JPS62249433A - 半導体装置 - Google Patents
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- JPS62249433A JPS62249433A JP61092014A JP9201486A JPS62249433A JP S62249433 A JPS62249433 A JP S62249433A JP 61092014 A JP61092014 A JP 61092014A JP 9201486 A JP9201486 A JP 9201486A JP S62249433 A JPS62249433 A JP S62249433A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、マザーチップを搭載する半導体装置に適用し
て有効な技術に関する。
て有効な技術に関する。
半導体装置の一つに、複数の半導体ペレット(以下単に
ペレットともいう)が取付けられたいわゆるマザーチッ
プを搭載したものがある。この半導体装置については、
特願昭59−216153明細書に詳細に説明されてい
る。
ペレットともいう)が取付けられたいわゆるマザーチッ
プを搭載したものがある。この半導体装置については、
特願昭59−216153明細書に詳細に説明されてい
る。
ところで、半導体装置の製造工程の一つに、完成された
装置の信−性向上、歩留り向上のために行う、いわゆる
エージング工程をとることがある。
装置の信−性向上、歩留り向上のために行う、いわゆる
エージング工程をとることがある。
このエージングは、通常、完成された装置を対象として
いる。
いる。
完成された半導体装置のエージングの場合、発生した不
良部分の修復グ困難である。複数個の半導体ベレットが
取付けられたマザーチップを搭載する半導体装置の場合
、不良となった半導体ペレット等の交換が可能であれば
、製造歩留りの向上が可能となるけれども、完成品エー
ジングでのそのような歩留り向上は困難である。
良部分の修復グ困難である。複数個の半導体ベレットが
取付けられたマザーチップを搭載する半導体装置の場合
、不良となった半導体ペレット等の交換が可能であれば
、製造歩留りの向上が可能となるけれども、完成品エー
ジングでのそのような歩留り向上は困難である。
本発明の目的は、マザーチップを搭載する半導体装置に
ついて、エージングを容易に行うことができる技術を提
供することにある。
ついて、エージングを容易に行うことができる技術を提
供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特 −徴
は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるで
あろう。
は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるで
あろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を節単に説明すれば、次の通りである。
を節単に説明すれば、次の通りである。
すなわち、マザーチップに、エージング等のための仮給
電を可能とする電源系電極を別個に設けるものである。
電を可能とする電源系電極を別個に設けるものである。
上記手段によれば、半導体ペレットを取付けたマザーチ
ップについて、容易に電力供給が可能となることから、
バフケージ等に収納する前に上記半導体ペレットのエー
ジングを容易に行うことができるものである。
ップについて、容易に電力供給が可能となることから、
バフケージ等に収納する前に上記半導体ペレットのエー
ジングを容易に行うことができるものである。
第1図(alは本発明による一実施例である半導体装置
を示す概略断面図であり、第1図(blは電源系電極の
拡大断面図である。第2図(a)はマザーチップのエー
ジング用の電気的接続を示す概略平面図、第2図山)は
同図(alにおけるIIB−IIB断面図である。また
、第3図はエージング装置の概略説明図である。さらに
、第4図はエージング用治具に上記マザーチップを取付
けた状態を示す拡大断面図である。
を示す概略断面図であり、第1図(blは電源系電極の
拡大断面図である。第2図(a)はマザーチップのエー
ジング用の電気的接続を示す概略平面図、第2図山)は
同図(alにおけるIIB−IIB断面図である。また
、第3図はエージング装置の概略説明図である。さらに
、第4図はエージング用治具に上記マザーチップを取付
けた状態を示す拡大断面図である。
本実施例の半導体装置では、第1図に示すようにパッケ
ージ基板1に単結晶シリコン(Si)からなる配線基板
としてのマザーチップ2が金−錫(Au−3n)共晶か
らなるような接合剤3を介して取付けられており、該マ
ザーチップ2には複数の半導体ペレット4が、半田から
なるいわゆるC、CBバンプ電極5を介して機械的に接
合されるとともに電気的に接続されている。
ージ基板1に単結晶シリコン(Si)からなる配線基板
としてのマザーチップ2が金−錫(Au−3n)共晶か
らなるような接合剤3を介して取付けられており、該マ
ザーチップ2には複数の半導体ペレット4が、半田から
なるいわゆるC、CBバンプ電極5を介して機械的に接
合されるとともに電気的に接続されている。
上記パッケージ基板1の周縁部には、ムライトのような
材料からなる枠体6が低融点ガラスからなる接合剤7を
介して取付けられており、該低融点ガラス7には外部端
子であるリード8が埋設固定されている。そして、上記
リード8の内端部と上記マザーチップの導通引出電極と
はアルミニウム等のワイヤ9を介して電気的に接続され
ている。
材料からなる枠体6が低融点ガラスからなる接合剤7を
介して取付けられており、該低融点ガラス7には外部端
子であるリード8が埋設固定されている。そして、上記
リード8の内端部と上記マザーチップの導通引出電極と
はアルミニウム等のワイヤ9を介して電気的に接続され
ている。
また、前記半導体ペレット等はキャビティ内に充填され
たシリコーンゲルからなるようなコーティング剤10で
被覆され、さらに上記キャビティは、前記枠体6の上端
にシリコーン系接着剤11で取付けられたアルミナから
なるキャップ12により封止されている。
たシリコーンゲルからなるようなコーティング剤10で
被覆され、さらに上記キャビティは、前記枠体6の上端
にシリコーン系接着剤11で取付けられたアルミナから
なるキャップ12により封止されている。
なお、前記パッケージ基板は、シリコンカーバイド(S
iC)を主成分とするセラミック材料からなるものであ
り、具体的には、たとえば特開昭57−2591号公報
に示される、シリコンカーバイド中に0.1〜3.5重
量%のベリリウムを含み、ホットプレスにより形成する
ことができる。
iC)を主成分とするセラミック材料からなるものであ
り、具体的には、たとえば特開昭57−2591号公報
に示される、シリコンカーバイド中に0.1〜3.5重
量%のベリリウムを含み、ホットプレスにより形成する
ことができる。
これは、電気絶縁性、熱伝導性に優れ、シリコンに近い
熱膨張係数を持ち、機械的強度が大きいという特性を備
えているものである。
熱膨張係数を持ち、機械的強度が大きいという特性を備
えているものである。
本実施例においては、前記マザーチップ2に、エージン
グを行うための電源系電極が設けられている。特に制限
されないが、マザーチップ状態で通電エージングを可能
とする電源系電極は、TAB (Tape AuLot
nated Bonding)技術の適用が可能なよう
に構成される。かかる電源系電極の拡大図が第1図山)
に示されている。マザーチップ2土には、蒸着アルミニ
ウムからなる配線層が形成される。アルミニウム(AI
)で形成された電源系配線層13の上に被着された二酸
化ケイ素(SiO2)からなる絶縁膜14に、上記配線
層13の所定部分を、上に導通引出用電極であるポンデ
ィングパッド15とするための開口とTAB(Tape
^utomated Bonding )に適用できる
TAB用バンブ(電源系電極)16を設けるための開口
とが設けられている。
グを行うための電源系電極が設けられている。特に制限
されないが、マザーチップ状態で通電エージングを可能
とする電源系電極は、TAB (Tape AuLot
nated Bonding)技術の適用が可能なよう
に構成される。かかる電源系電極の拡大図が第1図山)
に示されている。マザーチップ2土には、蒸着アルミニ
ウムからなる配線層が形成される。アルミニウム(AI
)で形成された電源系配線層13の上に被着された二酸
化ケイ素(SiO2)からなる絶縁膜14に、上記配線
層13の所定部分を、上に導通引出用電極であるポンデ
ィングパッド15とするための開口とTAB(Tape
^utomated Bonding )に適用できる
TAB用バンブ(電源系電極)16を設けるための開口
とが設けられている。
上記TAB用パン116は、上記絶縁膜14の選択除去
によって電源系配線層13を露出させた後、該開口部に
下から順にクロム(Cr)、!ji(Cu)および金(
Au)を積層形成した(図示せず)バンプ本体16aの
上にさらに錫(S n)層16bを被着することによっ
て形成することができる。
によって電源系配線層13を露出させた後、該開口部に
下から順にクロム(Cr)、!ji(Cu)および金(
Au)を積層形成した(図示せず)バンプ本体16aの
上にさらに錫(S n)層16bを被着することによっ
て形成することができる。
次に、上記マザーチップのエージングのための電気的接
続について説明する。本実施例においては、エージング
のための電力供給をTABによる電気的接続を介して行
うものである。
続について説明する。本実施例においては、エージング
のための電力供給をTABによる電気的接続を介して行
うものである。
すなわち、第2図(al、 fblでその一単位を示す
配線用テープ17を用いて、既にペレット4が取付けで
あるマザーチップ2の電気的接続を行う、上記テープ1
7は、図中左右に連続形成されたポリイミド樹脂等のフ
ィルム18からなる。そこには、所定形状の孔18aが
形成されており、液孔18aの領域までその一端が延在
された銅箔等からなる配線19が上記フィルム18に被
着されているものである。また、上記配線19の内端部
裏面にはバンブ19aが形成されている。そして、この
バンプ19aを、前記マザーチップ2のTAB用バンブ
16とを熱圧着して配線19との電気的接続を行うので
ある。
配線用テープ17を用いて、既にペレット4が取付けで
あるマザーチップ2の電気的接続を行う、上記テープ1
7は、図中左右に連続形成されたポリイミド樹脂等のフ
ィルム18からなる。そこには、所定形状の孔18aが
形成されており、液孔18aの領域までその一端が延在
された銅箔等からなる配線19が上記フィルム18に被
着されているものである。また、上記配線19の内端部
裏面にはバンブ19aが形成されている。そして、この
バンプ19aを、前記マザーチップ2のTAB用バンブ
16とを熱圧着して配線19との電気的接続を行うので
ある。
上記のように電気的接続を行った後、配線用テープ17
を破線部で切断し、各単位に分離し、該単位毎のエージ
ングを行う、その際、第3図にその概略を示すような装
置を使用する。
を破線部で切断し、各単位に分離し、該単位毎のエージ
ングを行う、その際、第3図にその概略を示すような装
置を使用する。
本実施例において使用するエージング装置は、エージン
グ室20を有し、そのエージング室20の上端部と下端
部には該エージング室に化学的に安定な絶縁性液体であ
るフッ素系溶剤21を循環させるためにパイプ22が連
結されている。このパイプ22の途中には、上記溶剤2
1の純化装置23および恒温装置24が接続されている
。また、エージング室20の下端近傍のパイプ22内に
はポンプ25が設置されている。
グ室20を有し、そのエージング室20の上端部と下端
部には該エージング室に化学的に安定な絶縁性液体であ
るフッ素系溶剤21を循環させるためにパイプ22が連
結されている。このパイプ22の途中には、上記溶剤2
1の純化装置23および恒温装置24が接続されている
。また、エージング室20の下端近傍のパイプ22内に
はポンプ25が設置されている。
上記エージング装置においては、電源26と電気的に接
続された搭載基板27に前記TAB方式で接続されたマ
ザーチップ2を電気的に接続して半導体ペレット4のエ
ージングを行うものである。
続された搭載基板27に前記TAB方式で接続されたマ
ザーチップ2を電気的に接続して半導体ペレット4のエ
ージングを行うものである。
このマザーチップ2の接続状態が、第4図falに拡大
して示しである。すなわち、上記搭載基板27は所定の
配線(図示せず)が形成されたプリント基板からなり、
該基板27の配線と配線用テープ17の一単位に接続さ
れた上記マザーチップ2との電気的接続は、エージング
用治具であるソケット28を介して行われる。
して示しである。すなわち、上記搭載基板27は所定の
配線(図示せず)が形成されたプリント基板からなり、
該基板27の配線と配線用テープ17の一単位に接続さ
れた上記マザーチップ2との電気的接続は、エージング
用治具であるソケット28を介して行われる。
上記ソケット28は、その裏面に上記搭載基板27の電
極孔に差し込むビン29が取付けられた所定形状の樹脂
基板30を有している。そして、その樹脂基板30の上
面には第4図世)に拡大して示すようなバンブ電極31
が形成されており、該電極31はスルーホール配線32
を介して上記ビン29と電気的に接続されている。なお
、上記バンブ電極31は、w4(Cu)31aの上にニ
ッケル(Ni)31b、さらに金(Au)31cが積層
被着されてなり、スルーホール配&I32も銅(Au)
で形成されている。
極孔に差し込むビン29が取付けられた所定形状の樹脂
基板30を有している。そして、その樹脂基板30の上
面には第4図世)に拡大して示すようなバンブ電極31
が形成されており、該電極31はスルーホール配線32
を介して上記ビン29と電気的に接続されている。なお
、上記バンブ電極31は、w4(Cu)31aの上にニ
ッケル(Ni)31b、さらに金(Au)31cが積層
被着されてなり、スルーホール配&I32も銅(Au)
で形成されている。
また、上記樹脂基板30の右端には蝶番33に接続され
た押板34が取付けられており、左端には該押板34の
端部を固定する押さえばね35が取付けられている。そ
して、前記テープ17の一単位に接続されたマザ−チッ
プ2G第4図(alに示すように樹脂基板28と上記押
板34との間に挟持し固定すると同時に電気的に接続を
行うものである。このようにすることにより、前記電源
26からマザーチップ2に取付けられている半導体ペレ
ット4にエージング用の電力を供給することができる。
た押板34が取付けられており、左端には該押板34の
端部を固定する押さえばね35が取付けられている。そ
して、前記テープ17の一単位に接続されたマザ−チッ
プ2G第4図(alに示すように樹脂基板28と上記押
板34との間に挟持し固定すると同時に電気的に接続を
行うものである。このようにすることにより、前記電源
26からマザーチップ2に取付けられている半導体ペレ
ット4にエージング用の電力を供給することができる。
上記のように複数個のマザーチップ2を取付けた後、そ
の搭載基板27をエージング室20内に第3図のように
セットする(第3図ではマザーチップ等を具体的に図示
せず、)、そして、エージング室20には所定温度、た
とえば150℃に加熱されたフッ素系溶剤21をポンプ
25で循環させる。その結果、マザーチップ2に取付け
られている半導体ペレット4のエージングを、場所によ
り偏りのない常に安定した温度でかつ酸素等(Ot)等
の影響のない状態で行うことができる。その際、フッ素
系溶剤21の浄化を前記純化装置で行い、エージング寥
20内に差し込まれた温度検知器36で検温しながらそ
の温度制御を恒温装置24で行うものである。
の搭載基板27をエージング室20内に第3図のように
セットする(第3図ではマザーチップ等を具体的に図示
せず、)、そして、エージング室20には所定温度、た
とえば150℃に加熱されたフッ素系溶剤21をポンプ
25で循環させる。その結果、マザーチップ2に取付け
られている半導体ペレット4のエージングを、場所によ
り偏りのない常に安定した温度でかつ酸素等(Ot)等
の影響のない状態で行うことができる。その際、フッ素
系溶剤21の浄化を前記純化装置で行い、エージング寥
20内に差し込まれた温度検知器36で検温しながらそ
の温度制御を恒温装置24で行うものである。
以上説明したエージングを行った後、マザーチップ2か
ら配線用テープ17を取り外し、その他席法に基づいて
本実施例の半導体装置が製造できる。
− このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
ら配線用テープ17を取り外し、その他席法に基づいて
本実施例の半導体装置が製造できる。
− このように、本実施例によれば以下の効果を得ることが
できる。
(1)、マザーチップに壬−ジング用の電源系電極を設
けることにより、マザーチップをパソケージングする前
に該マザーチップに取付けられた半導体ペレットのエー
ジングを容易に行うことが可能となる。
けることにより、マザーチップをパソケージングする前
に該マザーチップに取付けられた半導体ペレットのエー
ジングを容易に行うことが可能となる。
(2)、上記illにより、半導体装1の信頼性および
その歩留りの向上を達成できる。
その歩留りの向上を達成できる。
(3)、上記電源系電極をTAB用パン116で形成す
ることにより、TAB技術を使用できるのでマザーチッ
プとの電気的接続を容易に達成できる。
ることにより、TAB技術を使用できるのでマザーチッ
プとの電気的接続を容易に達成できる。
(4)、エージングを所定温度のフッ素系溶剤21の中
で行うことにより、場所による温度の偏りのない一定条
件下でエージング可能であるため、常に安定したエージ
ングが達成できる。
で行うことにより、場所による温度の偏りのない一定条
件下でエージング可能であるため、常に安定したエージ
ングが達成できる。
(5)、エージングを化学的に安定なフッ素系溶剤21
の中で行うことにより、マザーチップ2および半導体ペ
レット4の電極等の腐食または酸素(02)等による酸
化を防止できるので、半導体装置の信頼性を向上できる
。
の中で行うことにより、マザーチップ2および半導体ペ
レット4の電極等の腐食または酸素(02)等による酸
化を防止できるので、半導体装置の信頼性を向上できる
。
(6)、エージングの際、フッ素系溶剤21を循環させ
ることにより、エージング温度の制御を容易に行うこと
ができる。
ることにより、エージング温度の制御を容易に行うこと
ができる。
(7)、エージング装置に恒温装置24を設けることに
より、フッ素系溶剤21の加熱または冷却を正確に行う
ことができるためエージング温度を正確に制御すること
ができる。
より、フッ素系溶剤21の加熱または冷却を正確に行う
ことができるためエージング温度を正確に制御すること
ができる。
(8)、エージング装置に純化装置23を設けることに
より、常に清浄なフッ素系溶剤21の中でエージングで
きるので、エージングの信頼性を向上できる。
より、常に清浄なフッ素系溶剤21の中でエージングで
きるので、エージングの信頼性を向上できる。
(9)、エージングを行う場合、配線用テープ17の配
線19と接触可能な電極を備えたソケット28を用いる
ことにより、マザーチップ2上の半導体ペレット4への
電力供給を容易に行うことができる。
線19と接触可能な電極を備えたソケット28を用いる
ことにより、マザーチップ2上の半導体ペレット4への
電力供給を容易に行うことができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
マザーチップ2に形成された電源系電極の数、その形状
等、また該マザーチップ2に取付けられる半導体ペレッ
ト4の数等は実施例に示したものに限るものでないこと
はいうまでもない。
等、また該マザーチップ2に取付けられる半導体ペレッ
ト4の数等は実施例に示したものに限るものでないこと
はいうまでもない。
また、半導体装置、配線用テープ17、エージング装置
またはソケット28等の具体的構成、その形成材料等は
前記実施例に示したものに限るものでなく、所期の目的
を達成できるものであれば如何なるものであってもよい
。
またはソケット28等の具体的構成、その形成材料等は
前記実施例に示したものに限るものでなく、所期の目的
を達成できるものであれば如何なるものであってもよい
。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその利用分野である、いわゆるフラットパッケージ型
半導体装置に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく、たとえば、ピングリッドアレ
イ型等、マザーチップを搭載する半導体装置であればあ
らゆるものに適用できるものである。
をその利用分野である、いわゆるフラットパッケージ型
半導体装置に適用した場合について説明したが、それに
限定されるものではなく、たとえば、ピングリッドアレ
イ型等、マザーチップを搭載する半導体装置であればあ
らゆるものに適用できるものである。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記の通りである
。
すなわち、マザーチップにエージング用のiia系電極
電極けることにより、該マザーチップに取付けられてい
る半導体ペレットへの電力供給を専用の配線を介して行
うことができるので、パフケージング前のマザーチップ
上の半導体装置について容易にエージングを行うことが
できる。したがって、良品半導体ベレットが取付けられ
たマザーチップのみを用いて半導体装置を製造できるの
でその信頼性および歩留りを大巾に向上できる。
電極けることにより、該マザーチップに取付けられてい
る半導体ペレットへの電力供給を専用の配線を介して行
うことができるので、パフケージング前のマザーチップ
上の半導体装置について容易にエージングを行うことが
できる。したがって、良品半導体ベレットが取付けられ
たマザーチップのみを用いて半導体装置を製造できるの
でその信頼性および歩留りを大巾に向上できる。
第1図(alは本発明による一実施例である半導体装置
を示す概略断面図、 第1図山1は電源系電極の拡大断面図、第2図(alは
マザーチップのエージング用の電気的接続を示す概略平
面図、 第2図山)は同図+a)におけるIIB−IIB断面図
、を取付けた状態を示す拡大断面図である。 1・・・パッケージ基板、2・・・マザーチップ、3・
・・金−錫(Au−3n)共晶、4・・・半導体ペレッ
ト、5・・・CCBバンブ、6・・・枠体、7・・・低
融点ガラス、8・、・リード、9・・・ワイヤ、10・
・・シリコーンゲル、11・・・シリコーン系接着剤、
12・・・・キャップ、13・・・電源系配線層、14
・・・絶縁膜、15・・・ポンディングパッド、16・
・・TAB用バンプ(ii源系電極)、16a・・・バ
ンプ本体、16b・・・錫(S n)層、17・・・配
線用テープ、18・・・フィルム、18a・・・孔、1
9・・・配線、19a・・・バンプ、20・・・エージ
ング室、21・・・フッ素系溶剤、22・・・パイプ、
23・・・純化装置、24・・・恒温装置、25・・・
ポンプ、26・・・電源、27・・・搭載基板、28・
・・ソケット、29・・・ピン、30・・・樹脂基板、
31・・・バンプti、31a−=銅(Cu) 、31
b・・・ニッケル(Ni)、31C・・・金(Au)、
32・・・スルーホール配線、33・・・蝶番、34・
・・押板、35・・・押さえば第 1 図 (b) IC−丁AB PPlハパ〉フ。
を示す概略断面図、 第1図山1は電源系電極の拡大断面図、第2図(alは
マザーチップのエージング用の電気的接続を示す概略平
面図、 第2図山)は同図+a)におけるIIB−IIB断面図
、を取付けた状態を示す拡大断面図である。 1・・・パッケージ基板、2・・・マザーチップ、3・
・・金−錫(Au−3n)共晶、4・・・半導体ペレッ
ト、5・・・CCBバンブ、6・・・枠体、7・・・低
融点ガラス、8・、・リード、9・・・ワイヤ、10・
・・シリコーンゲル、11・・・シリコーン系接着剤、
12・・・・キャップ、13・・・電源系配線層、14
・・・絶縁膜、15・・・ポンディングパッド、16・
・・TAB用バンプ(ii源系電極)、16a・・・バ
ンプ本体、16b・・・錫(S n)層、17・・・配
線用テープ、18・・・フィルム、18a・・・孔、1
9・・・配線、19a・・・バンプ、20・・・エージ
ング室、21・・・フッ素系溶剤、22・・・パイプ、
23・・・純化装置、24・・・恒温装置、25・・・
ポンプ、26・・・電源、27・・・搭載基板、28・
・・ソケット、29・・・ピン、30・・・樹脂基板、
31・・・バンプti、31a−=銅(Cu) 、31
b・・・ニッケル(Ni)、31C・・・金(Au)、
32・・・スルーホール配線、33・・・蝶番、34・
・・押板、35・・・押さえば第 1 図 (b) IC−丁AB PPlハパ〉フ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、パッケージに収納される前の状態において仮接続を
可能とするエージング用の電源系電極が形成されたマザ
ーチップを搭載してなる半導体装置。 2、上記電源系電極がTAB用電極であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61092014A JPS62249433A (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61092014A JPS62249433A (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62249433A true JPS62249433A (ja) | 1987-10-30 |
Family
ID=14042653
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61092014A Pending JPS62249433A (ja) | 1986-04-23 | 1986-04-23 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62249433A (ja) |
-
1986
- 1986-04-23 JP JP61092014A patent/JPS62249433A/ja active Pending
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