JPS62249973A - γ−ピリドン誘導体の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野〉 この発明は、１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリ
ジンカルボキサミド化合物の新規な製法に関づ−るもの
である。この発明によって１ｑられる化合物は、医薬、
農薬あるいはそれらの合成中間体として有用である。

（従来技術） この発明に関する］、４−ジヒドロ−４−オキソ−３−
ピリジンカルボキサミド化合物を製造する方法としては
、以下のものが知られている。加藤鉄三等は、３−アミ
ノクロトンアニリド類とジケテンとを６０’Ｃまたは９
０’Ｃに加熱することによって、Ｎ−（４−クロロフェ
ニル）−１，４−ジ−ドロー２，６−シメチルー４−オ
キソ−３−ピリジンカル小キザミド、１．４−ジヒドロ
−２，６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−１−
（フェニルメチル ド、Ｎ−（４−クロロフェニル）−１．４−ジヒドロー
２，６−シメチルー４−オキソ−１−（）工二ルメチル
〉−３−ピリジンカルホ１ザミド、および１，４−ジヒ
ドロ−Ｎ−（４−メトキシフェニル）−２．６−シメチ
ルー４−オキソ−１−（フェニルメチル ドを得ている（薬学絹誌、刊１　、４０（１９８１）参
照〉が、どの場合も収率が低く工業的に応用しうる製造
方法とは考えられない。

カナダ特許第１，　１１５，　２７８号では、Ｎ−（４
−クロロフェニル）−３−（エチルアミノ〉−２−ブテ
ンアミドとジケテンとをトリエチルアミンの存在のもと
で、トルエン還流下に反応させて、Ｎ−（４−クロロフ
ェニル）−１−エチル−１．４−ジヒドロ−２．６−シ
メチルー４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミドを得
ているが、収率の記載はない。また同特許は、β−ケト
アミド類を、酸触媒の存在下脱水を伴う三量化反応によ
って、１、４−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジン力
ルホキサミト類を製造する方法を開示している。

しかしながら、この方法は、γーピリドン環の２位と６
位の置換基、および１位とアミドの窒素原子の置換基が
それぞれ同一である１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３
〜ピリジン力ルボキ→ノミト化合物の”Ａ造にしか適用
できないため、一般的な製法とはいえない。

一方、特開昭５２７．１４４６７６号は、４−第１ソー
４１」−ピラン−３−カルボン酸エステル誘導体と第１
級アミンとを、酸触媒の存在下に処理づることによる、
１，４−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルホン
酸エステル誘導体の製法について記載している。しかし
ながら、我々の試験によれば、４−オキソ−４Ｈ−ピラ
ン−３−カルポキザミド誘導体と第１級アミンとを酸触
媒の存在下に処理した場合には、目的とする］、４−ジ
ヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキリ−ミド誘
導体はほとんど得られないことが判明した。

（発明の目的〉 この発明は、１．４−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリ
ジンカルボキサミド化合物を好収率て製造するための一
般的応用可能な方法を提供することを目的とでろもので
漬る。

（発明の構成） この発明は 一般式（Ｉ〉： （Ｒ１はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シ
クロアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロゲン化ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、又は異項環基：
Ｒ２ｔよ水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、又は異項環基、Ｒ３，Ｒ４は
それぞれ同一もしくは異って水素原子、アルキル基、ア
ルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコ
キシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基又
はアラルキル基を表わすか；あるいはＲ３及びＲ４は一
緒に−（ＣＨ２）ｍ　−（ｍは３又は４である）を表わ
す。〕 て表わされる化合物と一般式（■）： Ｒ５ＮＨ２（ＩＩ＞ （Ｒ５はビニル基、シクロアルキル基、アリール基また
は−（ＣＩ−１２＞７ｌ−Ｒ６（ｎは１〜４の整数；Ｒ
６は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基
、アリールチオ基、ハロゲン原子、メルカプト基、ヒド
ロキシ基、置換されてもよいアミノ基、カルボキシ基、
アルコキシカル小ニル基、シアノ基、置換されてもよい
カルバモイル基、アリール基または異項環基）または−
〇−Ｒ７（Ｒ７はアルキル基、アルケニル基、またはア
ラルキル基）を表わす。〕 で表わされる化合物とを無機または有機の塩基の存在下
に処理して一般式（■）： Ｒ５ （Ｒ１−Ｒ５は上記の定義と同じ〕 で表わされるＴ−ピリドン誘轡体をＶ造１゛る方法を要
旨とする。

一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般式（１ｖ）ま
たは（ＩＶ）　−： Ｎ−（ＣＨ２）ｔ　Ｒ８ Ｒ’　−Ｃ−ＣＨ２Ｃ０ＮＨＲ２（ＩＶ）ＮＨ（ＣＨ２
）ｔ　Ｒ’ Ｒ１−Ｃ＝ＣＨＣＯＮＨＲ２（ＩＶ）　′〔式中Ｒ１、
Ｒ２は上記と同じ：Ｉ！はＯ〜６の整数、Ｒ８はジアル
キルアミノ基を表わす〕で表わされる化合物と一般式（
Ｖ）： （式中Ｒ３、Ｒ４は上記と同じ：Ｒ９，ＲＩＤは水素原
子アルキル基あるいはフェニル基を表わ覆かまたはＲ９
およびＲＩＯが共にアルキル基のときシクロアルキル基
を形成してもよい） で表わされる化合物を反応させるか又は一般式（）： 〔式中Ｒ１、Ｒ２は上記と同じ：Ｒ１１，Ｒ１２は水素
原子、アルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、
アリール基、異項環基を表わすかまたはＲ１１およびＲ
１２か共にアルキル基のとき１〜３個のヘテロ原子を伴
うかまたは伴わすに環を形成してもよい〕で表わされる
化合物と一般式（Ｖ）の化合物とを第３級有機塩基の存
在下反応させることによって容易に得られる。Ｒ３が水
素原子でありかつＲ４がメチル基である場合にＬｌｌ、
一般式（Ｖ）の化合物のかわりに、ジケテンを用いるこ
とができる。〔又、一般式（Ｉ＞の化合物は、ぞの伯の
既知の方法によって得ることもてきる。〕Ｒ１の定義に
おいて、アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル
、ブヂル、イソブヂル、１ニーブチル、ペンチル、オク
チル、ドデシルのような炭素数１〜１２の直鎖状あるい
は分岐状のアルキル基；アルケニル基またはアルキニル
基としては、炭素数２〜７のアルケニル基またはアルキ
ニル基；シクロアルキル基としては炭素数３〜７のシク
ロアルキル基：アルコキシルアルキル基としては、メト
キシメチル、エトキシメチル、プロポキシメチル、ブト
キシメチルなど；ハロゲン化アルキル基としては、１〜
リフルオロメチル、ジフルオロメチル、クロロメチルな
ど、アリール基としては置換されてもよいフＪニル基ま
た（（１，プーフチル某；アラルキル基としてｌｌ：ｔ
、置換されてもよいアリール基て置換されたアルギル見
；異頂渫早としては５もしくは６員の置換されてもよい
Ｗ項環基かあけられる。

Ｒ２の定ｒにおいてアルＡル阜、シクロアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基または異項環基としてはＲ１に
お【プる例示と同じものか含まれる。

Ｒ３、Ｒ４の定義において、アルキル基、アルケニル基
、アルキニル基、シクロアルキル基、アルコキシアルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、アリール基またはアラル
キル基としてはＲ１における例示と同じものか含まれる
。

Ｒ５の定義において、シクロアルキル基、アリール基と
してはＲ１における例示と同じものが含まれる。

Ｒ６の定義において、アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、シクロアルキル基、アリール基または異項環
基としては、Ｒ１にお（プる例示と同じものが；アルコ
キシ基またはアルキルチオ基としては炭素数１〜１２の
アルコキシ基またはアルキルヂオ基；アリールチオ基と
してはＲ１において例示したアリール基を含むアリール
デフ１−１が含まれる。

Ｒ７の定義において、アルキル基、アルケニル基または
アラルキル基としてはＲ１にａ３ける例示と同じものが
含まれる。

この発明の方法において用いられる無機または有機の塩
基としては水酸リヂウム、水酸化ブトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物：ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムメトキサイド、カリウムエトキサイ
ドなどのアルカリ金属のアルコキサイド；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩；リン酸
ナトリウム、リン酸カリウムなどのアルカリ金属のリン
酸塩；ホウ酸カリウムなどのアルカリ金属のホウ酸塩；
酢酸ナトリウム、ギ酸カリウムなどのアルカリ金属の有
機酸塩；テトラプロピルアンモニウムハイｌ−’ロＡキ
サイド、テトラブチルアンモニウムハイドロオキザイド
、トリオクプルメチルアンモニウムハイドロオキリイト
、ヘンシルトリメチルアンモニウムハイドロオキυイ！
ミなどの第４級アルキルアンモニウムハイドロオキサイ
ド；アンバーリスト−Ａ−２６（ＯＨ−形）、アンバー
リスｌヘ−２７（０１−１−形）などの交換基が第４級
アンモニウムハイトロオキザイトである陰イオン交換樹
脂；トリエチルアミン、１〜リプロピルアミン、ピリジ
ン、４−ジメチルアミノピリジン、１．４−ジアザビシ
クロ（２，２，０）オクタン、１，５−ジアザビシクロ
（５，４，０）ウンデセン−５などの第３級有機塩基；
又は、式（ＩＦ＞の化合物自身などが挙げられる。

塩基の使用量は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムな
ど比較的強い塩基の場合は、式（Ｉ＞の化合物に対して
触ｔｓ量で充分であるが、トリエチルアミンなど比較的
弱い塩基を用いる場合には式（１）の化合物に対して過
剰量、好ましくは２当量以上用いると好結果が得られる
。

式（ＩＩ＞の化合物（Ｊ、通常式（Ｉ）の化合物に対し
て１〜２当量用いる。又、式（ＩＩ）の化合物自体を塩
基として用いることも可能である。この場合に（は、式
（ＩＩ）の化合物を式（Ｉ）の化合物に対して２当量以
上用いると好結果が得られる。

仙に塩基が存在しない場合には、式（ＩＩ）の化合物を
式（Ｉ＞の化合物に対して当量用いても、目的物である
式（ＩＩＩ）の化合物ＩＪＩ極めて低い収率てしか得ら
れない。

反応？容媒としては、ベンゼン、１〜ルエン、キシレン
、ヘキサンなどの炭化水素；塩化メヂレン、クロロホル
ム、ジクロロエタンなどのハロゲン化物；ジエチルエー
テル、テ１ヘラヒドロフラン、ジオキサン、アニソール
などのエーテル；メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコールなどのアルコール；水素又はこれらの混合
物が用いられる。

反応温度は６０’Ｃ以下が好ましいが、反応速度の点お
よび収率、操作上の点から一１０℃から４０℃の範囲が
特に好ましい。６０℃を越えると副反応が著しくなって
不利である。

（発明の効果〉 この発明の方法により、１．４−ジヒドロ−４−オキソ
−３−ピリジンカルホキ４ノミト化合物が入手しやすい
原料を用い、筒中な操作によって収率良く得ることがで
きるようになった。

以下実施例によって、この発明をさらに置体的に説明で
る。

実施例１ １．４−ジヒドロ−２，６−シメチルー４−オキソ−Ｎ
−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリジン力ルポ
キザミドの合成 ２．６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−）１ニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド２．４３ｏ（１０ｍｍｏｌ
）、ベンジルアミン１．６１ｏ　（１５ｍｍｏｌ）　、
エタノール１５ｍ１、水３ｍｌおよび２Ｎ炭酸ナトリウ
ム水？容液０．５ｍｌの混合物を室温で終夜撹拌した。

析出した結晶を濾過、乾燥し、題記化合物２．５６ｐ（
収率７７％）を得た。融点１８０．５−１８１．５°○
。

比較例１ ２．６−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−４＋−
（−ピラン−３−カルボキサミド２．４３ｇ　（１０ｍ
ｍｏｌ）、ベンジルアミン１．０７ｇ　（１０ｍｍｏｌ
）　、エタノール１５ｍ１および水３ｍｌの混合物を室
温で終夜撹拌した。反応混合物をＩＨ−ＮＭＲによって
分析した結果、１，４−ジヒドロ−２，６−シメチルー
４−６’／−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−
ピリジン力ルポキザミドはトレース程度であった。

実施例２ １−へキシル−１，４−ジヒドロ−２，６−シメチルー
Ｎ−（２，６−シメチルフエニル）−４−オキソ−３−
ピリジン力ルポキザミドの合成２．６−シメチルーＮ−
（２，６−シメチルフエ二ル）−４−オキソ−４Ｈ−ピ
ラン−３−カルボキサミド（融点１１４．５−１１５℃
）　　３．００ｇ（１１，１ｍｍｏｌ＞、ヘキシルアミ
ン１．６８ｇ（１６，６ｍｍｏｌ）　、エタノール１８
ｍ１、水３．５ｍｌおよび２Ｎ炭酸ナトリウム水溶液０
．５５ｍ１の混合物を室温で終夜攪拌した。

反応混合物に西１酸エヂル５０甲！ｄうよび照水硫酪プ
トリウムを入れてよく振りまぜた後、濾過し、その濾液
を）量線し、残漬を耐酸エチルとｌ＼キ１ノンの混合液
から晶析して題記化合物３．２０ｇ（収率８２％）を得
た。融点１１９−１２０．５℃６実施例３ Ｎ−（４−クロロフェニル）−１，４−ジヒドロ−２，
６−ジメヂルー１−（２−ジメヂルアミノエチル）−４
−オキソ−３−ピリジンカルホキザミドの合成 Ｎ−（４−クロロフェニル）−２，６−シメチル−４−
オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（融点１９
４−１９７℃）　　８３３ｍｇ（３ｍｍｏｌ＞　、Ｎ。

Ｎ−ジメチルエチレンジアミン０．４０ｐ　（４，ｂｍ
ｍＯｌ　）エタノール５ｍｌ、水１ｍｌおよび２Ｎ炭酸
す１〜リウム水溶液０．１５ｍ１の混合物を室温で８時
間攪拌した。反応混合物に酢酸エチル２０制および無水
硫酸ナトリウムを入れてよく振りまぜた後、濾過し、そ
の濾液を濃縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンとの混合
液から晶析して題記化合物７７０ｍｏ　（収率７４％）
を得た。融点１Ｂ２−１６４℃。

実施例４ Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−１，４−ジヒドロ
−１−（３−メ１〜キシプロピル）−２゜６−ジメチル
−４−オキソー３−ピリジンカルホキザミドの合成 Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−２，６−シメチル
−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボキサミド（融
点８３．５−８４．５℃）　　３．００（］　（１０，
０ｍｍｏｌ＞、３−メトキシプロピルアミン１．３４０
（１５，０ｍｍｏｌ）　、エタノール１７．５ｍｌ、水
３．５制および２Ｎ炭酸ナトリウム水溶液０．５ｍｌの
混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物に酢酸エチル
６０ｍ　ｌおよび無水硫酸ナトリウムを入れてよく振り
まぜた後濾過し、その濾液を濃縮し、残渣を酢酸エチル
とヘキサンの混合液から晶析して題記化合物２．９４０
（収率７９％）を得た。融点１０６−１０７℃６実施例
５ Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−１，４−ジヒドロ
−１−（２−ヒドロキシエチル）−２゜６−ジタチル−
４−７ｔ−↓＼ノー２−ヒ°ｌｌジゝツカ！じポキυミ
ドの合成 ３−メトキシプロピルアミンのかわりに、２−アミノエ
タノールを用いる以外ＩＪ、実施例４と同様の操作を行
うことにより題記化合物２．２６ｑ（収率ロ誌）を得た
。融点２０３−２０５℃６実施例６ Ｎ−（２，６−シエチルフ■ニル）−１，＝１−−ジヒ
ドロ−１−（２，２−ビス（メトキシ）エチル）−２，
６−シメチルー４−オキソ−３−ピリジンカル小キザミ
トの合成 ３−メトキシプロピルアミンのかわりに２，２−ビス（
メトキシ）エチルアミンを用いる以外は実施例４と同様
の反応操作を行った後、反応混合物を濃縮し、残渣をシ
リカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによって処
理し油状の題記化合物１．５５ｐ　（収率４０％〉を得
た。

実施例７ Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−６−トリフルオロ
メチル−１，４−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−
１−（２−フェニルエチル）−３−ピリジンカルボ４４
ノミドの合成 Ｎ−（２，６−ジニチルフ１ニル１６−１〜リフルオロ
メヂル−２−メチル−４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−
カルボキサミト（融点１４０−、１４１℃）　　０．９
０（］　（２，５５關０１）、２−フェニルエチルアミ
ン０．４６ｇ　（３，８２ｍｍｏｌ　）　、エタノール
９ｍｌ、水１ｄおよび２Ｎ炭酸す１〜リウム水溶液０．
１５ｍ１の混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物に
水を加えて、析出した結晶を濾過、乾燥して、題記化合
物１．０１（］　（収率８７％）を得た。

融点１７９−１８０℃０ 実施例８ １．４−ジヒドロ−Ｎ−（２，４−ジメトキシピリミジ
ン−６−イル）−２，６−シメチルー４−オキソ−１−
フェニルメチル− ルボキサミドの合成 ２、６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−４Ｈー
ピラン−３−カルボキサミドのかわりに、Ｎ−（２．４
−ジメトキシピリミジン−６ーイル）＝２，６−シメチ
ルー４−副キソー４Ｈーピランー３ーカルボキ１ノミト
（融点２０２−　２０３．　５℃）を用いる以外は実施
例］と同様の操作を行うことにより、題記化合物を収率
７８％で得た。

融点１９６−１９８℃。

実施例９ １、４−ジヒドロ−２，６−ジメヂルーＮ−（２−メチ
ル−１．３．４−チアジアゾール−５−イル）−４−オ
キソ−１−フェニルメチル−３−ピリジン力ルポキザミ
ドの合成 ２、６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−４．Ｈ
−ピラン−３−カルボキサミドのかわりに２、６−シタ
チルーＮ−（２−メチル−１，３。

４−チアジアゾール−５−イル）−４−オキソ−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド（融点２０３−２０４℃）
を用いる以外は実施例］と同様の操作を行うことにより
、題記化合物を収率７３％で得た。

融点２４０−２４２℃。

実施例１０ １、４−ジヒドロ−２，６−シメチルー４−オキソーＮ
−（１−フェニルニブル）−１−フェニルメチル−３−
ピリジンカルホキ４ノミドの合成２．６−ジメチル−４
−オギソーＮ−フ１ニル−４Ｈ−ピラン−３−カルホキ
１ノミドのかわりに２．６−シメチルー４−７１キソー
Ｎ−（１−）］ニルエチル！、　−４Ｈ−ピラン−３−
カルホキ１ノミドを用いる以外は、実施例１と同様の操
作を行うことにより、題記化合物を収率７５％で得た。

融点１７３．５−１７５℃。

実施例１１ Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−１，４−ジヒドロ
−２，５，６−ドリメチルー４−オキフーコーフェニル
メチル−３−ピリジンカルボキザミドの合成 Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−２，５゜６−ドリ
メチル−４−オキソ−４日−ピラン−３−カルボキサミ
ド（融点７４−７５℃）　　０，９４（１（３ｍｍｏｌ
）、ベンジルアミン０．４８ｇ　（４，５ｍｍｏｌ）　
、トルエン５ｍｌおよび１Ｎ水酸化ナトリウムメタノー
ル溶液０．３ｍｌの混合物を室温で終夜攪拌した。反応
混合物に水を加えた後、分液ロートに移してよく振りま
ぜた。有機層を常法により乾燥、濾過、濃縮し、残渣を
イソプロピルエーテルとジエチルエーテルの混合液から
晶析し題記化合物０．８８（］（収率７３％）を得た。

融点１７２−１７４℃６実施例１２ Ｎ−（２，６−−ジエチルフ１ニル）−１，４゜５．６
．７，８．−ベキ４ノじドロー２−メチル−４−オキソ
−１−（２−フェニルエチル）−３〜キノリンカルホキ
サミドの合成 Ｎ−（２，６−ジニチルフｌニル）−５，６゜７．８−
テトラビトロ−２−メチル−４−オキソ−４Ｈ−クロメ
ン−３−カルボキサミド（融点１１５−１１７℃）１．
３０ｏ　（３，８３ｍｍｏｌ）、２−フェニルエチルア
ミン０．７［）ｇ　（５，７４ｍｍｏｌ）、エタノール
１０ｍ１、水２ｍｌ及び１Ｎ水酸化ナトリウム水溶ｔｌ
Ｗ０．８ｍ１の混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合
物から減圧下に溶媒を除去した後、酢酸エチル及び水を
加え分液ロートに移してよく振りまぜた。有機層を常法
により乾燥、濾過、濃縮し、残渣を酢酸エチルから晶析
して題記化合物ｏ、７ｏｇ（収率４１％）′を）ｑだ。

融点１８Ｂ−１９０℃６実施 例１３ １−ブチル−Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−１，
４−ジードロー２．６−シメチルー４−フ１キソ−５−
フェニルメチル、７−３−ピリジンカルボキサミドの合
成 Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−２，６−シメチル
ー４−オキソ−５−フェニルメチル−４１１−ピラン−
３−カルボキサミド（融点９５−９６’Ｃ）　　１．０
ｈ　（２，５７ｍｍｏｌ　）　、ブチルアミン０．２８
ｇ（３，８５ｍｍｏｌ　）　、トルエン５ｍｌ及び１Ｎ
水酸化ナトリウムメタノール溶液０．９１１１１の混合
物を室温で２日間攪拌した。反応混合物に水を加えた後
、分液ロートに移してよく振りまぜた。有機層を常法に
より乾燥、濾過、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーによって処理し、油状の題記化合物０．
７５ｇ（収率６６％）を得た。

　２４　一 実施例１４ １．４１−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−Ｎ−フ
ェニル−１−フＪニルメヂル−６−プロビル−３−ピリ
ジンカルボキサミドの合成２−メチル−４−オキソ−Ｎ
−フェニル−６−ブロヒソレー４Ｈ−ピラン−３−カル
ホキ１ノミド（融点１３３−１３４℃）　　１．０（１
＋　（３，６９ｍｍｏｌ　＞　、ベンジルアミン０．５
９ｏ　（５，５３ｍｍｏｌ　　）　、トルエン５ｍ１及
び１Ｎ水酸化すトリウムメタノール溶液０．４ｍ１の混
合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物に水及びエチル
エーテルを加え、析出した結晶を濾過、乾燥して、題記
化合物１．１１１（収率８３％）を得た。融点１１２１
１３℃８ 実施例１５ Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−１゜４−ジ
ヒドロ−２，５，６−ドリメチルー４−オキソ−１−（
２−フェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミドの
合成 Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−２゜５．６
−ドリメチルー４−オキソ−４Ｈ−ピラン−３−カルボ
キサミド（融点１７０−１７１℃）Ｏ６６５０（２，１
３ｍｍｏｌ　）　、２−フェニルエチルアミン０．３９
０　（３，１９ｍｍｏｌ　＞　、ｈルエン５ｍｌ及び１
Ｎ水酸化す１〜リウムメタノール溶液０．６ｍｌの混合
物を室温で終夜攪拌した３３反応混合物に水及びエチル
エーテルを加え、析出した結晶を濾過、乾燥して、題記
化合物０．６２ｇ（収率７１％）を得た。融点２００−
２０２℃６ 実施例１６ １．４−ジビトロー４−オキソーＮ−フェニル−２，６
−ジプロビルー１−（２−ピリジルメチル）−３−ピリ
ジンカルホキ１ノミトの合成４−オキソ−Ｎ−フェニル
−２，６−ジプロビルー４Ｈ−ピラン−３−カルボキサ
ミド（融点１０３、５−１０５℃）　　１．００ｏ　（
３，３４ｍｍｏｌ　）　、２−ピリジルメチルアミン０
．５４ｇ　（５，０１ｍｍｏｌ）、１〜ル工ン５ｍｌ及
び１Ｎ水酸化ナトリウムメタノール溶液”１ｍｌの混合
物を室温で終夜攪拌した。反応混合物に酢酸エチル及び
水を加え、分液ロートに移してよく振りまぜた。有機層
から溶媒を減圧下に除去し、その残渣をシリカゲルカラ
ムクロマ１〜グラフイーによって処即した後、耐酸ニブ
ル及びへ１リンの混合液から晶析して題記化合物１．（
１０ｇ（収率７７％〉を１程だ。融点９３．５−９５℃
８実施例１７ １−ブチル−１，４Ａ−ジヒドロー２−メヂルー４−オ
キソ−Ｎ、６−ジフェニル−３−ピリジンカルボキサミ
ドの合成 ２−メチル−４−オキソ−Ｎ、６−ジフェニル−４８−
ピラン−３−カルボキザミド（融点１６５−１６７℃＞
　　Ｏ５９２ｇ（３ｍｍｏｌ　＞　、ブヂルアミン２．
２ｏｇ　（３０ｍｍ０１　）　、エタノール８ｍｌ、水
１１１１１及び１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液０．６制の
混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物から溶媒を減
圧下に除去した後、水及びエチルエーテルを加え、析出
した結晶を濾過、乾燥して、題記化合物０．７７（］（
収率７１％）を得た。融点１８１−１ｇ３℃０実施例１
８ １−（３−クロロフェニル）−１，４−ジヒドロ−２，
６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フエニルー３−ピリジ
ン力ルボキυミドの合成２．６−シメチルー４−７１キ
ソーＮ−フェニル−１−１−ピラン−３−カルホギリミ
ド１．０Ｏｏ（４，１１ｍｍｏｌ）、ｍ−りｏロアニリ
ン０．７９ｇ　（６，１７ｍｍｏｌ　）、１〜ルエン５
制及び１Ｎ水酸化プ１〜リウムメタノ一ル溶液３ｍｌの
混合物を室温で２日間攪拌した。

反応混合物から溶媒を減）王下ｔこ除去した後、残渣に
塩化メヂレン及び水を加え、分液ロー１〜に移してよく
振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濃縮し、残渣を
エチルエーテルから晶析して題記化合物０．８４ｇ（収
率５８％）を得た。

融点２［＞７−２０９℃６ 比較例２ ２．６−シメチルー４−オキソ−Ｎ−フェニル−４Ｈ−
ピラン−３−カルボキサミド１．５０ｇ　（６，１７ｍ
ｍｏｌ　）　、ｍ−クロロアニリン０．８７Ｆ　（６，
７８ｍｍｏｌ　）　、ｐ−トルエンスルホン酸１水和物
２０ｍｇ及びトルエン１５制の混合物を３時間加熱還流
した。

反応混合物から溶媒を減圧下に除去した後、残渣をｌｈ
ｌ−ＮＭＲで分析した結果１−（３−クロロフェニル）
−１，４−ジヒドロ−２，６−シメチルー４−オキソ−
Ｎ−フコ−ニル−３−ピリジンカルボキリミドは１−レ
ース程度であった。

実施例１９ Ｎ−（２，６−ジエチルフエニル）−１，＝１−ジード
ロー２，６ジメヂルー１ｒ、−（２−ジメチルアミノエ
チル）−４−オキソ−３−ピリジン力ルボキ→ノミドの
合成 Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−２，６−ジメチル
−４−オキソー４日−ピラン−３−カルボキサミド１．
５０（］　（５，０１ｍｍｏｌ　）、Ｎ、　Ｎ−ジメチ
ルエチレンジアミン０．４４ｇ　（５，０１ｍｍｏｌ　
）　、トリエチルアミン１０．２ｇ（１００ｍｍｏｌ　
＞　、エタノール２５ｍ１及び水５ｍｌの混合物を室温
で終夜攪拌した。

反応混合物から減圧下に溶媒及びトリエチルアミンを除
去した後、残渣をイソプロピルエーテルから晶析し、題
記化合物１．５２ｑ　（収率８２％）を１１１だ７、融
点１２１−１２２℃６ 実施例２Ｏ Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−１，／ｌ〜ジヒド
ロ−２，６−シメチルー１−（２−ジメブルアミノＪチ
ル）−４−オキソ−３−ビワジカルボキ］ノミ１ミの合
成 Ｎ−（２，６−ジエチルフ■ニル）−２，６−ジメチル
−４−オギソー４１−１−ピラン〜３−カルホギ」ノミ
ト１．５０ｇ［５，０１ｍｍｏｌ）、Ｎ、Ｎ−ジメチル
エチレンジアミン８．８２ｍ１　　（１００ｍｍｏｌ）
　、エタノール２５制及び水５ｍｌの混合物を室温で７
時間攪拌した。反応混合物から減圧下に溶媒及び未反応
のＮ、Ｎ−ジメチルエチレンジアミンを除去した後、残
渣をイソプロピルエーテルから晶析し、題記化合物１．
５２Ｑ（収率８２％）をｊ背だ。

融点１２１−１２２℃８ 実施例２１ Ｎ−（２，６−ジエチルフエニル）−１，４−ジヒドロ
−１，５，６−１〜リメチル−４−オキソ−２−プロピ
ル−３−ピリジンカルボキ」ノミドの合成 Ｎ−（２，６−ジニチルフエニル）−５，６−シメチル
ー４−オキソ−２−プロピル−４１〜１−ピラン−３−
カルボキリミド（融点５９．５−６１℃）０．９３０（
２，７２ｍｍｏｌ　）　、４０％メチルアミン水溶液２
７制及びエタノール５ｍｌの）捏合物を室温で終夜攪拌
した。反応混合物から減圧下に未反応のメチルアミン及
び溶媒を除去した後、残渣をエチル工−テルとベキ４ノ
ンの混合液から晶析づることにより、題記化合物０．８
１ｇ（収率８４％）を得た。

融点１４Ｂ−１５０，５℃６ 以上の実施例記載の合成によって得られた化合物の赤外
線吸収スペク１〜ル（ＩＲ）及びプロトン核磁気共鳴ス
ペクトル（１１−（−ＮＭＲ＞の扱粋データを表に記し
１こ。ＩＲスペク１〜ルデータからは約１６００−１７
００ｃｍ−１の範囲にある吸収極大の波数を、またＩＨ
−ＮＭＲスペクトルデータからは一重線のシグナル（ピ
リジン環の１位窒素に直結したメチレン基のもの及びア
ミドのプロトンは除外した）の化学シフト及びプロトン
数を記した。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一般式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔Ｒ＾１はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
   シクロアルキル基、アルコキシアルキル基、ハロゲン化
   アルキル基、アリール基、アラルキル基、又は異項環基
   ：Ｒ＾２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、
   アラルキル基、アリール基、又は異項環基：Ｒ＾３、Ｒ
   ＾４はそれぞれ同一もしくは異って、水素原子、アルキ
   ル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基
   、アルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アリ
   ール基又は、アラルキル基を表わすか；あるいはＲ＾３
   及びＲ＾４は一緒に−（ＣＨ＿２）＿ｍ−（ｍは３又は
   ４である）を表わす〕 て表わされる化合物と一般式（II）： Ｒ＾５ＮＨ＿２（II） （Ｒ＾５はビニル基、シクロアルキル基、アリール基ま
   たは−（ＣＨ＿２）＿ｎ−Ｒ＾６（ｎは１〜４の整数；
   Ｒ＾６は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキ
   ニル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルチ
   オ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、メルカプト基、
   ヒドロキシ基、置換されてもよいアミノ基、カルボキシ
   基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、置換されても
   よいカルバモイル基、アリール基または異項環基）また
   は−Ｏ−Ｒ＾７（Ｒ＾７はアルキル基、アルケニル基、
   またはアラルキル基）を表わす〕 で表わされる化合物とを、無機または有機の塩基の存在
   下に処理して 一般式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） 〔Ｒ＾１〜Ｒ＾５は上記の定義と同じ〕 で表わされるγ−ピリドン誘導体を製造する方法。 ２、塩基がアルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸
   化物、炭酸塩もしくはアルコキサイド又は第４級アンモ
   ニウムハイドロオキサイドである特許請求の範囲第１項
   記載の方法。 ３、塩基が触媒量用いられる特許請求の範囲第２項記載
   の方法。 ４、塩基が第３級有機塩基である特許請求の範囲第１項
   記載の方法。 ５、塩基として、過剰量の式（II）の化合物を用いる特
   許請求の範囲第１項記載の方法。 ６、一般式（ I ）の化合物と一般式（II）の化合物と
   の処理が−１０℃〜４０℃で行われる特許請求の範囲第
   １〜４項記載の方法。