JPS6224221A - レ−ザマ−キング装置 - Google Patents

レ−ザマ−キング装置

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Publication number
JPS6224221A
JPS6224221A JP60164607A JP16460785A JPS6224221A JP S6224221 A JPS6224221 A JP S6224221A JP 60164607 A JP60164607 A JP 60164607A JP 16460785 A JP16460785 A JP 16460785A JP S6224221 A JPS6224221 A JP S6224221A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
laser
total reflection
marking device
reflection mirror
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60164607A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichi Kuzushiro
葛城　誠一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP60164607A priority Critical patent/JPS6224221A/ja
Publication of JPS6224221A publication Critical patent/JPS6224221A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、レーザマーキング装置の改良に関する。
〔背景技術とその問題点〕
従来、レーザマーキング装置は第３図に示すように構成
され、レーザ発振器１、全反射ミラー３、マスク板４、
レンズ５、被加工物６が順次所定間隔で配設されてなっ
ている。動作時に　　　　□は、レーザ発振器１よシ出
射されたレーザ光２　　　　′は、全反射きラー３にて
反射伝送され、文字なとがくシぬかれている薄いマスク
板４を通過する。そして、くシぬかれた文字などの像は
、レ　　　　゛ンズ５にて被加工物６上に結像し、マス
ク板４にくシぬかれた文字などがマーキングされる。
ところが、上記のような従来のレーザ発振器　　　　□
ング装置では、レーザ光２のビームは第２図（ａ）に示
すように矩形をしておシ、その断面の強度は第２図（ｂ
）に示すように、一様でない。従って、そのままのレー
ザ光をマスク板４に照射すると、被加工物６上へのマー
キングの深さが、中心では深く、周辺で−は浅くなシ、
鮮明度が場所によシ異なってしまう。
〔発明の目的〕
この発明の目的は、レーザ発振器から出射されたレーザ
光のビーム強度を広範囲に亘って一様にする光学系を設
け、マーキングの鮮明度を一様にし、マーキングの効率
を著しく向上したレーザマーキング装置を提供すること
である。
〔発明の概要〕
この発明は、レーザ発振器から出射されたレーザ光を、
複数の全反射ミラー電；て反射伝送させることにより、
レーザ光の強度を広範囲に亘って一様にしたレーザマー
キング装置である＠〔発明の実施例〕 この発明のレーザマーキング装置は第１図に示すように
構成され、従来例と同一箇所には同一符号を付すことに
する。
即ち、レーザ発振器１から出射されるレーザ光２の光軸
上に、シリンドリカル凸面全反射ミラー７が上記光軸に
対し４５度傾斜して配設されている。更に上記光軸と直
角な光軸上に上記全反射ミラー７と所定間隔を置いて、
シリンドリカル凹面全反射ミラー８が上記光軸に対し４
５度傾斜して配設されている。更：：上記光軸と直角な
光軸上に、上記シリンドリカル凹面全反射ミラー８と所
定間隔を置いて、文字などがくシぬかれている薄いマス
ク板４、レンズ５、被加工物６が順次所定間隔を置いて
配設されている。
そして動作時には、レーザ発振器１から出射されたレー
ザ光２は、シリンドリカル凸面全反射ミラー７にて反射
伝送されて光軸を変えると共に、レーザ光の一方向のみ
広げられて、シリンドリカル凹面全反射ミラー８に入射
する。次に、このシリンドリカル凹面全反射ミラー８に
て、一方向に広げられたレーザ光９を平行光線に戻し、
一様な強度分布を持ったレーザ光１０を得る。このレー
ザ光１０は、マスク板４に照射し、レンズ５にて被加工
物６上にマスク板４の像が結像される。
尚、この発明のレーザマーキング装置におけるレーザ光
の強度分布を第２図（Ｃ）に示す。又、既述のように、
第２図（ａ）は、レーザ光２のビーム形状を示し、同図
（ｂ）はレーザ光２の横方向、縦方向の強度分布を示し
ている。
〔発明の変形例〕
上記実施例：：おいて、シリンドリカル凸面全反射ミラ
ー７の中心部のみを凸面にし、周辺部を平面にすれば、
レーザ光２の強度が強い中心部のみ広げられるので、レ
ーザ光の分散が少なくなる。
〔発明の効果〕
この発明によれば、レーザ発振器１から出射されたレー
ザ光の強度が広い範囲に亘って一様になるので、マーキ
ングの鮮明度を一様にすることが出来る。更に、その結
果、マーキングに要する１見当シのレーザ光のエネルギ
ーを減らすことも出来、又、同じレーザ光のエネルギー
にて、従来よシ広いマーキングを行なうことが出来、マ
ーキングの効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
第１図はこの発明の一実施例に係るレーザマーキング装
置を示す概略構成図、第２図（ａ）、（ｂ）、（Ｃ）は
従来及びこの発明のレーザマーキング装置におけるレー
ザ光のビーム形状、レーザ光の横方向、縦方向の強度分
布を示す特性図、第３図は従来のレーザマーキング装置
を示す概略構成図である。 １・・・レーザ発振器、２・・・レーザ光、４・・・マ
スク板、５・、・・レンズ、６・・・被加工物、７・・
・シリンドリカル凸面全反射ミラー、８・・・シリンド
リカル凹面全反射ミラー、９・・・レーザ光、１０・・
・レーザ光。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）レーザ発振器から出射されたレーザ光を全反射ミ
    ラーにて反射伝送させ、更にマスク板を通して被加工物
    にマーキングするレーザマーキング装置において、 上記全反射ミラーは複数からなり、この複 数の全反射ミラーにて反射伝送させることにより、レー
    ザ光の強度分布を広範囲に亘り一様にすることを特徴と
    するレーザマーキング装置。
  2. （２）上記複数の全反射ミラーのうち、少なくとも一つ
    はシリンドリカル凸面全反射ミラーであり、少なくとも
    一つはシリンドリカル凹面全反射ミラーである特許請求
    の範囲第１項記載のレーザマーキング装置。
JP60164607A 1985-07-25 1985-07-25 レ−ザマ−キング装置 Pending JPS6224221A (ja)

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JPS6224221A true JPS6224221A (ja) 1987-02-02

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01104364U (ja) * 1987-12-28 1989-07-13

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01104364U (ja) * 1987-12-28 1989-07-13
JPH0523348Y2 (ja) * 1987-12-28 1993-06-15

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