JPS62246446A - 真空チヤツク装置 - Google Patents

真空チヤツク装置

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Publication number
JPS62246446A
JPS62246446A JP8749486A JP8749486A JPS62246446A JP S62246446 A JPS62246446 A JP S62246446A JP 8749486 A JP8749486 A JP 8749486A JP 8749486 A JP8749486 A JP 8749486A JP S62246446 A JPS62246446 A JP S62246446A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
housing
spin
shaft
rotary shaft
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8749486A
Other languages
English (en)
Inventor
Takashi Uchimura
内村 孝志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Machine Co Ltd filed Critical Toshiba Machine Co Ltd
Priority to JP8749486A priority Critical patent/JPS62246446A/ja
Publication of JPS62246446A publication Critical patent/JPS62246446A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) 本発明は、たとえば、基板チャック上に基板を真空圧に
より吸着させ、これを高速回転させてレジスト膜を均一
的に塗布するためのスピンコータ、あるいは、露光後の
基板に現像液をがけて現像を行なうためのスピンデベロ
ッパー、さらには、基板をブラシや洗浄液で洗浄するた
めのスピンスクラバーなどに用いられる真空チャック装
置に関する。
(従来の技術) 一般に、この種の真空チャック装置はスピンモータのス
ピン軸にジャケット部を介して真空圧供給源を接続し、
この真空圧供給源により上記スピン軸の吸引孔を介して
基板チャックに真空圧を供給し、基板を真空チャックす
るようになっている。上記ジャラケット部はハウジング
を有し、このハウジング内に上記スピン軸を回転自在に
嵌合させてハウジングの内面とスピン軸の外周面との間
をシールするシールブツシュが設けられている。
ところで、上記スピン軸は高速回転するため、接触部分
があると、接触摩擦により、発熱、摩耗、焼付等のトラ
ブルの危険性がある。このため、上記スピン軸とシール
ブツシュとの間には適度の隙間が持たされ、非接触状態
を確保すように注意が払われてる。上記シールブツシュ
はジャッケト部のハウジングに固定され、ハウジングは
シールブツシュがスピン軸と滑合するよう芯出固定され
ている。このハウジングの取付けに際しては芯出精度を
高めるため、治具を用いて入念に組立て調整を行ない、
かつ、スピン軸の回転振れよるシールブツシュの内壁と
の片当りを馴すため、組立後馴し運転を行ない、片当た
りを取っているが実状である。スピン軸とシールブツシ
ュとの隙間からのリークによる真空圧の低下を最少限に
止どめるため隙間は可能な限り小さくする必要がある。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、従来においては、スピン軸の回転時の振
れやハウジングの取付は精度その他の結合された精度上
のばらつきに起因して、実用的には0.02〜0.03
1u程度の隙間に維持するのが限界である。したがって
、得られる真空圧は真空発生源の真空圧より20%〜3
0%減の真空圧であり、効率が悪くのその改善が望まれ
ている。
本発明は上記事情に着目してなされたもので、その目的
とするところは、回転軸の回転振れ、さらに精度上のば
らつきを吸収し、回転軸とシール部材との間の隙間を極
力小さくできるようにした真空チャック装置を提供しよ
うとするものである。
〔発明の構成〕
(問題点を解決するための手段) 本発明は上記問題点を解決するために、ハウジングを移
動0在に設けたことを特徴とするものである。
(作用) 駆動モータにより回転軸が回転され、軸振れを生じると
、この軸振れに応じてハウジングが移動し、回転軸とシ
ール部材間の接触による面圧を一定化する。
(実施例) 以下、本発明を第1図および第2図に示す一実施例を参
照して説明する。図中1は駆動モータとしてのスピンモ
ータで、このスピンモータ1はベースBに固定されてい
る。このスピンモータ1は中空状のスピン軸2を冑し、
このスピン軸2の上端部には基板13をiazする基板
チャック3が固定装着されている。また、上記基板チャ
ック3の上面部には真空吸着用の溝3a・・・が形成さ
れ、これら満3a・・・はスピン軸2の中空穴(吸引孔
)2aと連通している。上記スピン軸2の下端部にはジ
ャッケト部4が設置されている。前記ジャッケト部4は
ハウジング5、シールブツシュ(シール部材)6、スペ
ーサ7および締結部材8,8とで構成されている。上記
シールブツシュ6は上記ハウジング5内に固定的に設け
られ、上記スピン軸2を回転自在に嵌合させている。上
記ハウジング5は締結部材8.8によりスペーサ7.7
を介して上記スピンモータ1の下端面に取付けられ、こ
のスピンモータ1の下端面と上記ハウジング5の上面部
間すなわち、シールブツシュ6の大気側には外部空気が
流通する隙間12が形成されている。上記スペーサ7.
7はハウジング5の動きが軽く、滑らかになるように摩
擦係数の小さい材料によって成形されている。上記シー
ルブツシュ6は無潤滑で使用可能な軸受材質の材料が用
いられている。上記ハウジング5は上記スピン軸2の径
方向および軸方向に移動できるように上記締結部材8.
8との間に隙間を持って取付けられている。
さらに、上記ハウジング5の下端面には継ぎ手10およ
び真空圧供給手段Kを構成する可とう性の接続配管11
を介して真空圧発生源(図示しない)が接続されている
しかして、真空圧発生源より真空圧が供給されると、真
空圧は接続バイブ11および継ぎ手1゜を介してハウジ
ング5内に供給されるとともに、スピン軸2の吸引孔2
aを介して基板チャック3の吸着用溝3a・・・に供給
され、基板チャック3上に基板13が真空チャックされ
ることになる。このとき、ハウジング5の内部5aは真
空圧であるため、スピン軸2の存在による差圧により、
ハウジング5はスピン軸2に沿って自動調芯作用しつつ
スペーサ7.7側に押付けられる。しかるのち、スピン
モータ1によりスピン軸2が回転されて基板チャック3
が回転される。この回転時にスピン軸2が軸振れすると
、シールブツシュ6を介してハウジング5がラジアル方
向に移動する。したがって、スピン軸2とシールブツシ
ュ6との間の接触による面圧の変化は少なく、現実的に
は0.002〜0.003.uの隙間でも可能である。
上述した構成によれば、スピン軸2とシールブツシュ6
との隙間はスピン軸2の振れ、さらに精度上のばらつき
に影響されず、極力小さくするこが可能であり、隙間か
らのリークを最小限に押えることができる。
また、スピンモータ1とハウジング5の間の隙間には外
部空気が流通されているため、大気圧に保たれスピンモ
ータ1とシールブツシュ6との間の隙間12によるリー
クの流れは隙間12を過つて流れる矢印ハの方向のみで
ある。したがって、スピンモータ1の内部からスピン軸
2の外周部を通っての矢印二で示すような流れはなく、
スピンモータ1の内部の雰囲気を外部に流出させること
がなく、クリーンな雰囲気に保てる。
なお、上記一実施例においては、ジャケット部4をスピ
ン軸2の下端部に接続したが、これに限られず、第3図
および第4図に示すように、ジャケット部4をスピン軸
2の中間部に接続しても、」−記一実施例と同様な作用
効果を奏する。この実施例においては、ハウジング5内
にシールブツシュ6が上下に2個配設され、これらシー
ルブツシュ6.6間から真空圧が供給される。
その他、本発明はその要旨の範囲内で種々変形実施可能
なことは勿論である。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、回転軸の回転時
に該回転軸が振れると、その振れに伴ってハウジングが
移動し、回転軸がシール部材の内面部に強く片当たりす
ることがない。したがって、回転軸の回転振れ、さらに
精度上のばらつきを吸収することができ、回転軸とシー
ル部材との間の隙間を0.005〜0.0111I11
程度に減少させて、シール効果を向上させることができ
、真空圧の低下を5〜10%程度に低減させることがで
る。しかも、面倒な組立て調整作業や馴し運転等もいら
ないという効果を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である真空チャック装置を示
す構成図、第2図はその一部を拡大して示す断面図、第
3図は本発明の他の実施例を示す構成図、第4図はその
一部を拡大して示す断面図である。 1・・・駆動モータ、2a・・・吸引孔、2・・・回転
軸、3・・・基板チャック、5・・・ハウジング、6・
・・シールブツシュ(シール部材)、13・・・基板、
K・・・真空圧供給手段。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板チャックに連通する吸引孔を有した回転軸を
    回転させる駆動モータと、前記回転軸を内部に挿入させ
    るハウジングと、このハウジング内に設けられ前記回転
    軸の一部を回転自在に嵌合させ該回転軸とハウジングと
    の間をシールするシール部材と、上記ハウジングに接続
    され上記回転軸の吸引孔に真空圧を供給し、上記基板チ
    ャック上に基板を真空チャックさせる真空圧供給手段と
    を備えてなるものにおいて、上記ハウジングを移動自在
    に設けたことを特徴とする真空チャック装置。
  2. (2)ハウジングは回転軸の径方向および軸方向に沿っ
    て移動自在であることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載の真空チャック装置。
  3. (3)シール部材の大気側に外部空気を流通させる隙間
    を形成したことを特徴とする特許請求の範囲第1項また
    は第2項記載の真空チャック装置。
JP8749486A 1986-04-16 1986-04-16 真空チヤツク装置 Pending JPS62246446A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8749486A JPS62246446A (ja) 1986-04-16 1986-04-16 真空チヤツク装置

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8749486A JPS62246446A (ja) 1986-04-16 1986-04-16 真空チヤツク装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62246446A true JPS62246446A (ja) 1987-10-27

Family

ID=13916512

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8749486A Pending JPS62246446A (ja) 1986-04-16 1986-04-16 真空チヤツク装置

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JP (1) JPS62246446A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101311012B1 (ko) * 2013-06-25 2013-09-24 영 진 이 진공 흡착 작업대

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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