３４０が備えつけら
れている。

各フック３２４は上方保持リップ３４２、下方展開リッ
プ３４４及びリフトスロット３４６を有する。フックが
上方の展開位置から下方の締付は位置へと動くと、バネ
３２６の力によって、フックはリフトスロット３４６の
ところでリフトリングのまわりに駆動し、ウェーハ３０
０の縁に押しつけられる。これにより、ウェーハはフッ
クの間で中心に置かれる。フックが下方の締付は位置か
ら上方の展開位置へと動くと、リフトリング３３２はウ
ェーハの方向に持ち上げられ、フック３２４は上方向の
力を受けて、保持リップ３４２によってウェーハ上に作
用した力を解放する。展開リング３２８が下降してフッ
ク３２４の展開リップ３４４に圧力を加えると、フック
３２４はリフトスロット３４６のところで外側に駆動す
る。静電容量センサ３４８及び／若しくは光学センサ３
３０並びに／又は背圧センサ（図示せず）がウェーハ３
００の存在を検知するために使用することができる。検
知情報はシステムコンピュータ２４に送信される。

チャック本体３５２は、締付は機構を適切な位置に保持
しつつボルト３５４をはずすことにより、センサ３４８
又は３５０の保守点検のための取外しができる。ウェー
ハ保持チャックの他の実施例としては、チャックをカー
トリッジ式ヒータにより加熱してもよく、水のような流
体で冷却してもよい、また、その流体を外部で加熱、冷
却してもよい、チャックの温度はセンサによりモニター
することができ、その温度は処理コンピュータ２４と接
続し得る制御コンピュータにより調節することができる
。

第１９図において、タスク位置づけシステムが図式化さ
れている。この例では、２基の処理チェンバ、ウェーハ
ハンドラーを備えた３基のバルブ及び２基のロードロッ
クが用いられている。

バルブ及びウェーハハンドラーに応じて、任意の数の処
理チェンバを用いることができる。この図式の左上には
、種々のタスク記号が定義されている０例えば、ＳＮＤ
は、センダーロードロックを換気または排気することを
意味する０種々のタスク状態記号が図式の右側において
定義されている。状態＃１は、エレメントが準備されて
いないことあるいは何かをするために待機していること
を意味する。状態＃２は−、エレメントがウェーハを操
作すべき準備ができていることを忠昧する。状態＃３は
、エレメントが活動中であることを意味する。このコー
ドは、第１９図中の図式のマトリクスには用いられてい
ないが、完全性を期すために定義した。操作すべきある
特定のタスクのために、活動性の欠除のみが必要となる
。状態＃４は、エレメントが状態１まはた２にあって、
３ではないことを意味する。第５番目の状！ぶ記号“任
意”は、エレメント他の４つの状態のいずれかであるこ
とを意味する。１．２または３のいずれかで良いタスク
の状態と、４及び５の組合わせまたは１または２であっ
て良い必要状懇との間には、差異がある。

多くのタスクは、１から２．３へと進み１に戻る。しか
しＳＮＤは、１から２．３へと進んで２に戻る。これら
の状態のカテゴリーの意味の理解を助けるために、いく
つかの例を挙げる。

処理チェンバにウェーハが無いとき、例えばＣＩＰの状
態は＃１である。ウェーハがチェンバへと移動した後に
は、状態は＃２に変化する。

そして処理が始まって、状態が＃３に変化する。

処理が終了すると、状態は＃１へと戻る。バルブは、状
態変化と同様な順序で進行する。しかしウェーハの存在
は、バルブ自身内ではなくむしろ上流のコンパートメン
ト内で検出される。

ウェーハがバルブ自身内にあるのは、バルブが活動中の
ときだけである。

タスク位置づけシステムは、システムの各エレメントの
実際の状態を感知して、上記の３種のカテゴリーに従っ
て状態をコンピュータ内に記憶する。各エレメントは他
のエレメントの活動とは独立に命令を受ける。ただし、
他のエレメントの状態が正しいことを条件とする。シス
テムは固定した時間の順序に従って運転するわけではな
い。

タスク位置づけシステムは、第１９図のマトリクスの左
側に記されたタスクの実際の状態と、図式化されたテー
ブル内の必要状君を示すコラム各々とを比較して、タス
クを開始して良いか否かを決定する。もし条件が第１９
図のテーブルに示すようであったならば、タスクを始め
て。

次に状態を最新にする。

このようにして、タスクの各々の相対的期間に拘らず最
適の順序が進行する。このことは、タスク位置づけシス
テムが順序を決定しようとしないで、常にできるだけ忙
しくシステムを保つという抽象的な目標を追求するとい
うことによる。

例えば、第２の処理チェンバをレシーバ−ロードロック
との間のレシーバ−バルブがどのような条件で運転する
かを決定するために、最後から２番目の列にあるＷＲＭ
まで、頂部の行にあるタスクの名前を読む０次に、各状
態記号へと読んでゆき、タスク名のために左へと読んで
ゆく、システムは、センダーが何をしているのかについ
て注目せず、また第１のバルブについても同様であり、
第１の処理チェンバが活動中か否かについても注目しな
い、システムが要求することは、チェンバ間のバルブ＃
２が非活動であること（Ｗ２Ｍ＝４）　、第２の処理チ
ェンバ内の処理が完了していること（Ｃ２Ｐ＝　１　）
　、レシーババルブが第２の処理チェンバ（ＷＲＭ＝　
２　”）内にあるウェーハを操作する準備ができている
こと、及びレシーバロードロックが空であること（ＩＩ
ＣＶ＝　１　）である、これらの諸条件の下で、レシー
ババルブは順序に関係無く動作する。

本発明は、上述の好適実施例や変形実施例に限定される
ものではない０本発明の範囲を外れることなく、種々の
部分について機械的、電気的に等価な修正や変化がなさ
れ得る０本発明の範囲は、特許請求の範囲のみによって
定まる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に従ったウェーハ処理装置の部分断面正
面図である。 第２図は第１図の装置２−２ｔＪＡに沿って切断した部
分断面図である。 第３図は第２図の３−３線に、沿って切断した第１図及
び第２図の装置の部分断面図である。 第４図はバルブ及びウェーハ操作アームの側面図である
。 第５図は第４図の装置を５−５線に沿って切断した断面
図である。 第６図は第４図の装置を６−６線に沿って切断した断面
図である。 第７図は第４図の装置を７−７線に沿って切断した断面
図である。 第８図は第４図の装置の平面図である。 第９図は部分的に伸びた位置にある第４図の装置のウェ
ーハ操作アームである。 第１０図は第１図の１０−１０線に沿った側面部分断面
図に示されたロードロックのドアを示す。 第１１図はソフトラッチの位置を点線にして示した第１
０図の１１−１１線に沿ったロードロックのドアの気密
部を示す。 第１２図は本発明に従ったソフトラッチを制御するのに
用いるバルブ配列の略示図である。 第１３図は本発明に従ったソフトラッチの別の応用例の
正面図である。 第１４図は本発明に従ったウェーハ保持チャックの平面
図である。 第１５図は１５−１５線に沿って切断した第１４図のチ
ャック断面図である。 第１６図は１８−１６線に沿って切断した第１４図のチ
ャックの断面図である。 第１７図は本発明に従ったウェーハ保持チャックの別の
実施例の断面図で、第１８図の１７−１７線に沿って切
断したものである。 第１８図は第１７図のチャックを１８−１８線に沿って
切断し、上から見た部分断面図である。 第１９図はタスクロゲータシステムの図表である。 〔主要符号〕 ２１０・・・プラットフォーム　２１２・・・リフトピ
ン２１４・・・保持ピン　　　　　２１６・・・ヘッド
拡張部２１８・・・センサ　　　　　　２２０・・・ピ
ンホルダ２２２・・・バネ　　　　　　　２２４・・・
リフトテーブル２２６・・・ネジシャフト　　　２２８
・・・ネジシリンダ特許出願人　パリアン・アソシエイ
ツ インコーポレイテッド

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ディスク状の被加工物を保持するための装置であつ
   て、 被加工物を支持するための、上部面手段を有するプラッ
   トフォームと、 各々がロッドのように形成された少なくとも３つの保持
   ピンと、 から成り、 前記保持ピンの各々は前記プラットフォームの下方にあ
   るガイドに取り付けられ前記ガイドの各々は前記プラッ
   トフォームの下方の中心点から前記プラットフォームの
   上方及び下方点に向かつて放射状に整合され、前記各ピ
   ンの先端には、急激に拡張した拡張部が設けられ、前記
   ピンが前記中心点に向って引き込むときにその拡張部に
   よって被加工物がプラットフォームに保持される、 ところの装置。 ２、特許請求の範囲第１項に記載された装置であつて、 前記保持ピンを前記中心点に向けて引っ張るためのばね
   手段を含む、 ところの装置。 ３、特許請求の範囲第２項に記載された装置であって、 リフトテーブル、及び該リフトテーブルを持ち上げるた
   めの駆動手段を含む、 ところの装置。 ４、特許請求の範囲第３項に記載された装置であつて、 被加工物を被加工物取扱い機構から受け取り、前記被加
   工物を前記プラットフォームへと下降させるリフトピン
   手段を含む、 ところの装置。 ５、特許請求の範囲第４項に記載された装置であって、 前記被加工物が前記プラットフォームに保持されている
   間、前記被加工物の温度を制御する手段を含む、 ところの装置。 ６、特許請求の範囲第５項に記載された装置であって、 前記温度制御手段が、前記プラットフォームと被加工物
   の背面との間にガスを流し確実な熱接触を形成するため
   の手段を含む、 ところの装置。