JPS62239045A - 画像中における粒子像分析方法 - Google Patents
画像中における粒子像分析方法Info
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- JPS62239045A JPS62239045A JP8360986A JP8360986A JPS62239045A JP S62239045 A JPS62239045 A JP S62239045A JP 8360986 A JP8360986 A JP 8360986A JP 8360986 A JP8360986 A JP 8360986A JP S62239045 A JPS62239045 A JP S62239045A
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- OMOVVBIIQSXZSZ-UHFFFAOYSA-N [6-(4-acetyloxy-5,9a-dimethyl-2,7-dioxo-4,5a,6,9-tetrahydro-3h-pyrano[3,4-b]oxepin-5-yl)-5-formyloxy-3-(furan-3-yl)-3a-methyl-7-methylidene-1a,2,3,4,5,6-hexahydroindeno[1,7a-b]oxiren-4-yl] 2-hydroxy-3-methylpentanoate Chemical compound CC12C(OC(=O)C(O)C(C)CC)C(OC=O)C(C3(C)C(CC(=O)OC4(C)COC(=O)CC43)OC(C)=O)C(=C)C32OC3CC1C=1C=COC=1 OMOVVBIIQSXZSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は分析装置又は搬像装置により得られる分析対象
像中の粒子数を自動的に計数する方法に関する。
像中の粒子数を自動的に計数する方法に関する。
［従来の技術］
鉄鋼等の表面の分析にＸ線マイクロアナライザが広範に
使用されている。特に最近では、鉄鋼等の表面を、コン
ピュータ制御のもとて電子線により二次元的にデジタル
走査し、その際得られる反射電子検出信号を各画素毎に
デジタル値としてメモリに記憶させ、この記憶データに
基づいて画像を表示するようにしている。通常、鉄鋼表
面には各特定物質Ａ、Ｂ、・・・より成る粒子が存在す
るが、特定物質Δ、Ｂ、・・・毎に反則電子の強面は異
なるため、前記画像表示にあたって、前記各画素のデジ
タル値を物質Ａ、Ｂ、・・・に応じてｎ個に吊子化する
と共に、各量子化された各位に異なった輝度（又はカラ
ー）を割り当てて、物質Ａ、Ｂ、・・・の粒子の存在が
異なった輝度（又はカラー）で弁別できるように画像表
示している。
使用されている。特に最近では、鉄鋼等の表面を、コン
ピュータ制御のもとて電子線により二次元的にデジタル
走査し、その際得られる反射電子検出信号を各画素毎に
デジタル値としてメモリに記憶させ、この記憶データに
基づいて画像を表示するようにしている。通常、鉄鋼表
面には各特定物質Ａ、Ｂ、・・・より成る粒子が存在す
るが、特定物質Δ、Ｂ、・・・毎に反則電子の強面は異
なるため、前記画像表示にあたって、前記各画素のデジ
タル値を物質Ａ、Ｂ、・・・に応じてｎ個に吊子化する
と共に、各量子化された各位に異なった輝度（又はカラ
ー）を割り当てて、物質Ａ、Ｂ、・・・の粒子の存在が
異なった輝度（又はカラー）で弁別できるように画像表
示している。
［発明が解決しようとする問題点］
ところで、鉄鋼中の一定領域中に介在する前記粒子の数
を特定物質毎に計数しで得られる情報は、鉄鋼の特性を
知る上で極めて重要である。
を特定物質毎に計数しで得られる情報は、鉄鋼の特性を
知る上で極めて重要である。
従来、このような情報を得るため、前記輝瘍（又はカラ
ー）画像を観察して各特定物質Ａ、Ｂ・・・の粒子数を
目視にＪ：すＪ！数していた。そのため、計数に時間が
かかり、又、計数値に誤差が生じ易かった。
ー）画像を観察して各特定物質Ａ、Ｂ・・・の粒子数を
目視にＪ：すＪ！数していた。そのため、計数に時間が
かかり、又、計数値に誤差が生じ易かった。
本発明は、このような従来の欠点を解決し、上記各物質
の粒子数のように、異なったレベルの信号によって映像
化される粒子の個数を、各量子レベルの粒子像毎に弁別
して自動計数することのできる画像中における粒子像分
析方法を提供することを目的としている。
の粒子数のように、異なったレベルの信号によって映像
化される粒子の個数を、各量子レベルの粒子像毎に弁別
して自動計数することのできる画像中における粒子像分
析方法を提供することを目的としている。
［問題点を解決するための手段１
そのため、本発明は分析又は搬像装置により像を取得し
、該像を構成する各画素の画像データに基づいて該画像
中の粒子像を分析する方法において、原画像データを第
１のＩｆレベルと比較することにより２値化して第１種
画像データを求め、前記原画像データを前記第１の基準
レベルと第２の基準レベルとの間の値をとるか否かによ
り２値化して第２種画像データを求め、該第２種画像デ
ータに基づいて該第２種画像中の各粒子像を前記第１．
第２の基準レベルの間の値をとる粒子像が消失する程度
まで縮小して粒子縮小処理画像データを求め、前記第１
種画像データに基づいて該画像中の粒子像の個数を自動
的に計数すると共に、前記縮小処理画像データに基づい
て該縮小処理画像中の粒子像の個数を自動的に計数する
ことを特徴としている。
、該像を構成する各画素の画像データに基づいて該画像
中の粒子像を分析する方法において、原画像データを第
１のＩｆレベルと比較することにより２値化して第１種
画像データを求め、前記原画像データを前記第１の基準
レベルと第２の基準レベルとの間の値をとるか否かによ
り２値化して第２種画像データを求め、該第２種画像デ
ータに基づいて該第２種画像中の各粒子像を前記第１．
第２の基準レベルの間の値をとる粒子像が消失する程度
まで縮小して粒子縮小処理画像データを求め、前記第１
種画像データに基づいて該画像中の粒子像の個数を自動
的に計数すると共に、前記縮小処理画像データに基づい
て該縮小処理画像中の粒子像の個数を自動的に計数する
ことを特徴としている。
［実施例］
以下、図面に基づき本発明の実施例を詳述する。
第２図は本発明を実施するための装置を例示するための
もので、図中１は電子銃であり、電子銃１よりの電子線
ＥＢは集束レンズ３により細く集束されて試料４に照ｑ
４される。試料４は試料ステージ５上に載置されており
、試料ステージ５は駆動機構６により水平方向に移動で
きるようになっている。７は偏向器であり、偏向器７に
は走査回路８より走査信号が送られる。２は反射電子検
出信号号り、検出器２よりの信号は反身・１電子検出回
路９において増幅及びＡＩ）変換処理を受けて、第１の
画像メモリ１０に送られる。第１の画像メモリ１０には
前記走査回路８より走査に同期した信号が送られている
。１３は付属するメモリ１４を有する中央演算処理装置
であり、中央演算処理装置１３には前記第１の画像メモ
リ１０と共に第２゜第３の画像メモリ１１．１２が接続
されている。
もので、図中１は電子銃であり、電子銃１よりの電子線
ＥＢは集束レンズ３により細く集束されて試料４に照ｑ
４される。試料４は試料ステージ５上に載置されており
、試料ステージ５は駆動機構６により水平方向に移動で
きるようになっている。７は偏向器であり、偏向器７に
は走査回路８より走査信号が送られる。２は反射電子検
出信号号り、検出器２よりの信号は反身・１電子検出回
路９において増幅及びＡＩ）変換処理を受けて、第１の
画像メモリ１０に送られる。第１の画像メモリ１０には
前記走査回路８より走査に同期した信号が送られている
。１３は付属するメモリ１４を有する中央演算処理装置
であり、中央演算処理装置１３には前記第１の画像メモ
リ１０と共に第２゜第３の画像メモリ１１．１２が接続
されている。
中央演算処理装置１３には試料ステージ制御回路１７も
接続されており、試料ステージ制御回路１７は中央演算
処理装置１３よりの信号に基づいて駆動機構６を稼働さ
せる。中央演算処理装置１３には操作中１５と共に、分
析画像や計数値データを表示するためのＣＲＴ１６が接
続されている。
接続されており、試料ステージ制御回路１７は中央演算
処理装置１３よりの信号に基づいて駆動機構６を稼働さ
せる。中央演算処理装置１３には操作中１５と共に、分
析画像や計数値データを表示するためのＣＲＴ１６が接
続されている。
、 このような構成の装置を用いて、走査回路８より偏
向器７に走査信号を送って電子線ＥＢにより試１１４を
二次元的に走査する。その結果、この走査に伴って第３
図（ａ）に示す画像に対応した原画像データＳ （ｘ、
ｙ）が第１の画像メモリ１０に記憶されたとする。尚、
第３図（ａ）の横断線” Ｕに対応した反射電子検出信
号の値は第４図に示すものであるとする。中央演算処理
装置１３は予め組まれたプログラムに従って、第１図の
フローチャートのステップ１に示すように、まず、第１
の画像メモリ１０に記憶されている原画像データｓ（ｘ
、ｙ）を読み出し、第４図に示す第１の基準レベル１−
１と各画素の値を比較して２値化した後、第２の画像メ
モリ１１に転写し、第１種画像データα（ｘ、ｙ）をメ
モリ１１に記憶させる。
向器７に走査信号を送って電子線ＥＢにより試１１４を
二次元的に走査する。その結果、この走査に伴って第３
図（ａ）に示す画像に対応した原画像データＳ （ｘ、
ｙ）が第１の画像メモリ１０に記憶されたとする。尚、
第３図（ａ）の横断線” Ｕに対応した反射電子検出信
号の値は第４図に示すものであるとする。中央演算処理
装置１３は予め組まれたプログラムに従って、第１図の
フローチャートのステップ１に示すように、まず、第１
の画像メモリ１０に記憶されている原画像データｓ（ｘ
、ｙ）を読み出し、第４図に示す第１の基準レベル１−
１と各画素の値を比較して２値化した後、第２の画像メ
モリ１１に転写し、第１種画像データα（ｘ、ｙ）をメ
モリ１１に記憶させる。
即ち、Ｘ、ｙを各画素の位置を表わすパラメータとする
とき、α（ｘ、ｙ）は下式に従って変換され、第２の画
像メモリ１１には第３図（ｂ）に示す画像に対応したデ
ータが記憶される。
とき、α（ｘ、ｙ）は下式に従って変換され、第２の画
像メモリ１１には第３図（ｂ）に示す画像に対応したデ
ータが記憶される。
α（Ｘ、Ｖ）＝１（黒）：Ｓ （ｘ、ｙ）≧Ｌ１ａ（ｘ
、ｙ）＝Ｏ（白）：Ｓ （ｘ、Ｖ）＜１１次に中央演算
処理装置１３は第１図のステップ２に示すように、第２
の画像メモリ１１に記憶された第１種画像データα（ｘ
、ｙ）に基づいて黒レベル画素によって形成される粒子
の個数Ｎａを計数してメモリ１４に記憶させると共に、
これら各粒子の面積の和Ｍａも計数してメモリ１４に記
憶させる。次に第１図のフローチャートのステップ３に
示すように、中央演算処理装置１３は第１の画像メモリ
１０に記憶されている原画像データＳ （ｘ、ｙ）を読
み出して、各画素のデータを前記第１の基準レベルＬ１
及び第４図における第２の基準レベルＬ２と比較し、第
２種画像データβ（ｘ、ｙ）に変換する。即ち、画像デ
ータβ（ｘ ’＋ｙ）は原画像データＳ （ｘ、ｙ）に
基づいて下式に従って求められる。
、ｙ）＝Ｏ（白）：Ｓ （ｘ、Ｖ）＜１１次に中央演算
処理装置１３は第１図のステップ２に示すように、第２
の画像メモリ１１に記憶された第１種画像データα（ｘ
、ｙ）に基づいて黒レベル画素によって形成される粒子
の個数Ｎａを計数してメモリ１４に記憶させると共に、
これら各粒子の面積の和Ｍａも計数してメモリ１４に記
憶させる。次に第１図のフローチャートのステップ３に
示すように、中央演算処理装置１３は第１の画像メモリ
１０に記憶されている原画像データＳ （ｘ、ｙ）を読
み出して、各画素のデータを前記第１の基準レベルＬ１
及び第４図における第２の基準レベルＬ２と比較し、第
２種画像データβ（ｘ、ｙ）に変換する。即ち、画像デ
ータβ（ｘ ’＋ｙ）は原画像データＳ （ｘ、ｙ）に
基づいて下式に従って求められる。
β（ｘ、 Ｖ） −１： Ｓ （ｘ、 ｙ） ＜１−
１０つＳ （ｘ、ｙ）≧１−２ β（ｘ、 ｙ）−０： Ｓ （ｘ、Ｖ）≧Ｌ１又はＳ
（ｘ、ｙ）＜１２ その結果、第２の画像メモリ１１には第３図（Ｃ）の画
像に対応するデータが記憶される。次に第１図のフロー
チャートのステップ４に示されるように、中央演算処理
装置１３は第２の画像メモリ１１に記憶されている第２
種画像データβ（ｘ、ｙ）に基づいて、その粒子像の縮
小処理を行なう。即ち、第２種画像において粒子像を形
成する各黒レベル画素を白レベル画素に接する部分から
等方向に順次白レベル画素に変えて行く。この縮小処理
は、第１．第２の基準レベルの間の値をとるリング状の
粒子像のみ消失する程度まで行なう。この縮小処理によ
り、第３図（ｄ）に示す画像に対応した粒子像縮小処理
画像データρ（Ｘ。
１０つＳ （ｘ、ｙ）≧１−２ β（ｘ、 ｙ）−０： Ｓ （ｘ、Ｖ）≧Ｌ１又はＳ
（ｘ、ｙ）＜１２ その結果、第２の画像メモリ１１には第３図（Ｃ）の画
像に対応するデータが記憶される。次に第１図のフロー
チャートのステップ４に示されるように、中央演算処理
装置１３は第２の画像メモリ１１に記憶されている第２
種画像データβ（ｘ、ｙ）に基づいて、その粒子像の縮
小処理を行なう。即ち、第２種画像において粒子像を形
成する各黒レベル画素を白レベル画素に接する部分から
等方向に順次白レベル画素に変えて行く。この縮小処理
は、第１．第２の基準レベルの間の値をとるリング状の
粒子像のみ消失する程度まで行なう。この縮小処理によ
り、第３図（ｄ）に示す画像に対応した粒子像縮小処理
画像データρ（Ｘ。
ｙ）が第３の画像メモリ１２に記憶される。そこで、中
央演算処理装置１３は第１図のフローチャートのステッ
プ５に示すように、粒子縮小処理画像データρ（ｘ、ｙ
）に基づいて各粒子像を前記縮小を相殺するだけ拡大し
、第３図（ｅ）に示す粒子拡大処理画像データε（ｘ、
ｙ）を求め、第２の画像メモリ１１に記憶させる。次に
、第１図のステップ６に示すように、中央演算処理装置
１３は粒子拡大処理画像データε（ｘ、ｙ）に基づいて
黒レベル画素の集合によって形成される粒子像の数Ｎｂ
と、各粒子像の面積の和Ｍｂを計数してメモリ１４に記
憶させる。そこで、第１図のステップ７に示すように、
中央演算処理装置１３はメモリ１４に記憶させておいた
前記データＮａ。
央演算処理装置１３は第１図のフローチャートのステッ
プ５に示すように、粒子縮小処理画像データρ（ｘ、ｙ
）に基づいて各粒子像を前記縮小を相殺するだけ拡大し
、第３図（ｅ）に示す粒子拡大処理画像データε（ｘ、
ｙ）を求め、第２の画像メモリ１１に記憶させる。次に
、第１図のステップ６に示すように、中央演算処理装置
１３は粒子拡大処理画像データε（ｘ、ｙ）に基づいて
黒レベル画素の集合によって形成される粒子像の数Ｎｂ
と、各粒子像の面積の和Ｍｂを計数してメモリ１４に記
憶させる。そこで、第１図のステップ７に示すように、
中央演算処理装置１３はメモリ１４に記憶させておいた
前記データＮａ。
Ｎｂ 、Ｍａ 、Ｍｂを表わすデータを読み出し、これ
らデータに基づいてＮａ 、Ｎｂ 、Ｍａ 、Ｍｂの値
をＣＲＴ１６に表示する。このようにして、オペレータ
ーはこの表示値により、被検試料である鉄鋼等の特性を
知ることができる。
らデータに基づいてＮａ 、Ｎｂ 、Ｍａ 、Ｍｂの値
をＣＲＴ１６に表示する。このようにして、オペレータ
ーはこの表示値により、被検試料である鉄鋼等の特性を
知ることができる。
上述した実施例は本発明の実施例の一例に過ぎず、更に
変形して実施することができる。
変形して実施することができる。
例えば、上述した実施例においては、第１種画像データ
に基づいて早い段階で粒子像の個数Ｎａと面積和Ｍａを
求めたが、粒子像の個数Ｎｂを求める段階で一緒に個数
Ｎａと面積和Ｍａを求めるようにしても良い。
に基づいて早い段階で粒子像の個数Ｎａと面積和Ｍａを
求めたが、粒子像の個数Ｎｂを求める段階で一緒に個数
Ｎａと面積和Ｍａを求めるようにしても良い。
又、上述した実施例においては、粒子像の縮小による面
積計測値の誤差を補正するため、粒子像拡大処理を行な
ったが、粒子拡大処理を行なう代わりに、求められた面
積和を補正するため、面積和に縮小比に見合った補正係
数を掛けるようにしても良い。
積計測値の誤差を補正するため、粒子像拡大処理を行な
ったが、粒子拡大処理を行なう代わりに、求められた面
積和を補正するため、面積和に縮小比に見合った補正係
数を掛けるようにしても良い。
又、上述した実施例は、画像中に物質Ａと、物質Ｂの粒
子のみが存在する場合について説明したが、画像中に３
種類以上の物質の粒子が存在する場合にも本発明は同様
に適用できる。
子のみが存在する場合について説明したが、画像中に３
種類以上の物質の粒子が存在する場合にも本発明は同様
に適用できる。
更に又、上述した実施例は、Ｘ線マイクロアナライザに
よって得られた鉄鋼等の走査画像中における特定物質粒
子を各物質粒子毎に自動的に引数する場合に本発明を適
用した例であるが、本発明は−Ｆ記のような画像に対す
る処理に限定されない。
よって得られた鉄鋼等の走査画像中における特定物質粒
子を各物質粒子毎に自動的に引数する場合に本発明を適
用した例であるが、本発明は−Ｆ記のような画像に対す
る処理に限定されない。
即ち、電子顕微鏡や光学顕微鏡等によって１ｑられる画
像や、熱放射体映像駅間等によって得られる画像中に異
なった種類の粒子像が異なった信号強度に対応して存在
する場合に、本発明を同様に適用することができる。
像や、熱放射体映像駅間等によって得られる画像中に異
なった種類の粒子像が異なった信号強度に対応して存在
する場合に、本発明を同様に適用することができる。
［発明の効果］
上述した説明から明らかなように、本発明によれば、異
なった信号強度の画素の集合として巽なった種類の粒子
像が画像中に混在する場合、この画像データに基づいて
異なった種類毎の粒子数を短時間１つ正確に自動計数す
ることができる。
なった信号強度の画素の集合として巽なった種類の粒子
像が画像中に混在する場合、この画像データに基づいて
異なった種類毎の粒子数を短時間１つ正確に自動計数す
ることができる。
第１図は本発明の一実施例を示すためのフローチャート
であり、第２図は本発明を実施するための装置の一例を
示すための図、第３図は第１図のフローチャートの流れ
に沿って変化する画仰データを説明するための図、第４
図は原画像の横断線Ｕに沿った画像信号と第１．第２の
基準レベル１−１、Ｌ２どの関係を説明するための図で
ある。 １：電子銃 ２：反射電子検出器３：集束レ
ンズ ４：試料 ５：試料ステージ ６：駆動機構 ７：偏向器 ８：走査回路 ９：反射電子検出回路 １０．１１，１２：画像メモリ １３：中央演算処理装置 １４：試料ステージ制御回路 １５：操作卓 １６ ： ＣＲＴ第３ｍ ’Ｊｎ７−
であり、第２図は本発明を実施するための装置の一例を
示すための図、第３図は第１図のフローチャートの流れ
に沿って変化する画仰データを説明するための図、第４
図は原画像の横断線Ｕに沿った画像信号と第１．第２の
基準レベル１−１、Ｌ２どの関係を説明するための図で
ある。 １：電子銃 ２：反射電子検出器３：集束レ
ンズ ４：試料 ５：試料ステージ ６：駆動機構 ７：偏向器 ８：走査回路 ９：反射電子検出回路 １０．１１，１２：画像メモリ １３：中央演算処理装置 １４：試料ステージ制御回路 １５：操作卓 １６ ： ＣＲＴ第３ｍ ’Ｊｎ７−
Claims (1)
- 分析又は撮像装置により像を取得し、該像を構成する各
画素の画像データに基づいて該画像中の粒子像を分析す
る方法において、原画像データを第１の基準レベルと比
較することにより２値化して第１種画像データを求め、
前記原画像データを前記第１の基準レベルと第２の基準
レベルとの間の値をとるか否かにより２値化して第２種
画像データを求め、該第２種画像データに基づいて該第
２種画像中の各粒子像を前記第１、第２の基準レベルの
間の値をとる粒子像が消失する程度まで縮小して粒子縮
小処理画像データを求め、前記第１種画像データに基づ
いて該画像中の粒子像の個数を自動的に計数すると共に
、前記縮小処理画像データに基づいて該縮小処理画像中
の粒子像の個数を自動的に計数することを特徴とする画
像中における粒子像分析方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8360986A JPS62239045A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 画像中における粒子像分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8360986A JPS62239045A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 画像中における粒子像分析方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62239045A true JPS62239045A (ja) | 1987-10-19 |
Family
ID=13807226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8360986A Pending JPS62239045A (ja) | 1986-04-11 | 1986-04-11 | 画像中における粒子像分析方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62239045A (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6162850A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-03-31 | Nippon Steel Corp | 自動多機能分析装置の濃度分析処理方式 |
-
1986
- 1986-04-11 JP JP8360986A patent/JPS62239045A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6162850A (ja) * | 1984-07-18 | 1986-03-31 | Nippon Steel Corp | 自動多機能分析装置の濃度分析処理方式 |
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