JPH075559B2 - γ−ピリドン誘導体の製法 - Google Patents
γ−ピリドン誘導体の製法Info
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- JPH075559B2 JPH075559B2 JP9403286A JP9403286A JPH075559B2 JP H075559 B2 JPH075559 B2 JP H075559B2 JP 9403286 A JP9403286 A JP 9403286A JP 9403286 A JP9403286 A JP 9403286A JP H075559 B2 JPH075559 B2 JP H075559B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド化合物の新規な製法に関するものであ
る。この発明によって得られる化合物は、医薬、農薬あ
るいはそれらの合成中間体として有用である。
ンカルボキサミド化合物の新規な製法に関するものであ
る。この発明によって得られる化合物は、医薬、農薬あ
るいはそれらの合成中間体として有用である。
（従来技術） この発明に関する1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピ
リジンカルボキサミド化合物を製造する方法としては、
以下のものが知られている。加藤鉄三等は、３−アミノ
クロトンアニリド類とジケテンとを60℃または90℃に加
熱することによって、Ｎ−（４−クロロフェニル）−1,
4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４
−オキソ−Ｎ−フェニル−１−（フェニルメチル）−３
−ピリジンカルボキサミド、Ｎ−（４−クロロフェニ
ル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−１
−（フェニルメチル）−３−ピリジンカルボキサミド、
および1,4−ジヒドロ−Ｎ−（４−メトキシフェニル）
−2,6−ジメチル−４−オキソ−１−（フェニルメチ
ル）−３−ピリジンカルボキサミドを得ている（薬学雑
誌、101、40（1981）参照）が、どの場合も収率が低く
工業的に応用しうる製造方法とは考えられない。
リジンカルボキサミド化合物を製造する方法としては、
以下のものが知られている。加藤鉄三等は、３−アミノ
クロトンアニリド類とジケテンとを60℃または90℃に加
熱することによって、Ｎ−（４−クロロフェニル）−1,
4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４
−オキソ−Ｎ−フェニル−１−（フェニルメチル）−３
−ピリジンカルボキサミド、Ｎ−（４−クロロフェニ
ル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−１
−（フェニルメチル）−３−ピリジンカルボキサミド、
および1,4−ジヒドロ−Ｎ−（４−メトキシフェニル）
−2,6−ジメチル−４−オキソ−１−（フェニルメチ
ル）−３−ピリジンカルボキサミドを得ている（薬学雑
誌、101、40（1981）参照）が、どの場合も収率が低く
工業的に応用しうる製造方法とは考えられない。
カナダ特許第1,115,278号では、Ｎ−（４−クロロフェ
ニル）−３−（エチルアミノ）−２−ブテンアミドとジ
ケテンとをトリエチルアミンの存在のもとで、トルエン
還流下に反応させて、Ｎ−（４−クロロフェニル）−１
−エチル−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ
−３−ピリジンカルボキサミドを得ているが、収率の記
載はない。また同特許は、β−ケトアミド類を、酸触媒
の存在下脱水を伴う二量化反応によって、1,4−ジヒド
ロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド類を製造
する方法を開示している。しかしながら、この方法は、
γ−ピリドン環の２位と６位の置換基、および１位とア
ミドの窒素原子の置換基がそれぞれ同一である1,4−ジ
ヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド化合
物の製造にしか適用できないため、一般的な製法とはい
えない。
ニル）−３−（エチルアミノ）−２−ブテンアミドとジ
ケテンとをトリエチルアミンの存在のもとで、トルエン
還流下に反応させて、Ｎ−（４−クロロフェニル）−１
−エチル−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ
−３−ピリジンカルボキサミドを得ているが、収率の記
載はない。また同特許は、β−ケトアミド類を、酸触媒
の存在下脱水を伴う二量化反応によって、1,4−ジヒド
ロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド類を製造
する方法を開示している。しかしながら、この方法は、
γ−ピリドン環の２位と６位の置換基、および１位とア
ミドの窒素原子の置換基がそれぞれ同一である1,4−ジ
ヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド化合
物の製造にしか適用できないため、一般的な製法とはい
えない。
一方、特開昭52−144676号は、４−オキソ−4H−ピラン
−３−カルボン酸エステル誘導体と第１級アミンとを、
酸触媒の存在下に処理することによる、1,4−ジヒドロ
−４−オキソ−３−ピリジンカルボン酸エステル誘導体
の製法について記載している。しかしながら、我々の試
験によれば、４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサ
ミド誘導体と第１級アミンとを酸触媒の存在下に処理し
た場合には、目的とする1,4−ジヒドロ−４−オキソ−
３−ピリジンカルボキサミド誘導体はほとんど得られな
いことが判明した。
−３−カルボン酸エステル誘導体と第１級アミンとを、
酸触媒の存在下に処理することによる、1,4−ジヒドロ
−４−オキソ−３−ピリジンカルボン酸エステル誘導体
の製法について記載している。しかしながら、我々の試
験によれば、４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサ
ミド誘導体と第１級アミンとを酸触媒の存在下に処理し
た場合には、目的とする1,4−ジヒドロ−４−オキソ−
３−ピリジンカルボキサミド誘導体はほとんど得られな
いことが判明した。
（発明の目的） この発明は、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミド化合物を好収率で製造するための一般
的応用可能な方法を提供することを目的とするものであ
る。
ンカルボキサミド化合物を好収率で製造するための一般
的応用可能な方法を提供することを目的とするものであ
る。
（発明の構成） この発明は 一般式（Ｉ）： 〔R1はアルキル基、R2はアラルキル基；ハロゲン原子、
アルキル基もしくはアルコキシ基で置換されていてもよ
いアリール基；又は５もしくは６員の異項環基：R3、R4
はそれぞれ同一もしくは異なって、水素原子；アルキル
基；ハロゲン化アルキル基；ハロゲン原子、アルキル基
もしくはアルコキン基で置換されていてもよいアリール
基又は、アラルキル基を表わすか、あるいはR3及びR4は
一緒に−(CH2)ｍ−（ｍは３又は４である）を表わす〕 で表わされる化合物と一般式（II）： R5NH2 （II） 〔R5は−(CH2)n-R6（ｎは１〜４の整数；R6は水素原
子；アルキル基；アルケニル基；アルキニル基；シクロ
アルキル基；アルコキシ基；アルキルチオ基；アリール
チオ基；ハロゲン原子；メルカプト基；ヒドロキシ基；
置換されてもよいアミノ基；カルボキシ基；アルコキシ
カルボニル基；シアノ基；置換されてもよいカルバモイ
ル基；アルキル基，ハロゲン原子もしくはアルコキシ基
で置換されていてもよいアリール基；または５もしくは
６員の異項環基）を表わす〕 で表わされる化合物とを、無機または有機の塩基の存在
下に処理して一般式（III）： 〔R1〜R5は上記の定義と同じ〕 で表わされるγ−ピリドン誘導体を製造する方法を要旨
とする。
アルキル基もしくはアルコキシ基で置換されていてもよ
いアリール基；又は５もしくは６員の異項環基：R3、R4
はそれぞれ同一もしくは異なって、水素原子；アルキル
基；ハロゲン化アルキル基；ハロゲン原子、アルキル基
もしくはアルコキン基で置換されていてもよいアリール
基又は、アラルキル基を表わすか、あるいはR3及びR4は
一緒に−(CH2)ｍ−（ｍは３又は４である）を表わす〕 で表わされる化合物と一般式（II）： R5NH2 （II） 〔R5は−(CH2)n-R6（ｎは１〜４の整数；R6は水素原
子；アルキル基；アルケニル基；アルキニル基；シクロ
アルキル基；アルコキシ基；アルキルチオ基；アリール
チオ基；ハロゲン原子；メルカプト基；ヒドロキシ基；
置換されてもよいアミノ基；カルボキシ基；アルコキシ
カルボニル基；シアノ基；置換されてもよいカルバモイ
ル基；アルキル基，ハロゲン原子もしくはアルコキシ基
で置換されていてもよいアリール基；または５もしくは
６員の異項環基）を表わす〕 で表わされる化合物とを、無機または有機の塩基の存在
下に処理して一般式（III）： 〔R1〜R5は上記の定義と同じ〕 で表わされるγ−ピリドン誘導体を製造する方法を要旨
とする。
一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般式（IV）また
は（IV）′： 〔式中R1,R2は上記と同じ:lは０〜６の整数、R8はジア
ルキルアミノ基を表わす〕 で表わされる化合物と一般式（Ｖ）： 〔式中R3,R4は上記と同じ：R9,R10は水素原子アルキル
基あるいはフェニル基を表わすかまたはR9およびR10が
共にアルキル基のときシクロアルキル基を形成してもよ
い〕 で表わされる化合物を反応させるか又は一般式（VI）： 〔式中R1,R2は上記と同じ：R11,R12は水素原子、アルキ
ル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
異項環基を表わすかまたはR11およびR12か共にアルキル
基のとき１〜３個のヘテロ原子を伴うかまたは伴わずに
環を形成してもよい〕で表わされる化合物と一般式
（Ｖ）の化合物とを第３級有機塩基の存在下反応させる
ことによって容易に得られる。R3が水素原子でありかつ
R4がメチル基である場合には、一般式（Ｖ）の化合物の
かわりに、ジケテンを用いることができる。〔又、一般
式（Ｉ）の化合物は、その他の既知の方法によって得る
こともできる。〕 R1の定義において、アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペン
チル、オクチル、ドデシルのような炭素数１〜12の直鎖
状あるいは分岐状のアルキル基があげられる。
は（IV）′： 〔式中R1,R2は上記と同じ:lは０〜６の整数、R8はジア
ルキルアミノ基を表わす〕 で表わされる化合物と一般式（Ｖ）： 〔式中R3,R4は上記と同じ：R9,R10は水素原子アルキル
基あるいはフェニル基を表わすかまたはR9およびR10が
共にアルキル基のときシクロアルキル基を形成してもよ
い〕 で表わされる化合物を反応させるか又は一般式（VI）： 〔式中R1,R2は上記と同じ：R11,R12は水素原子、アルキ
ル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、
異項環基を表わすかまたはR11およびR12か共にアルキル
基のとき１〜３個のヘテロ原子を伴うかまたは伴わずに
環を形成してもよい〕で表わされる化合物と一般式
（Ｖ）の化合物とを第３級有機塩基の存在下反応させる
ことによって容易に得られる。R3が水素原子でありかつ
R4がメチル基である場合には、一般式（Ｖ）の化合物の
かわりに、ジケテンを用いることができる。〔又、一般
式（Ｉ）の化合物は、その他の既知の方法によって得る
こともできる。〕 R1の定義において、アルキル基としてはメチル、エチ
ル、プロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ペン
チル、オクチル、ドデシルのような炭素数１〜12の直鎖
状あるいは分岐状のアルキル基があげられる。
R2の定義においてアラルキル基としては、置換されてい
てもよいアリール基で置換されたアルキル基；アリール
基としては、ハロゲン原子、アルキル基もしくはアルコ
キシ基で置換されていてもよいフェニル基またはナフチ
ル基;5もしくは６員の異項環基としては、５もしくは６
員の置換されていてもよい異項環基が含まれる。
てもよいアリール基で置換されたアルキル基；アリール
基としては、ハロゲン原子、アルキル基もしくはアルコ
キシ基で置換されていてもよいフェニル基またはナフチ
ル基;5もしくは６員の異項環基としては、５もしくは６
員の置換されていてもよい異項環基が含まれる。
R3,R4定義において、アルキル基としてはR1におえる例
示と同じものが；アリール基及びアラルキル基としては
R2における例示と同じものが；ハロゲン化アルキル基と
してはトリフルオロメチル、ジフルオロメチル、クロロ
メチルなどが含まれる。
示と同じものが；アリール基及びアラルキル基としては
R2における例示と同じものが；ハロゲン化アルキル基と
してはトリフルオロメチル、ジフルオロメチル、クロロ
メチルなどが含まれる。
R6の定義において、アルキル基としてはR1における例示
と同じものが；アルケニル基またはアルキニル基として
は炭素数２〜７のアルケニル基またはアルキニル基が；
シクロアルキル基としては炭素数３〜７のシクロアルキ
ル基が；またはアルキルチオ基としては炭素数１〜12の
アルコキシ基またはアルキルチオ基；アリールチオ基と
してはR1において例示したアリール基を含むアリ−ルチ
オ基が含まれる。
と同じものが；アルケニル基またはアルキニル基として
は炭素数２〜７のアルケニル基またはアルキニル基が；
シクロアルキル基としては炭素数３〜７のシクロアルキ
ル基が；またはアルキルチオ基としては炭素数１〜12の
アルコキシ基またはアルキルチオ基；アリールチオ基と
してはR1において例示したアリール基を含むアリ−ルチ
オ基が含まれる。
この発明の方法において用いられる無機または有機の塩
基としては水酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物；ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムメトキサイド、カリウムエトキサイ
ドなどのアルカリ金属のアルコキサイド；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩；リン酸
ナトリウム、リン酸カリウムなどのアルカリ金属のリン
酸塩；ホウ酸カリウムなどのアルカリ金属のホウ酸塩；
酢酸ナトリウム、ギ酸カリウムなどのアルカリ金属の有
機酸塩；テトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイ
ド、テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド、ト
リオクチルメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイドなど
の第４級アルキルアンモニウムハイドロオキサイド；ア
ンバ−リスト−Ａ−26（OH-形）、アンバ−リスト−27
（OH-形）などの交換基が第４級アンモニウムハイドロ
オキサイドである陰イオン交換樹脂；トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.0〕オクタン、
1,5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−５などの第
３級有機塩基；又は、式（II）の化合物自身などが挙げ
られる。
基としては水酸リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸
化バリウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属
の水酸化物；ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエト
キサイド、カリウムメトキサイド、カリウムエトキサイ
ドなどのアルカリ金属のアルコキサイド；炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属の炭酸塩；リン酸
ナトリウム、リン酸カリウムなどのアルカリ金属のリン
酸塩；ホウ酸カリウムなどのアルカリ金属のホウ酸塩；
酢酸ナトリウム、ギ酸カリウムなどのアルカリ金属の有
機酸塩；テトラプロピルアンモニウムハイドロオキサイ
ド、テトラブチルアンモニウムハイドロオキサイド、ト
リオクチルメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ベ
ンジルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイドなど
の第４級アルキルアンモニウムハイドロオキサイド；ア
ンバ−リスト−Ａ−26（OH-形）、アンバ−リスト−27
（OH-形）などの交換基が第４級アンモニウムハイドロ
オキサイドである陰イオン交換樹脂；トリエチルアミ
ン、トリプロピルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミ
ノピリジン、1,4−ジアザビシクロ〔2.2.0〕オクタン、
1,5−ジアザビシクロ〔5.4.0〕ウンデセン−５などの第
３級有機塩基；又は、式（II）の化合物自身などが挙げ
られる。
塩基の使用量は、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウムな
ど比較的強い塩基の場合は、式（Ｉ）の化合物に対して
触媒量で充分であるが、トリエチルアミンなど比較的弱
い塩基を用いる場合には式（Ｉ）の化合物に対して過剰
量、好ましくは２当量以上用いると好結果が得られる。
ど比較的強い塩基の場合は、式（Ｉ）の化合物に対して
触媒量で充分であるが、トリエチルアミンなど比較的弱
い塩基を用いる場合には式（Ｉ）の化合物に対して過剰
量、好ましくは２当量以上用いると好結果が得られる。
式（II）の化合物は、通常式（Ｉ）の化合物に対して１
〜２当量用いる。又、式（II）の化合物自体を塩基とし
て用いることも可能である。この場合には、式（II）の
化合物を式（Ｉ）の化合物に対して２当量以上用いると
好結果が得られる。他に塩基が存在しない場合には、式
（II）の化合物を式（Ｉ）の化合物に対して当量用いて
も、目的物である式（III）の化合物は極めて低い収率
でしか得られない。
〜２当量用いる。又、式（II）の化合物自体を塩基とし
て用いることも可能である。この場合には、式（II）の
化合物を式（Ｉ）の化合物に対して２当量以上用いると
好結果が得られる。他に塩基が存在しない場合には、式
（II）の化合物を式（Ｉ）の化合物に対して当量用いて
も、目的物である式（III）の化合物は極めて低い収率
でしか得られない。
反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘ
キサンなどの炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化物；ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソールなど
のエーテル；メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコールなどのアルコール；水素又はこれらの混合物が
用いられる。
キサンなどの炭化水素；塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化物；ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、アニソールなど
のエーテル；メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコールなどのアルコール；水素又はこれらの混合物が
用いられる。
反応温度は60℃以下が好ましいが、反応速度の点および
収率、操作上の点から−10℃から40℃の範囲が特に好ま
しい。60℃を越えると副反応が著しくなって不利であ
る。
収率、操作上の点から−10℃から40℃の範囲が特に好ま
しい。60℃を越えると副反応が著しくなって不利であ
る。
（発明の効果） この発明の方法により、1,4−ジヒドロ−４−オキソ−
３−ピリジンカルボキサミド化合物が入手しやすい原料
を用い、簡単な操作によって収率良く得ることができる
ようになった。
３−ピリジンカルボキサミド化合物が入手しやすい原料
を用い、簡単な操作によって収率良く得ることができる
ようになった。
以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。
る。
実施例１ 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェ
ニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミ
ドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド2.43g（10mmol）、ベンジルア
ミン1.61g（15mmol）、エタノール15ml、水3mlおよび2N
炭酸ナトリウム水溶液0.5mlの混合物を室温で終夜攪伴
した。析出した結晶を濾過、乾燥し、題記化合物2.56g
（収率77％）を得た。融点180.5−181.5℃。
ニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミ
ドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド2.43g（10mmol）、ベンジルア
ミン1.61g（15mmol）、エタノール15ml、水3mlおよび2N
炭酸ナトリウム水溶液0.5mlの混合物を室温で終夜攪伴
した。析出した結晶を濾過、乾燥し、題記化合物2.56g
（収率77％）を得た。融点180.5−181.5℃。
比較例１ 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド2.43g（10mmol）、ベンジルア
ミン1.07g（10mmol）、エタノール15mlおよび水3mlの混
合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物を1H-NMRによっ
て分析した結果、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−
オキソ−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリ
ジンカルボキサミドはトレース程度であった。
ン−３−カルボキサミド2.43g（10mmol）、ベンジルア
ミン1.07g（10mmol）、エタノール15mlおよび水3mlの混
合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物を1H-NMRによっ
て分析した結果、1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−
オキソ−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリ
ジンカルボキサミドはトレース程度であった。
実施例２ １−ヘキシル−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−Ｎ−
（2,6−ジメチルフェニル）−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−Ｎ−（2,6−ジメチルフェニル）−４−
ソキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点114.5
−115℃）3.00g（11.1mmol）、ヘキシルアミン1.68g（1
6.6mmol）、エタノール18ml、水3.5mlおよび2N炭酸ナト
リウム水溶液0.55mlの混合物を室温で終夜攪拌した。反
応混合物に酢酸エチル50mlおよび無水硫酸ナトリウムを
入れてよく振りまぜた後、濾過し、その濾液を濃縮し、
残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合液から晶析して題記
化合物3.20g（収率82％）を得た。融点119−120.5℃。
（2,6−ジメチルフェニル）−４−オキソ−３−ピリジ
ンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−Ｎ−（2,6−ジメチルフェニル）−４−
ソキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点114.5
−115℃）3.00g（11.1mmol）、ヘキシルアミン1.68g（1
6.6mmol）、エタノール18ml、水3.5mlおよび2N炭酸ナト
リウム水溶液0.55mlの混合物を室温で終夜攪拌した。反
応混合物に酢酸エチル50mlおよび無水硫酸ナトリウムを
入れてよく振りまぜた後、濾過し、その濾液を濃縮し、
残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合液から晶析して題記
化合物3.20g（収率82％）を得た。融点119−120.5℃。
実施例３ Ｎ−（４−クロロフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（４−クロロフェニル）−2,6−ジメチル−４−オ
キソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点194−197
℃）833mg（3mmol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン
0.40g（4.5mmol）エタノール5ml、水1mlおよび2N炭酸ナ
トリウム水溶液0.15mlの混合物を室温で８時間攪伴し
た。反応混合物に酢酸エチル20mlおよび無水硫酸ナトリ
ウムを入れてよく振りまぜた後、濾過し、その濾液を濃
縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンとの混合液から晶析
して題記化合物770mg（収率74％）を得た。融点162−16
4℃。
メチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（４−クロロフェニル）−2,6−ジメチル−４−オ
キソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点194−197
℃）833mg（3mmol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン
0.40g（4.5mmol）エタノール5ml、水1mlおよび2N炭酸ナ
トリウム水溶液0.15mlの混合物を室温で８時間攪伴し
た。反応混合物に酢酸エチル20mlおよび無水硫酸ナトリ
ウムを入れてよく振りまぜた後、濾過し、その濾液を濃
縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンとの混合液から晶析
して題記化合物770mg（収率74％）を得た。融点162−16
4℃。
実施例４ Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−１−
（３−メトキシプロピル）−2,6−ジメチル−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点83.5−
84.5℃）3.00g（10.0mmol）、３−メトキシプロピルア
ミン1.34g（15.0mmol）、エタノール17.5ml、水3.5mlお
よび2N炭酸ナトリウム水溶液0.5mlの混合物を室温で終
夜攪伴した。反応混合物に酢酸エチル60mlおよび無水硫
酸ナトリウムを入れてよく振りまぜた後濾過し、その濾
液を濃縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合液から
晶析して題記化合物2.94g（収率79％）を得た。融点106
−107℃。
（３−メトキシプロピル）−2,6−ジメチル−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点83.5−
84.5℃）3.00g（10.0mmol）、３−メトキシプロピルア
ミン1.34g（15.0mmol）、エタノール17.5ml、水3.5mlお
よび2N炭酸ナトリウム水溶液0.5mlの混合物を室温で終
夜攪伴した。反応混合物に酢酸エチル60mlおよび無水硫
酸ナトリウムを入れてよく振りまぜた後濾過し、その濾
液を濃縮し、残渣を酢酸エチルとヘキサンの混合液から
晶析して題記化合物2.94g（収率79％）を得た。融点106
−107℃。
実施例５ Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−１−
（２−ヒドロキシエチル）−2,6−ジメチル−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 ３−メトキシプロピルアミンのかわりに、２−アミノエ
タノールを用いる以外は実施例４と同様の操作を行うこ
とにより題記化合物2.26g（収率66％）を得た。融点203
−205℃。
（２−ヒドロキシエチル）−2,6−ジメチル−４−オキ
ソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 ３−メトキシプロピルアミンのかわりに、２−アミノエ
タノールを用いる以外は実施例４と同様の操作を行うこ
とにより題記化合物2.26g（収率66％）を得た。融点203
−205℃。
実施例６ Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−１−
〔2,2−ビス（メトキシ）エチル〕−2,6−ジメチル−４
−オキソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 ３−メトキシプロピルアミンのかわりに、2,2−ビス
（メトキシ）エチルアミンを用いる以外は実施例４と同
様の反応操作を行った後、反応混合物を濃縮し、残渣を
シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによって
処理し油状の題記化合物1.55g（収率40％）を得た。
〔2,2−ビス（メトキシ）エチル〕−2,6−ジメチル−４
−オキソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 ３−メトキシプロピルアミンのかわりに、2,2−ビス
（メトキシ）エチルアミンを用いる以外は実施例４と同
様の反応操作を行った後、反応混合物を濃縮し、残渣を
シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィーによって
処理し油状の題記化合物1.55g（収率40％）を得た。
実施例７ Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−６−トリフルオロメ
チル−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−１−
（２−フェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミド
の合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−６−トリフルオロメ
チル−２−メチル−４−オキソ−4H−ピラン−３−カル
ボキサミド（融点140−141℃）0.90g（2.55mmol）、２
−フェニルエチルアミン0.46g（3.82mmol）、エタノー
ル9ml、水1mlおよび2N炭酸ナトリウム水溶液0.15mlの混
合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に水を加えて、
析出した結晶を濾過、乾燥して、題記化合物1.01g（収
率87％）を得た。
チル−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−１−
（２−フェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミド
の合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−６−トリフルオロメ
チル−２−メチル−４−オキソ−4H−ピラン−３−カル
ボキサミド（融点140−141℃）0.90g（2.55mmol）、２
−フェニルエチルアミン0.46g（3.82mmol）、エタノー
ル9ml、水1mlおよび2N炭酸ナトリウム水溶液0.15mlの混
合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に水を加えて、
析出した結晶を濾過、乾燥して、題記化合物1.01g（収
率87％）を得た。
融点179−180℃。
実施例８ 1,4−ジヒドロ−Ｎ−（2,4−ジメトキシピリミジン−６
−イル）−2,6−ジメチル−４−オキソ−１−フェニル
メチル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに、Ｎ−（2,4−ジメ
トキシピリミジン−６−イル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点202−2
03.5℃）を用いる以外は実施例１と同様に操作を行うこ
とにより、題記化合物を収率78％で得た。
−イル）−2,6−ジメチル−４−オキソ−１−フェニル
メチル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに、Ｎ−（2,4−ジメ
トキシピリミジン−６−イル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点202−2
03.5℃）を用いる以外は実施例１と同様に操作を行うこ
とにより、題記化合物を収率78％で得た。
融点196−198℃。
実施例９ 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−Ｎ−（２−メチル−1,
3,4−チアジアゾール−５−イル）−４−オキソ−１−
フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに2,6−ジメチル−Ｎ
−（２−メチル−1,3,4−チアジアゾール−５−イル）
−４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点
203−204℃）を用いる以外は実施例１と同様の操作を行
うことにより、題記化合物を収率73％で得た。融点240
−242℃。
3,4−チアジアゾール−５−イル）−４−オキソ−１−
フェニルメチル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに2,6−ジメチル−Ｎ
−（２−メチル−1,3,4−チアジアゾール−５−イル）
−４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点
203−204℃）を用いる以外は実施例１と同様の操作を行
うことにより、題記化合物を収率73％で得た。融点240
−242℃。
実施例10 1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−（１
−フェニルエチル）−１−フェニルメチル−３−ピリジ
ンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに2,6−ジメチル−４
−オキソ−Ｎ−（１−フェニルエチル）−4H−ピラン−
３−カルボキサミドを用いる以外は、実施例１と同様の
操作を行うことにより、題記化合物を収率75％で得た。
−フェニルエチル）−１−フェニルメチル−３−ピリジ
ンカルボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミドのかわりに2,6−ジメチル−４
−オキソ−Ｎ−（１−フェニルエチル）−4H−ピラン−
３−カルボキサミドを用いる以外は、実施例１と同様の
操作を行うことにより、題記化合物を収率75％で得た。
融点173.5−175℃。
実施例11 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,5,
6−トリメチル−４−オキソ−１−フェニルメチル−３
−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,5,6−トリメチル−
４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点74
−75℃）0.94g（3mmol）、ベンジルアミン0.48g（4.5mm
ol）、トルエン5mlおよび1N水酸化ナトリウムメタノー
ル溶液0.3mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合
物に水を加えた後、分液ロートに移してよく振りまぜ
た。有機層を常法により乾燥、濾過、濃縮し、残渣をイ
ソプロピルエーテルとジエチルエーテルの混合液から晶
析し題記化合物0.88g（収率73％）を得た。融点172−17
4℃。
6−トリメチル−４−オキソ−１−フェニルメチル−３
−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,5,6−トリメチル−
４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点74
−75℃）0.94g（3mmol）、ベンジルアミン0.48g（4.5mm
ol）、トルエン5mlおよび1N水酸化ナトリウムメタノー
ル溶液0.3mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合
物に水を加えた後、分液ロートに移してよく振りまぜ
た。有機層を常法により乾燥、濾過、濃縮し、残渣をイ
ソプロピルエーテルとジエチルエーテルの混合液から晶
析し題記化合物0.88g（収率73％）を得た。融点172−17
4℃。
実施例12 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4,5,6,7,8,−ヘキ
サヒドロ−２−メチル−４−オキソ−１−（２−フェニ
ルエチル）−３−キノリンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−5,6,7,8,−テトラヒ
ドロ−２−メチル−４−オキソ−4H−クロメン−３−カ
ルボキサミド（融点115−117℃）1.30g（3.83mmol）、
２−フェニルエチルアミン0.70g（5.74mmol）、エタノ
ール10ml、水2ml及び1N水酸化ナトリウム水溶液0.8mlの
混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物から減圧下に
溶媒を除去した後、酢酸エチル及び水を加え分液ロート
に移してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濾
過、濃縮し、残渣を酢酸エチルから晶析して題記化合物
0.70g（収率41％）を得た。融点188−190℃。
サヒドロ−２−メチル−４−オキソ−１−（２−フェニ
ルエチル）−３−キノリンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−5,6,7,8,−テトラヒ
ドロ−２−メチル−４−オキソ−4H−クロメン−３−カ
ルボキサミド（融点115−117℃）1.30g（3.83mmol）、
２−フェニルエチルアミン0.70g（5.74mmol）、エタノ
ール10ml、水2ml及び1N水酸化ナトリウム水溶液0.8mlの
混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物から減圧下に
溶媒を除去した後、酢酸エチル及び水を加え分液ロート
に移してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濾
過、濃縮し、残渣を酢酸エチルから晶析して題記化合物
0.70g（収率41％）を得た。融点188−190℃。
実施例13 １−ブチル−Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジ
ヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−５−フェニルメ
チル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−５−フェニルメチル−4H−ピラン−３−カルボ
キサミド（融点95−96℃）1.00g（2.57mmol）、ブチル
アミン0.28g（3.85mmol）、トルエン5ml及び1N水酸化ナ
トリウムメタノール溶液0.9mlの混合物を室温で２日間
攪伴した。反応混合物に水を加えた後、分液ロートに移
してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濾過、
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって処理し、油状の題記化合物0.75g（収率66％）を
得た。
ヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−５−フェニルメ
チル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−５−フェニルメチル−4H−ピラン−３−カルボ
キサミド（融点95−96℃）1.00g（2.57mmol）、ブチル
アミン0.28g（3.85mmol）、トルエン5ml及び1N水酸化ナ
トリウムメタノール溶液0.9mlの混合物を室温で２日間
攪伴した。反応混合物に水を加えた後、分液ロートに移
してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濾過、
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
よって処理し、油状の題記化合物0.75g（収率66％）を
得た。
実施例14 1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニ
ル−１−フェニルメチル−６−プロピル−３−ピリジン
カルボキサミドの合成 ２−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−６−プロピル
−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点133−134℃）
1.00g（3.69mmol）、ベンジルアミン0.59g（5.53mmo
l）、トルエン5ml及び1N水酸化ナトリウムメタノール溶
液0.4mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に
水及びエチルエーテルを加え、析出した結晶を濾過、乾
燥して、題記化合物1.11g（収率83％）を得た。融点112
−113℃。
ル−１−フェニルメチル−６−プロピル−３−ピリジン
カルボキサミドの合成 ２−メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−６−プロピル
−4H−ピラン−３−カルボキサミド（融点133−134℃）
1.00g（3.69mmol）、ベンジルアミン0.59g（5.53mmo
l）、トルエン5ml及び1N水酸化ナトリウムメタノール溶
液0.4mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に
水及びエチルエーテルを加え、析出した結晶を濾過、乾
燥して、題記化合物1.11g（収率83％）を得た。融点112
−113℃。
実施例15 Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−1,4−ジヒ
ドロ−2,5,6−トリメチル−４−オキソ−１−（２−フ
ェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−2,5,6−ト
リメチル−４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミ
ド（融点170−171℃）0.65g（2.13mmol）、２−フェニ
ルエチルアミン0.39g（3.19mmol）、トルエン5ml及び1N
水酸化ナトリウムメタノール溶液0.6mlの混合物を室温
で終夜攪伴した。反応混合物に水及びエチルエ−テルを
加え、析出した結晶を濾過、乾燥して、題記化合物0.62
g（収率71％）を得た。融点200−202℃。
ドロ−2,5,6−トリメチル−４−オキソ−１−（２−フ
ェニルエチル）−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（３−クロロ−２−メチルフェニル）−2,5,6−ト
リメチル−４−オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミ
ド（融点170−171℃）0.65g（2.13mmol）、２−フェニ
ルエチルアミン0.39g（3.19mmol）、トルエン5ml及び1N
水酸化ナトリウムメタノール溶液0.6mlの混合物を室温
で終夜攪伴した。反応混合物に水及びエチルエ−テルを
加え、析出した結晶を濾過、乾燥して、題記化合物0.62
g（収率71％）を得た。融点200−202℃。
実施例16 1,4−ジヒドロ−４−オキソ−Ｎ−フェニル−2,6−ジプ
ロピル−１−（２−ピリジルメチル−３−ピリジンカル
ボキサミドの合成 ４−オキソ−Ｎ−フェニル−2,6−ジプロピル−4H−ピ
ラン−３−カルボキサミド（融点103.5−105℃）1.00g
（3.34mmol）、２−ピリジルメチルアミン0.54g（5.01m
mol）、トルエン5ml及び1N水酸化ナトリウムメタノール
溶液1mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に
酢酸エチル及び水を加え、分液ロートに移してよく振り
まぜた。有機層から溶媒を減圧下に除去し、その残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって処理した
後、酢酸エチル及びヘキサンの混合液から晶析して題記
化合物1.00g（収率77％）を得た。融点93.5−95℃。
ロピル−１−（２−ピリジルメチル−３−ピリジンカル
ボキサミドの合成 ４−オキソ−Ｎ−フェニル−2,6−ジプロピル−4H−ピ
ラン−３−カルボキサミド（融点103.5−105℃）1.00g
（3.34mmol）、２−ピリジルメチルアミン0.54g（5.01m
mol）、トルエン5ml及び1N水酸化ナトリウムメタノール
溶液1mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合物に
酢酸エチル及び水を加え、分液ロートに移してよく振り
まぜた。有機層から溶媒を減圧下に除去し、その残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーによって処理した
後、酢酸エチル及びヘキサンの混合液から晶析して題記
化合物1.00g（収率77％）を得た。融点93.5−95℃。
実施例17 １−ブチル−1,4−ジヒドロ−２−メチル−４−オキソ
−N,6−ジフェニル−３−ピリジンカルボキサミドの合
成 ２−メチル−４−オキソ−N,6−−ジフェニル−4H−ピ
ラン−３−カルボキサミド（融点165−167℃）0.92g（3
mmol）、ブチルアミン2.20g（30mmol）、エタノール8m
l、水1ml及び1N水酸化ナトリウム水溶液0.6mlの混合物
を室温で終夜攪伴した。反応混合物から溶媒を減圧下に
除去した後、水及びエチルエーテルを加え、析出した結
晶を濾過、乾燥し、題記化合物0.77g（収率71％）を得
た。融点181−183℃。
−N,6−ジフェニル−３−ピリジンカルボキサミドの合
成 ２−メチル−４−オキソ−N,6−−ジフェニル−4H−ピ
ラン−３−カルボキサミド（融点165−167℃）0.92g（3
mmol）、ブチルアミン2.20g（30mmol）、エタノール8m
l、水1ml及び1N水酸化ナトリウム水溶液0.6mlの混合物
を室温で終夜攪伴した。反応混合物から溶媒を減圧下に
除去した後、水及びエチルエーテルを加え、析出した結
晶を濾過、乾燥し、題記化合物0.77g（収率71％）を得
た。融点181−183℃。
実施例18 １−（３−クロロフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジ
メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−３−ピリジンカル
ボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド1.00g（4.11mmol）、ｍ−クロ
ロアニリン0.79g（6.17mmol）、トルエン5ml及び1N水酸
化ナトリウムメタノール溶液3mlの混合物を室温で２日
間攪伴した。反応混合物から溶媒を減圧下に除去した
後、残渣に塩化メチレン及び水を加え、分液ロートに移
してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濃縮
し、残渣をエチルエーテルから晶析して題記化合物0.84
g（収率58％）を得た。
メチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−３−ピリジンカル
ボキサミドの合成 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド1.00g（4.11mmol）、ｍ−クロ
ロアニリン0.79g（6.17mmol）、トルエン5ml及び1N水酸
化ナトリウムメタノール溶液3mlの混合物を室温で２日
間攪伴した。反応混合物から溶媒を減圧下に除去した
後、残渣に塩化メチレン及び水を加え、分液ロートに移
してよく振りまぜた。有機層を常法により乾燥、濃縮
し、残渣をエチルエーテルから晶析して題記化合物0.84
g（収率58％）を得た。
融点207−209℃。
比較例２ 2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ−フェニル−4H−ピラ
ン−３−カルボキサミド1.50g（6.17mmol）、ｍ−クロ
ロアニリン0.87g（6.78mmol）、ｐ−トルエンスルホン
酸１水和物20mg及びトルエン15mlの混合物を３時間加熱
還流した。反応混合物から溶媒を減圧下に除去した後、
残渣を1H-NMRで分析した結果１−（３−クロロフェニ
ル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ
−フェニル−３−ピリジンカルボキサミドはトレース程
度であった。
ン−３−カルボキサミド1.50g（6.17mmol）、ｍ−クロ
ロアニリン0.87g（6.78mmol）、ｐ−トルエンスルホン
酸１水和物20mg及びトルエン15mlの混合物を３時間加熱
還流した。反応混合物から溶媒を減圧下に除去した後、
残渣を1H-NMRで分析した結果１−（３−クロロフェニ
ル）−1,4−ジヒドロ−2,6−ジメチル−４−オキソ−Ｎ
−フェニル−３−ピリジンカルボキサミドはトレース程
度であった。
実施例19 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6
ジメチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−オ
キソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド1.50g（5.01m
mol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン0.44g（5.01mmo
l）、トリエチルアミン10.2g（100mmol）、エタノール2
5ml及び水5mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合
物から減圧下に溶媒及びトリエチルアミンを除去した
後、残渣をイソプロピルエーテルから晶析し、題記化合
物1.52g（収率82％）を得た。融点121−122℃。
ジメチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−オ
キソ−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド1.50g（5.01m
mol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン0.44g（5.01mmo
l）、トリエチルアミン10.2g（100mmol）、エタノール2
5ml及び水5mlの混合物を室温で終夜攪伴した。反応混合
物から減圧下に溶媒及びトリエチルアミンを除去した
後、残渣をイソプロピルエーテルから晶析し、題記化合
物1.52g（収率82％）を得た。融点121−122℃。
実施例20 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−2,6
−ジメチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−
オキソ−３−ピリジカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド1.50g（5.01m
mol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン8.82ml（100mmo
l）、エタノール25ml及び水5mlの混合物を室温で７時間
攪伴した。反応混合物から減圧下に溶媒及び未反応のN,
N−ジメチルエチレンジアミンを除去した後、残渣をイ
ソプロピルエーテルから晶析し、題記化合物1.52g（収
率82％）を得た。
−ジメチル−１−（２−ジメチルアミノエチル）−４−
オキソ−３−ピリジカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−2,6−ジメチル−４−
オキソ−4H−ピラン−３−カルボキサミド1.50g（5.01m
mol）、N,N−ジメチルエチレンジアミン8.82ml（100mmo
l）、エタノール25ml及び水5mlの混合物を室温で７時間
攪伴した。反応混合物から減圧下に溶媒及び未反応のN,
N−ジメチルエチレンジアミンを除去した後、残渣をイ
ソプロピルエーテルから晶析し、題記化合物1.52g（収
率82％）を得た。
融点121−122℃。
実施例21 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−1,4−ジヒドロ−1,5,
6−トリメチル−４−オキソ−２−プロピル−３−ピリ
ジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−5,6−ジメチル−４−
オキソ−２−プロピル−4H−ピラン−３−カルボキサミ
ド（融点59.5−61℃）0.93g（2.72mmol）、40％メチル
アミン水溶液2.7ml及びエタノール5mlの混合物を室温で
終夜攪伴した。反応混合物から減圧下に未反応のメチル
アミン及び溶媒を除去した後、残渣をエチルエーテルと
ヘキサンの混合液から晶析することにより、題記化合物
0.81g（収率84％）を得た。
6−トリメチル−４−オキソ−２−プロピル−３−ピリ
ジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（2,6−ジエチルフェニル）−5,6−ジメチル−４−
オキソ−２−プロピル−4H−ピラン−３−カルボキサミ
ド（融点59.5−61℃）0.93g（2.72mmol）、40％メチル
アミン水溶液2.7ml及びエタノール5mlの混合物を室温で
終夜攪伴した。反応混合物から減圧下に未反応のメチル
アミン及び溶媒を除去した後、残渣をエチルエーテルと
ヘキサンの混合液から晶析することにより、題記化合物
0.81g（収率84％）を得た。
融点148−150.5℃。
以上の実施例記載の合成によって得られた化合物の赤外
線吸収スペクトル（IR）及びプロトン核磁気共鳴スペク
トル（1H-NMR）の抜粋データを表に記した。IRスペクト
ルデータからは約1600−1700cm-1の範囲にある吸収極大
の波数を、また1H-NMRスペクトルデータからは一重線の
シグナル（ピリジン環の１位窒素に直結したメチレン基
のもの及びアミドのプロトンは除外した）の化学シフト
及びプロトン数を記した。
線吸収スペクトル（IR）及びプロトン核磁気共鳴スペク
トル（1H-NMR）の抜粋データを表に記した。IRスペクト
ルデータからは約1600−1700cm-1の範囲にある吸収極大
の波数を、また1H-NMRスペクトルデータからは一重線の
シグナル（ピリジン環の１位窒素に直結したメチレン基
のもの及びアミドのプロトンは除外した）の化学シフト
及びプロトン数を記した。
Claims (6)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： 〔R1はアルキル基：R2はアラルキル基；ハロゲン原子、
アルキル基もしくはアルコキシ基で置換されていてもよ
いアリール基；又は５もしくは６員の異項環基：R3、R4
はそれぞれ同一もしくは異なって、水素原子；アルキル
基；ハロゲン化アルキル基；ハロゲン原子、アルキル基
もしくはアルコキン基で置換されていてもよいアリール
基又は、アラルキル基を表すか；あるいはR3及びR4は一
緒に−(CH2)m−（ｍは３又は４である）を表わす〕 で表わされる化合物と一般式（II）： R5NH2 （II） 〔R5は−(CH2)n-R6（ｎは１〜４の整数、R6は水素原
子；アルキル基；アルケニル基；アルキニル基；シクロ
アルキル基；アルコキシ基；アルキルチオ基；アリール
チオ基；ハロゲン原子；メルカプト基；ヒドロキシ基；
置換されてもよいアミノ基；カルボキシ基；アルコキシ
カルボニル基；シアノ基；置換されてもよいカルバモイ
ル基；アルキル基，ハロゲン原子もしくはアルコキシ基
で置換されていてもよいアリール基；または５もしくは
６員の異項環基）を表わす〕 で表わされる化合物とを、無機または有機の塩基の存在
下に処理して 一般式（III）： 〔R1〜R5は上記の定義と同じ〕 で表わされるγ−ピリドン誘導体を製造する方法。 - 【請求項２】塩基がアルカリ金属またはアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸塩もしくはアルコキサイド又は第４
級アンモニウムハイドロオキサイドである特許請求の範
囲第１項記載の方法。 - 【請求項３】塩基が触媒量用いられる特許請求の範囲第
２項記載の方法。 - 【請求項４】塩基が第３級有機塩基である特許請求の範
囲第１項記載の方法。 - 【請求項５】塩基として、過剰量の式（II）の化合物を
用いる特許請求の範囲第１項記載の方法。 - 【請求項６】一般式（Ｉ）の化合物と一般式（II）の化
合物との処理が−10℃〜40℃で行われる特許請求の範囲
第１〜４項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9403286A JPH075559B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | γ−ピリドン誘導体の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9403286A JPH075559B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | γ−ピリドン誘導体の製法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62249973A JPS62249973A (ja) | 1987-10-30 |
| JPH075559B2 true JPH075559B2 (ja) | 1995-01-25 |
Family
ID=14099222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9403286A Expired - Lifetime JPH075559B2 (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | γ−ピリドン誘導体の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH075559B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6194427B1 (en) * | 1998-02-26 | 2001-02-27 | Neurogen Corporation | Substituted cycloalkyl-4-Oxonicotinic carboxamides; gaba brain receptor ligands |
-
1986
- 1986-04-23 JP JP9403286A patent/JPH075559B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62249973A (ja) | 1987-10-30 |
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