JPS62249970A - ピリドン−３−カルボキサミド化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明は、１．４−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリ
ジンカルボキサミド類の製造方法に関するもであり、こ
の発明によって得られる化合物は、医薬、農薬あるいは
それらの中間体として有用である。

（従来技術） 従来、１．４−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカ
ルボキサミド類のうち、１，４−ジヒドロ−２，６−ジ
メチル−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘導
体に属する化合物は、適当な３−アミノクロトンアミド
誘導体にジケテンを無溶媒下に作用さでることによって
生成プることか知られでいた。ｇなわち、加齢ら（帖学
昶誌、１ｏ１゜４（Ｌ−４７（１９８１）　）の報告に
よると、３種類の３−１＼ンジルアアミクロトン７７ニ
リド化合物（式（Ｔ）において、Ｒ１−フェニル基、４
−メトキシフにル基または４−クロロフェニル基：Ｒ’
＝７〕ニル基；Ｒ３＝メヂル基そしてｎ＝ｉの場合に対
応する）に溶媒を使用せず、ｃｏないし９０℃の加熱下
にジケテンを作用させて得られた反応混合物から、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィーによって単離し得る、
１．４−ジヒドロ−２，６−シメチルー４−オキソ−Ｎ
−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカルボ
キサミドおよびその誘導体（式（ＩＩＩ）において、Ｒ
１＝フェニル基、４−メトキシフェニル基まｌｃは４−
クロロフェニル基；Ｒ２−フェニル基：Ｒ′＝メヂル基
そしてｎ＝ｉの場合に各々対応する）が２ないし９％の
収率で得られる。この方法は、工業的に容易に入手し得
るジケテンを用い、単に加熱下に反応させる操作上の単
純さを持つものであるが、報告されたどの場合も低収率
であり、工業的に応用しうる製造り法とは考えられない
。加藤等の方法による反応の主生成物はむしろ４−ヒド
ロ１シー　６−メチル−１−フェニル−３−（１−（〕
１ニルメチルイミノ）エチル〕−２（月」）−ビリジノ
ンないしぞの誘導体である。

またカナタ国特清第１，１１５，２７８号によるとＮ−
（４−クロロフェニル）−３−（エチルアミノ）−２−
ブテンアミド（式（Ｔ）においてＲ１−４−クロロフェ
ニル基、（ＣＨ２）ｎ　　Ｒ２＝エチル基およびＲ３−
メチル基の場合に対応する）のトルエン溶液に、トリエ
チルアミンおよびジケテン（５０％アセトン溶液）を加
え４時間還流下に加熱し、冷却後反応混合物に１０％塩
酸を加えると油状物が分離する。この油状物からまず１
−エチル−１，４−ジヒドロ−２，６−シメチルー　４
−オキソ−Ｎ−（４−クロロフェニル）−３−ピリジン
カルボキサミドの塩酸塩が得られ、さらに遊離のカルボ
キサミドが得られる（前出特許実施例１４参照）。

この方法は、反応に溶媒を用いること、トリエチルアミ
ンの共存下にジケテンを反応させること、反応生成物を
塩酸塩として不溶化することなどにおいて、前記した加
藤等の方法と異なるものであるが、生成物の収率は記載
されておらり゛、製造方法としての有用性は不明である
。

７　ａｎｋｏｗｓｋａ　−Ｊ　ａｓｉｎｓｋａらは（Ｂ
　ｕｌ　１．Ａ　ｃａｄ。

ｐｏｔ、　３ｃｉ、、　　Ｓｅｒ、３ｃｉ、　Ｃｈｉｍ
　、　１９７５．２３（１１１９０１参照）ベンゾイル
アセトアニリド誘導体とアニリン誘導体とによるエナミ
ンの塩酸やホスゲンによる自己繰合反応により、１．４
−ジヒドロ−４−オキソ−３−ごリジン力ルポキザミド
誘導体を合成しているが、この方法によると、２位およ
び６位が同一のものしか合成することはできない。

また彼らは（Ｚ　ｅｓｚ、Ｎ　ａｕｋ、Ｕ　ｎｉｗ、Ｊ
　ａｇｅｌｌｏｎｉａｎ、。

Ｐｒ　、　Ｃｈｅｍ、１９７６、２１．　１４１参照）
ベンゾイルアセトアニリド誘導体、アセトアセトアニリ
ド誘導体およびそれらのＳ　ｈ１ｆｆｍ基のコハク酸ク
ロリドを触媒とした自己縮合反応により種々の１，４−
ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド誘
導体を合成している。この方法においても、２位および
６位が同一のものしか合成することができない。

（発明の目的） 以上に述べた先行技術から明らかなように、１゜４−ジ
ヒドロ−４−Ｊキソ−３−ビリジンカルポキυミド類を
収率よく得る方法は従来知られていなかたった。それは
目的の生成物を選択的に与える条イ１が見いだされてい
なかった理由によるものである。本発明者等は、１．４
−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド
化合物の簡便でかつ高収率な合成法をもとめ鋭意検討し
た結果、β−ケトアミドと１級アミンによるエナミン（
Ｉ）とジケテンとケトンの付加体（ＩＩ）による１、４
−ジヒドロ−４−オキソ−３−ピリジンカルボキサミド
化合物を有利に製造する本発明を完成した。

（以下余白、次頁へ続く。） （発明の構成） この発明は式（Ｊ）： （式中Ｒ１はアリール基、Ｗｉ累環基、シクロアルキル
基、または第２級あるいは第３級の低級アルキル基を表
わし、Ｒ′は水素原子、アリール基、複素環基、Ｃ１Ｃ
１１の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、低級アルケ
ニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、低級ア
ルキルチオ基または低級アルコキシ基を表わし、Ｒ３は
Ｃ２〜Ｃ１１の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、ア
ラルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハ
ロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシアルキル基を
表わす。０はコないし４の整数を表わす。）で表わされ
る化合物と、 式（■璽 Ｏ （式中Ｒ４およびＲ５はＣ１Ｃ４のアルキル基である。

） で表わされる化合物とを不活性溶媒中で加熱反応させ、 式（■）： （式中Ｒ”　、Ｒ２、Ｒ３およびｎの定義は式（Ｉ）中
のものと同一） で表わされる化合物を得ることを特徴とする１、４−ジ
ヒドロ−６−メヂルー　４−オキソ−３−ピリジンカル
ボキサミド化合物の製造法に関４る。

この発明の方法に用いる原料の一〇は式（１）で表わさ
れる化合物であり、一般的には次の式（ＩＶ　）で表わ
されるクトアミド化合物と、式（Ｖ）で表わされる第１
級アミン ト１２　　　Ｎ　　　（Ｃ１」　２　　）ＴＬ　　　Ｒ
’　　　　　　　　　　　　　　　　　　　（Ｖ）との
脱水縮合反応の生成物として得られる物質である。式（
Ｉ）で表わされる化合物をこの発明の目的に使用する場
合は、精製した物質を用いる必要はなく、上記脱水縮合
反応の粗反応混合物をそのまま利用できる。従って、式
（ｒＶ）および式（Ｖ）で表わされる化合物の脱水縮合
反応を、溶媒中で行なう場合は、式（Ｉ）と式（Ｉ［）
との反応で用いる不溶性溶媒と同一のものを選ぶことに
よりプロセスを簡単にすることができる。

式（Ｉ）で表わされる化合物の中には、Ｒ１がフＪニル
基あるいｔよナフチル基などのアリール基、より具体的
には無置換のフェニル基の他に、炭素数１ないし３のア
ルニ１ル基、同アルコキシカルボニル基、同アルコキシ
基、同アルキルヂオ基、フェノ４シ基、シアノ基、トリ
フルオロメチル基、ニトロ基、フッ素、塩素、臭素等の
ハロゲン原子、アセチ１ルアミノ基の中から選ばれた置
換基１ないし５個で置換されたフェニル基および１−ナ
フチル基が含まれる。またＲ１が複索環基である場合と
しては、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基な
どの６員環の基、イミダゾリル基、オキサシリル基、イ
ソオキサシリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、
オキサジアゾリル基、チアジアゾリル基などの５員環の
基が含まれる。さらに式（Ｔ）中のＲ”はシクロアルキ
ル基、第２級および第３級の低級アルキル基でもよく、
この中にはシクロペンデル基、シクロヘキシル基、１−
フェニルエチル基、１−ブチル基、２−フェニルブロピ
ル基などの基が含まれる。

式（１）中のＲ′は水系原子、アリール基、複索環基、
Ｃ１〜Ｃ１１の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、低
級アルクニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基
、低級アルキルチオ基、あるいは低級アルコキシ基を表
わし、ｎはコないし４の整数を表わす。従って、（ＣＨ
２）−Ｒ２の基として、具体的には、メチル、エチル、
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンデル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシ
ルなどのアルキル基：フェニルメチル基、２−フェニル
エチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチ
ル基およびこれらのフェニル基上に置換基を有するアラ
ルキル基：ビリジルメチル基、フリルメチル基、チェニ
ルメチル基、テトラヒドロフリルメチル基などの複素環
を有するアルキル基：アリル基、３−ブテニル基、プロ
パルギル基などの低級アルケニル基および低級アルキニ
ル基；シクロペンデルメヂル基、シクロヘキシルメチル
基などのシクロアルキル基を有するアルキルＭ：２−メ
ブルブＡエチル基、２−■チルヂオエチル基、３−メチ
ルブオプロビル基、３−エチルチオプロピル基などの低
級アルキルチオアル４ル基：２−メ１〜キシエチル基、
２−■トキシエチル基、３−メト１ジプロピル基、３−
エトキシプロピル基、３−イソプロポキシプロビル基な
どの低級アルコキシアルキル基が掲げられる。

Ｒ３はＣ２Ｃ１１の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基
、アラルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル基
、ハロゲン化低級アルキル基、低級アルコキシアルキル
基を表わす。従ってＲ３の基として具体的にはエチル、
プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシ
ルなどのアルキル基；フェニルメチル基、２−フェニル
エチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチ
ル基およびこれらのフェニル基上にｔａ基を有するアラ
ルキル基； アリル基、３−ブテニル基、プロパルギル基などの低級
アルケニル基および低級アルキニル基；１〜リフルオロ
メチル基、クロロメチル基などのハロゲン化低級アル１
ル基；メトキシメチル基、Ｊトキシメチル基、プロポキ
シメチル基、ブ１−キシメヂル基などの低級アルコオシ
アル４ル基などを表わず。

この発明の方法に用いる他の原料は式（Ｕ）で表わされ
る４１−１−１．３−ジオキシン−４−オン化合物であ
り、例えば、エム、１フ、キャＯ−ル（Ｍ、　Ｆ、　Ｃ
ａｒｏｌｌ　）らによって報告された方法（ジャーナル
・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサエティＬＪ　
、　Ａｍｅｒ、Ｃｈｅｍ、Ｓｏｃ、　）　、　７５゜５
４００　（１９５３）参照〕に従い、ジケテンと対応す
るケトンとから製造することができる。ジケテンとアセ
トンとの場合は、それらの混合物にパラトルエンスルホ
ン酸を少量加え、３時間還流下に保ち、ジケテンの臭気
が消失したら過剰のアセトンを留去し、生成物【ま減圧
下（２１ｏｒｒ　）に蒸留するとジケテンに対して９１
％の収率で得られる記述がある。本発明者等の検討によ
れば、上記生成物の蒸留は薄膜蒸発型の装置を用いて行
なうことを必要とし、バッチ方式の単蒸留によると所期
の成粘を１７られないことが明らかとなった９、この欠
点を回避しかつプロセスを筒中にするために、ジケテン
とアセ１〜ンとの粗反応ｑ−成物を、精製工程を賢ずに
そのままこの発明の方法の原料として用いることを検討
したところ、前記のキャロールらの方法によって精製し
た標品を用いた場合と同等の反応成績が得られることが
ｉｉｒ認された。式（Ｉ）で表わされる化合物の中で、
この発明の目的に適するものは、ジケテンと低級アルキ
ルケトンとの付加反応で得られるものであり、例えばジ
ケテンとアセトン、メチルエチルケトンあるいはメチル
インブチルケトンとの付加物が挙げられるが、実用上特
に有利に使用できるものはジケテンとアセトンとの付加
物である。

さて、前記式（Ｉ＞で表わされる化合物と式（ＩＩ）で
表わされる化合物との反応条件のうち特に考ｍｉべきも
のは、反応温度、使用する不活性溶媒の選択などである
。反応温度についてはグー。

イエーガー（Ｇ、　ＪＳｉｏｅｒ）ら〔リービツヒス・
アンナーレン・デル・ヒエミー（ｉ　１ｅｂｉ（ＩＳ　
　Ａ　ｎｎ。

Ｃｈｅｍ　、、　　）　１９７６ｑ、１６８９−１７１
２頁参照）の報への記述が一つの止釘を与える。’７１
なわちシリ５ンとアセトンとのイ４加物である２、２．
６−　トリメデル−４１−１−１，３−ジオキシン−４
−７１ンは１２０℃以上の温度に加熱するとアセミーン
とアセデルケテンとに分解覆る。従って他の４Ｈ−１，
３−ジオキシン−４−オン誘導体の場合も、同様に熱分
解の温度を目安として反応温度を設定する。実際上反応
温度は約１１０℃から約１４０℃の間である。

また式（Ｉｆ）で表わされる化合物の使用量は、式（Ｉ
）で表わされる化合物に対し、１．５〜３倍モルが望ま
しい。

次に反応に使用する不活性溶媒の選択は、化学的な反応
活性、沸点、無水溶媒の作り易さ、この発明の目的とす
る生成物の室温における溶解度などを考慮して行なう。

具体的には芳香族炭化水素系の溶媒が適しており、ベン
ゼン、１−ルエン、キシレンあるいはこれらの混合物の
使用が望ましい。

これらの溶媒の使用はまた、反応の進行に従って生成す
る下式（Ｖｌ　）で表わされるりトン類、（式中［テ′
および］（１″はＣ＋〜Ｃ４のアルキル基であり、式（
ｎ）中のＲ４およびＲ５の定義に同じ） 例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン等と共沸混合物を形成しないために、蒸留分離
操作が容易となり、上記ケトンの回収再使用に有利であ
る。反応で生成するケトンを回収しジケテンと反応させ
ることによって、前記式（ＩＩ）で表わされる４Ｈ−１
，３−ジオキシン−４−オン化合物を得ることが出来る
ので、実質的にジケテンのみの消費によって本発明の方
法は１．４−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−３＝
ピリジン力ルボキサミド化合物の製造を可能にするもの
である。

以下実施例によって、この発明をさらに具体的に説明す
る。

参名例１゜ ジケラン（３２７（］、　　３．８９　’Ｅル）、アセ
トン（２４０ｇ、　　４．１３モル）およびパラ１ヘル
Ｊンスルホン酸１丞和物（１，０（］　）を１リットル
の３つロフラスコにけり取り、撹拌機、還流冷５Ｊ器お
よび温度削を取り付（プて、撹拌しなから油浴で加熱し
た。

反応混合物の温度は２４℃から１時間後に７５℃となり
、２時間後に９０℃に１貸した。その後さらに加熱を続
（プ反応混合物の温度を９７ないし１００℃に保ち、加
熱開始から５時間後に油浴を除き、暗褐色の反応混合物
を室温にて放冷した。粗反応生成物の重量は５６４ｇで
あった。反応収率を１００％とすると、この粗反応生成
物ｉ、ｏｏｇは２，２，６．−１−リメチル−４８−１
，３−ジオキシン−４−オン６．９ｍｍｏｌを含むこと
になる。

参考例２゜ ジケテン（１１０（］、　　１１．３１モル、メチルイ
ソブチルケトン（１４５Ｇ、　　１．４８モル）および
パラトルエンスルホンＭ１水和物（０，５ｇ　＞を５０
０ミリリツトルの３つロフラスコに秤り取り、撹拌機、
還流冷動揺おＪ、び１■１を取り付【ブて、ｔｊＨ１’
Ｌなから油浴で９５ないし９８℃に１０時間加熱した。

この反応粗液の２１（］を分取しクーグル［コール蒸留
し、↑留１３．９（］　　（０，２Ｔｏｒｒ、　１０６
℃）を得た。標品はデヒドロ酢酸を含み、核磁気共鳴吸
収スベク１〜ルのシグナル槓分値から、純度９１％と推
定された。

Ｎ、Ｍ、Ｒ，シグナル（ＣＤＣＩ　ｓ　）：δ（＋１゜
０、ｍ、） ｏ、９７　　（６１−１，ｄ　、、Ｊ＝　６Ｈｚ　）、
１．６２　　（３１−１，ｓ、　）、１．９３　　（３
Ｈ，ｓ、　）、５．１３　　（ＩＨ，ｓ、　）。

実施例１゜ ２−ブチル−１，４−ジヒドロ−６−メチル−４−オキ
ソ−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリジン
カルボキサミドの合成 ３−オキソヘプタン酸アニリド２．９３　（］　　（１
３，４ｍｍｏｌ）、ベンジルアミン１．４３ｇ　（１３
，４ｍｍｏｌ＞　、酢酸２）ｌ］およびトルエン２０　
ｘｉの混合物を、撹拌しながら１．５時間還流温度に保
ち、その間に生成する水を約１２１のトルエンと共に系
外に留去した。この反応混合物を速流下に保らなから、
２，２．６−ｔ・リメチル−４１−１−１，；也−ジオ
キシン−４−７Ｉン４．７４Ｇ　（３３，４１１１ｍ０
１）の１−ル］ン（１２厭〉溶液を３０分間かけで滴下
した後、さらに　１．り萌１２！１加熱しｌζ。

反応液を室温に冷ＮＩ　Ｌｐ後、減圧下淵縮し、得らね
た有色油状物をカラムクロマ１〜グラフイーにより分離
し、題記化合物を１．７８ｇ　（収率３５．６％）得た
。

融点１３２−１３４℃ 実施例２゜ ２−ブチル−Ｎ−（２−クロロフェニル）−１，４−ジ
ヒドロ−６−メチル〜　４−オキソ−１−フェニルメチ
ル−３−ピリジンカルボキサミドの合成 Ｎ−（２−クロロフェニル）−３−オキソヘプタン酸ア
ミド３．１０ｇ　（１２，２ｍｍｏｌ＞　、ベンジルア
ミン１，３１ｏ　（１２，２ｍｍｏｌ　）　、酢酸２滴
およびトルエン２０ｉｊ（７）混合物を撹拌させながら
１．５時間遠流温度に保ちその間に生成する水を約１２
ｒ！の１−ルエンと共に系外に留去した。この反応混合
物を還流温度（こ程Ｊ）イアがら、２−丁チル−　２．
６−ジメザル−　４１＋　　１，３　　ジオ：４シン−
４−オン４．７ｈ　（３０，６１ｍｍｏｌ）を３０分間
かけ″ｃ滴下した後、ひらニ１．！＋時間加熱を続りた
。反応液を室溜１１Ｊ冷ツクした後、減Ｂ］−に淵縮し
１行られたか色浦私物をカラムクロマトグラフィーにて
精製し題記化合物をＬ５．Ｊ（収率　３１　％　）ｉ＠
　　Ｉこ　。

融点１２１−　１２３°Ｃ 実施例３゜ ２−ブブルーＮ−（２，６−ジエチルフ］ニル）−１，
４−ジヒドロ−１，６−シメチルー　４−オキソ−３−
ビリジンカルホキ勺ミドの合成 Ｎ−＜２．６−ジニチルフエニル）−３−オキソ−へブ
タン酸アミド５，８６（＋　（２１，３ｔｕ＋ｏｌ　）
をトルエン２５１！に溶解し、メチルアミン４０％水溶
液３，３１（１（４２，６ｍｌ′１ｌｏｌ　）および酢
Ｍ２滴を加えｉ’ｌにて３時間撹拌した。

次いで反応混合物を還流温度まで熱し、水分を約１５１
１のトルエンと共に系外に留去した。還流を続けながら
、２，２．６−１−リメチル−４１−１−１，３−ジＡ
キシンー４〜Ａンの２．ｆ１Ｍ＋・ルエン溶油２　Ｆｉ
　、　７１！を３０分か（Ｊて滴干し、さら＊−二４５
分間加熱を続（→だ。この間に２０１の留出物を系外に
除１、Ｌ、　７：　、、反応混合物４シｌｊ　７Ｊゲル
クロマトグラフィー（、二より分因１し、題記化合物を
３，４４０（収率４５．（ｉ％）得た。

融点９５．５−９６．０℃ 実施例４゜ １−ブチル−１，４−ジヒドロ−６−メヂルー　４−Δ
キソーＮ−フＪニル−２−プに１ビル−３−ピリジンカ
ルボキサミドの合成 ３−オキソ−ヘキサン酸アニリド４．１６（１（２０，
３ｍｍｏｌ）　、ブチルアミン２．０８（＋　（２８，
４ｍｍｏｌ　＞およびトルエン２５１！の混合物に酢酸
３敵を加え、室温で撹拌した後ゆっくりと還流温度まで
加熱した。

１．５時間の還流の間に生成する水および過剰のアミン
をトルエン約１２　ｘｉと共に系外に留出した。

さらに２，２．６−　トリメチル−４Ｈ−１，３−ジオ
キシン−４−オン７．２ｇの１〜ルエン（２０嘗り溶液
を３０分間かけて滴下し、生成づる低沸分を留出しなが
ら４５分間加熱還流を続けた後、反応液を室温下に７ｉ
５１冒した１、以下前例と同様にしτ、黄色油状物７・
ある題記化合物を　１．３９ｇ（収率２１．０％）得た
。

融点１１６・〜１１７℃ 実施例５・〜・１１゜ 対応句るβ−ケトアミドと１　Ｉ１１アミンを用い実施
例１の方法に従って反応をおこない次の化合物を得た。

１．４−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−Ｎ−フに
ルー１．２−ビス−（）■ニルメチル）−３−ピリジン
カルボキサミド（実施例５） 収率　　３６．４％ 融点　　１９０．５−１９３℃ ２−エチル−１，４−ジヒドロ−６−メチル−４−オキ
ソ−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリジン
カルボキリミド（実施例６） 収率　　３５，４％ 融点　　１５５−１５７℃ １．４−ジヒドロ−６−メチル−１−（４−メチル）Ｉ
ニルメチル）−４−オキソ−２−ベングルＮ−フェニル
−３−ピリジンカルボ−１１フミド（実施例７） 収率　　２０．０％ 融点　　　１！＋１−１５２．５℃ １．４−ジヒドロ−６−メチル−４−オキソ−２−ペン
チル−Ｎ−フェニル−１−フェニルメチル−３−ピリジ
ンカルボキサミド（実施例８）収率　　４０．０％ 融点　　１１４−１１５．５°Ｃ １−（４−クロロフェニルメチル）−１，ＩＩ−ジヒド
ロ−６−メチル−Ｎ−（２−メチルフェニル）＝４−オ
キソ−２−ペンチル−３−ピリジンカルボキサミド（実
施例９） 収率　　３　（１、６％ 融点　　１５５−１５６．５℃ Ｎ−（２−クロロフェニル）−２−エチル−１，４−ジ
ヒドロ−６−メーｆルー４Ｊ４ソー　１−フにルメチル
ー３−ピリジンカルｌトキリミド（実施例収率　　４２
．０％ 融貞　　　１７／１．！＋−１７７°０２−　（２−−
フリル）−１，４−ジヒド０−６−メヂルー４−オキソ
−Ｎ−フＪニル−１−フェニルメチル−３−ピリジンカ
ルボキサミド（実施例１１）収率　　２５％（油状） 以上実施例記載の合成によって得られた化合物の分子式
および赤外吸収スペクトル（ＩＲ）、プロトン核磁気共
鳴スペクトル（Ｉｌ−１−ＮＭＲ）のデーターを表■に
記した。なお、ＮＭＲの溶媒はＣＤＣｌ　ｓを用い、Ｉ
ＲはＫＢｒ法で測定した。

（以下余白、次頁に続く。）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式（ I ）： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中Ｒ＾１はアリール基、複素環基、シクロアルキル
   基、または第２級あるいは第３級の低級アルキル基を表
   わし、Ｒ＾２は水素原子、アリール基、複素環基、Ｃ＿
   １−Ｃ＿１＿１の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、
   低級アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
   基、低級アルキルチオ基または低級アルコキシ基を表わ
   し、Ｒ＾３はＣ＿２−Ｃ＿１＿１の直鎖状あるいは分岐
   状のアルキル基、アラルキル基、低級アルケニル基、低
   級アルキニル基、ハロゲン化低級アルキル基、低級アル
   コキシアルキル基を表わす。ｎは１ないし４の整数を表
   わす。）で表わされる化合物と、 式（II）： ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中Ｒ＾４およびＲ＾５はＣ＿１−Ｃ＿４のアルキル
   基である。） で表わされる化合物とを不活性溶媒中で加熱反応させ、 式（III）： ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびｎの定義は式（
   I ）中のものと同一） で表わされる化合物を得ることを特徴とする１，４−ジ
   ヒドロ−６−メチル−４−オキソ−３−ピリジンカルボ
   キサミド化合物の製造方法。 ２、式（II）におけるＲ＾４およびＲ＾５がメチル基、
   エチル基またはイソブチル基の化合物である特許請求の
   範囲第１項に記載の製造方法。 ３、式（II）におけるＲ＾４およびＲ＾５がともにメチ
   ル基の化合物である特許請求の範囲第１項記載の製造方
   法。 ４、式（II）の化合物が、ジケテンとアセトンとの混合
   物を約１００℃以下の温度で反応させて得られる粗反応
   液からなる特許請求の範囲第１項に記載の製造方法。 ５、式（ I ）の化合物が式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） の化合物と式（Ｖ） Ｈ＿２Ｎ（ＣＨ＿２）＿ｎＲ＾２（Ｖ） （式（IV）中のＲ＾１およびＲ＾３、式（Ｖ）中のＲ＾
   ２は各々式（ I ）中で定義されたものと同一）の化合
   物とを不活性溶媒中で脱水縮合した粗反応液からなる特
   許請求の範囲第１項に記載の製造方法。 ６、不活性溶媒がトルエンまたはキシレン又はメシチレ
   ンである特許請求の範囲第１項〜第４項の何れか１つに
   記載の製造方法。 ７、不活性溶媒がトルエンまたはキシレン又はメシチレ
   ンである特許請求の範囲第５項に記載の製造方法。 ８、不活性溶媒がトルエンである特許請求の範囲第５項
   に記載の製造方法。 ９、不活性溶媒が同一であって、トルエンである特許請
   求の範囲第１項〜第５項の何れか１つに記載の製造方法
   。 １０、反応中に生成するケトンを回収し再使用する特許
   請求の範囲第１項に記載の製造方法。 １１、式（ I ）のＲ＾１及びＲ＾２のアリール基がフ
   ェニル基または置換フェニル基の化合物である特許請求
   の範囲第１項に記載の製造方法。 １２、式（ I ）の化合物と式（II）の化合物との反応
   温度が１１０℃〜１４０℃である特許請求の範囲第１項
   に記載の製造方法。 １３、式（II）の化合物が式（ I ）の化合物に対して
   １．５〜３倍モル使用される特許請求の範囲第１項また
   は第１２項記載の製造方法。