JPS6223737B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
を有する新規なプロスタサイクリン類似化合物お
よびその薬理上許容される塩並びにその製法に関
するものである。
よびその薬理上許容される塩並びにその製法に関
するものである。
上記式中、R1は水素原子または炭素数1乃至
5個を有するアルキル基を示し、nは1乃至5の
整数を示す。
5個を有するアルキル基を示し、nは1乃至5の
整数を示す。
前記一般式()において、好適にはR1は水
素原子または例えばメチル、エチル、n―プロピ
ル、イソプロピル、n―ブチル、イソブチル、n
―ペンチル、イソペンチルのような炭素数1乃至
5個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル
基を示す化合物があげられる。
素原子または例えばメチル、エチル、n―プロピ
ル、イソプロピル、n―ブチル、イソブチル、n
―ペンチル、イソペンチルのような炭素数1乃至
5個を有する直鎖状若しくは分枝鎖状のアルキル
基を示す化合物があげられる。
さらに特に好適な化合物としては、R1が水素
原子または例えばメチル、エチル、n―プロピ
ル、イソプロピルのような炭素数1乃至3個を有
するアルキル基を示す化合物があげられる。
原子または例えばメチル、エチル、n―プロピ
ル、イソプロピルのような炭素数1乃至3個を有
するアルキル基を示す化合物があげられる。
本発明の前記一般式()を有する化合物のう
ち、R1が水素原子である化合物は必要に応じ薬
理上許容される塩の形にすることができる。薬理
上許容される塩の形としては例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウムのようなア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩;アンモ
ニウム塩;テトラメチルアンモニウム、テトラエ
チルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニ
ウム、フエニルトリエチルアンモニウムのような
第四級アンモニウム塩;メチルアミン、エチルア
ミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、N―メチルヘキ
シルアミン、シクロペンチルアミン、ジシクロヘ
キシルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミ
ン、α―フエニルエチルアミン、エチレンジアミ
ンのような低級脂肪族、低級脂環式および低級芳
香脂肪族アミンの塩;ピペリジン、モルホリン、
ピロリジン、ピペラジン、ピリジン、1―メチル
ピペラジン、4―エチルモルホリンのような複数
環式アミンおよびそれらの低級アルキル誘導体の
塩;モノエタノールアミン、エチルジエタノール
アミン、2―アミノ―1―ブタノールのような親
水性の基を含むアミンの塩等をあげることができ
る。
ち、R1が水素原子である化合物は必要に応じ薬
理上許容される塩の形にすることができる。薬理
上許容される塩の形としては例えばナトリウム、
カリウム、マグネシウム、カルシウムのようなア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属の塩;アンモ
ニウム塩;テトラメチルアンモニウム、テトラエ
チルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニ
ウム、フエニルトリエチルアンモニウムのような
第四級アンモニウム塩;メチルアミン、エチルア
ミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、トリメ
チルアミン、トリエチルアミン、N―メチルヘキ
シルアミン、シクロペンチルアミン、ジシクロヘ
キシルアミン、ベンジルアミン、ジベンジルアミ
ン、α―フエニルエチルアミン、エチレンジアミ
ンのような低級脂肪族、低級脂環式および低級芳
香脂肪族アミンの塩;ピペリジン、モルホリン、
ピロリジン、ピペラジン、ピリジン、1―メチル
ピペラジン、4―エチルモルホリンのような複数
環式アミンおよびそれらの低級アルキル誘導体の
塩;モノエタノールアミン、エチルジエタノール
アミン、2―アミノ―1―ブタノールのような親
水性の基を含むアミンの塩等をあげることができ
る。
なお、前記一般式()を有する化合物におい
て、シクロペンタン環側鎖の水酸基の配位並びに
シクロペンタン環に結合する二重結合に基く立体
異性体が存在する。従つて前記一般式()を有
する化合物がこれらの立体異性体の混合物で得ら
れる場合には常法により分離および分割してそれ
ぞれの異性体を得ることができる。前記一般式
()においてはこれらの立体異性体及び立体異
性体の混合物が全て単一の式で示されているが、
これにより本発明の記載の範囲は限定されるもの
ではない。
て、シクロペンタン環側鎖の水酸基の配位並びに
シクロペンタン環に結合する二重結合に基く立体
異性体が存在する。従つて前記一般式()を有
する化合物がこれらの立体異性体の混合物で得ら
れる場合には常法により分離および分割してそれ
ぞれの異性体を得ることができる。前記一般式
()においてはこれらの立体異性体及び立体異
性体の混合物が全て単一の式で示されているが、
これにより本発明の記載の範囲は限定されるもの
ではない。
最近、強力な血小板凝集阻害作用を表わすプロ
スタサイクリン(PGI2)が発見されてその生理作
用が注目されているが、本発明者等は前記一般式
()で表わされる新規なプロスタサイクリン類
似化合物を合成して、それらが血小板凝集阻害作
用を有することを見出して本発明を完成した。
スタサイクリン(PGI2)が発見されてその生理作
用が注目されているが、本発明者等は前記一般式
()で表わされる新規なプロスタサイクリン類
似化合物を合成して、それらが血小板凝集阻害作
用を有することを見出して本発明を完成した。
本発明によつて得られる前記一般式()を有
する化合物としては例えば以下に記載する化合物
があげられる。
する化合物としては例えば以下に記載する化合物
があげられる。
5 6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(E),13(E)―ジエン酸および
そのナトリウム、カリウム塩並びにそのメチ
ル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエス
テル 6 6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(E),13(E)―ジエン酸および
そのナトリウム、カリウム塩並びにそのメチ
ル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエス
テル 7 6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(Z),13(E)―ジエン酸お
よびそのナトリウム、カリウム塩並びにそのメ
チル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエ
ステル 8 6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(Z),13(E)―ジエン酸お
よびそのナトリウム、カリウム塩並びにそのメ
チル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエ
ステル 本発明の前記一般式()を有する化合物は一
般式 を有する化合物を一般式 (R5)3P―CH―(CH2)oCOOM () を有するウイツチヒ試剤と反応させ、次いで酸で
処理することにより遊離酸に変換し、必要に応じ
てエステル化して一般式 を有する化合物を製造し、得られた化合物の水酸
基の保護基を除去し、エステル誘導体を必要に応
じて加水分解することによつて得られる。
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(E),13(E)―ジエン酸および
そのナトリウム、カリウム塩並びにそのメチ
ル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエス
テル 6 6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(E),13(E)―ジエン酸および
そのナトリウム、カリウム塩並びにそのメチ
ル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエス
テル 7 6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(Z),13(E)―ジエン酸お
よびそのナトリウム、カリウム塩並びにそのメ
チル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエ
ステル 8 6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5(Z),13(E)―ジエン酸お
よびそのナトリウム、カリウム塩並びにそのメ
チル、エチル、n―プロピル、イソプロピルエ
ステル 本発明の前記一般式()を有する化合物は一
般式 を有する化合物を一般式 (R5)3P―CH―(CH2)oCOOM () を有するウイツチヒ試剤と反応させ、次いで酸で
処理することにより遊離酸に変換し、必要に応じ
てエステル化して一般式 を有する化合物を製造し、得られた化合物の水酸
基の保護基を除去し、エステル誘導体を必要に応
じて加水分解することによつて得られる。
上記式中、nは前述したものと同意義を示し、
R4は水酸基の保護基を示す。ここで水酸基の保
護基としては後にその保護基を除去して水素原子
に置き換える際に除去反応により化合物の他の部
分に影響を与えないようなものであれば特に限定
はなく、そのような保護基としては例えば2―テ
トラヒドロフラニル、2―テトラヒドロピラニ
ル、4―メトキシテトラヒドロピラン―4―イ
ル、2―テトラヒドロチオピラニルのようなアル
コキシ基を置換分として有するか有しない環内に
酸素原子または硫黄原子を含有する5乃至6員複
素環基;メトキシメチル、エトキシメチル、1―
エトキシエチル、ベンジルオキシメチルのような
アルコキシ基またはアラルキルオキシ基を置換分
として有する低級アルキル基;トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリ―n―プロピルシリ
ルのようなトリ低級アルキルシリル基があげられ
る。
R4は水酸基の保護基を示す。ここで水酸基の保
護基としては後にその保護基を除去して水素原子
に置き換える際に除去反応により化合物の他の部
分に影響を与えないようなものであれば特に限定
はなく、そのような保護基としては例えば2―テ
トラヒドロフラニル、2―テトラヒドロピラニ
ル、4―メトキシテトラヒドロピラン―4―イ
ル、2―テトラヒドロチオピラニルのようなアル
コキシ基を置換分として有するか有しない環内に
酸素原子または硫黄原子を含有する5乃至6員複
素環基;メトキシメチル、エトキシメチル、1―
エトキシエチル、ベンジルオキシメチルのような
アルコキシ基またはアラルキルオキシ基を置換分
として有する低級アルキル基;トリメチルシリ
ル、トリエチルシリル、トリ―n―プロピルシリ
ルのようなトリ低級アルキルシリル基があげられ
る。
R5はフエニルのようなアリール基またはメチ
ル、n―ブチルのような低級アルキル基を示す。
R6は水素原子またはメチル、エチル、n―プロ
ピル、イソプロピル、n―ブチル、イソブチル、
n―ペンチル、イソペンチルのような炭素数1乃
至5個を有するアルキル基を示す。Mはナトリウ
ム、カリウム、リチウムのようなアルカリ金属原
子を示す。
ル、n―ブチルのような低級アルキル基を示す。
R6は水素原子またはメチル、エチル、n―プロ
ピル、イソプロピル、n―ブチル、イソブチル、
n―ペンチル、イソペンチルのような炭素数1乃
至5個を有するアルキル基を示す。Mはナトリウ
ム、カリウム、リチウムのようなアルカリ金属原
子を示す。
前記一般式()を有する化合物を前記一般式
()を有する化合物と反応させるウイツチヒ
(Wittig)反応工程は通常、溶剤の存在下で前記
一般式()を有する化合物1モルに対して前記
一般式()を有するウイツチヒ試剤を約1乃至
20モル、好適には過剰量を用いて行なわれる。
()を有する化合物と反応させるウイツチヒ
(Wittig)反応工程は通常、溶剤の存在下で前記
一般式()を有する化合物1モルに対して前記
一般式()を有するウイツチヒ試剤を約1乃至
20モル、好適には過剰量を用いて行なわれる。
反応に使用される前記一般式()を有するウ
イツチヒ試剤は、常法に従つて溶剤の存在下で一
般式 (式中、R5およびnは前述したものと同意義
を示し、Xは塩素、臭素のようなハロゲン原子を
示す。) を有する化合物に水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのような水素化アルカリ金属あるいはナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ムtert―ブトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド、ナトリウムアミド、カリウムアミドのよ
うなアルカリ金属アミド、n―ブチルリチウムの
ようなアルキルアルカリ金属、ナトリウムジメチ
ルスルホキシドアニオンのようなアルカリ金属ジ
メチルスルホキシドアニオンなどのアルカリ金属
塩基を反応させることによつて得ることができ
る。使用される溶剤としては一般のウイツチヒ反
応に用いられる溶剤が特に限定なく用いられ、例
えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;
スルホランのようなチオエーテル類;ベンゼン、
トルエン、ヘキサンのような炭化水素類;ジメチ
ルスルホキシドのようなジアルキルスルホキシド
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドのような脂肪酸ジアルキルアミド類;ジクロル
メタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類;ヘキサメチルホスホルトリアミド
(HMPA)のようなリン酸トリアミド類等の不活
性有機溶剤をあげることができる。また反応は窒
素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガス中で
好適に行なわれる。反応温度には特に限定はな
く、通常は−10℃乃至溶剤の還流温度で行なわ
れ、好適には室温付近で行なわれる。反応時間は
反応温度などによつて異なるが、通常は6乃至24
時間である。本ウイツチヒ反応によつて得られる
生成物は塩であり、この塩は例えば酢酸、プロピ
オン酸、シユウ酸などの有機酸あるいは塩酸、臭
化水素酸などの鉱酸と処理することによつて遊離
の酸に容易に変換できる。
イツチヒ試剤は、常法に従つて溶剤の存在下で一
般式 (式中、R5およびnは前述したものと同意義
を示し、Xは塩素、臭素のようなハロゲン原子を
示す。) を有する化合物に水素化ナトリウム、水素化カリ
ウムのような水素化アルカリ金属あるいはナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウ
ムtert―ブトキシドのようなアルカリ金属アルコ
キシド、ナトリウムアミド、カリウムアミドのよ
うなアルカリ金属アミド、n―ブチルリチウムの
ようなアルキルアルカリ金属、ナトリウムジメチ
ルスルホキシドアニオンのようなアルカリ金属ジ
メチルスルホキシドアニオンなどのアルカリ金属
塩基を反応させることによつて得ることができ
る。使用される溶剤としては一般のウイツチヒ反
応に用いられる溶剤が特に限定なく用いられ、例
えばエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサン、ジメトキシエタンのようなエーテル類;
スルホランのようなチオエーテル類;ベンゼン、
トルエン、ヘキサンのような炭化水素類;ジメチ
ルスルホキシドのようなジアルキルスルホキシド
類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ドのような脂肪酸ジアルキルアミド類;ジクロル
メタン、クロロホルムのようなハロゲン化炭化水
素類;ヘキサメチルホスホルトリアミド
(HMPA)のようなリン酸トリアミド類等の不活
性有機溶剤をあげることができる。また反応は窒
素、アルゴン、ヘリウムのような不活性ガス中で
好適に行なわれる。反応温度には特に限定はな
く、通常は−10℃乃至溶剤の還流温度で行なわ
れ、好適には室温付近で行なわれる。反応時間は
反応温度などによつて異なるが、通常は6乃至24
時間である。本ウイツチヒ反応によつて得られる
生成物は塩であり、この塩は例えば酢酸、プロピ
オン酸、シユウ酸などの有機酸あるいは塩酸、臭
化水素酸などの鉱酸と処理することによつて遊離
の酸に容易に変換できる。
反応終了後、ウイツチヒ反応の目的化合物は常
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、反応混合物に氷水を加え、次いで上記
の酸処理を行ない、エーテルのような有機溶剤を
加えて抽出し、得られる有機溶剤層を水洗し乾燥
した後、有機溶剤層より溶剤を留去することによ
つて得られる。
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、反応混合物に氷水を加え、次いで上記
の酸処理を行ない、エーテルのような有機溶剤を
加えて抽出し、得られる有機溶剤層を水洗し乾燥
した後、有機溶剤層より溶剤を留去することによ
つて得られる。
次に必要に応じてこのようにして得られる化合
物のカルボキシル基をエステル化する反応は溶剤
の存在下または不存在下でエステル化剤と接触さ
せることによつて行なわれる。使用されるエステ
ル化剤としては、通常のカルボキシル基をアルコ
キシカルボニル基に変換する際に使用されるエス
テル化剤が特に限定なく用いられる。使用される
エステル化剤としては、例えばジアゾメタン、ジ
アゾエタン、ジアゾ―n―プロパン、ジアゾイソ
プロパン、ジアゾ―n―ブタンなどのジアゾアル
カン類;メタノール、エタノール、n―プロパノ
ール、イソプロピルアルコール、n―ブタノール
などのエステル基を形成するアルコール類と塩
酸、臭化水素酸若しくは硫酸などの鉱酸またはメ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸若しくはp
―トルエンスルホン酸などの有機酸が好適に用い
られる。ジアゾアルカン類を用いる場合は反応は
溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては本反応に関与しなければ特に限定はな
く例えばエチルエーテル、ジオキサンなどのエー
テル類が好適である。反応温度には特に限定はな
いが副反応を抑え且つジアゾアルカン類の分解を
防ぐため比較的低温で行なうのが望ましく通常は
氷冷下で好適に行なわれる。酸の存在下でアルコ
ール類を用いる場合は通常溶剤として過剰のアル
コール類が好適に使用される。反応温度は特に限
定はないが室温乃至使用されるアルコール類の還
流温度付近で好適に行なわれる。反応時間は主に
反応温度、使用されるアルコール類の種類によつ
て異なるが約1時間乃至2日間である。
物のカルボキシル基をエステル化する反応は溶剤
の存在下または不存在下でエステル化剤と接触さ
せることによつて行なわれる。使用されるエステ
ル化剤としては、通常のカルボキシル基をアルコ
キシカルボニル基に変換する際に使用されるエス
テル化剤が特に限定なく用いられる。使用される
エステル化剤としては、例えばジアゾメタン、ジ
アゾエタン、ジアゾ―n―プロパン、ジアゾイソ
プロパン、ジアゾ―n―ブタンなどのジアゾアル
カン類;メタノール、エタノール、n―プロパノ
ール、イソプロピルアルコール、n―ブタノール
などのエステル基を形成するアルコール類と塩
酸、臭化水素酸若しくは硫酸などの鉱酸またはメ
タンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸若しくはp
―トルエンスルホン酸などの有機酸が好適に用い
られる。ジアゾアルカン類を用いる場合は反応は
溶剤の存在下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては本反応に関与しなければ特に限定はな
く例えばエチルエーテル、ジオキサンなどのエー
テル類が好適である。反応温度には特に限定はな
いが副反応を抑え且つジアゾアルカン類の分解を
防ぐため比較的低温で行なうのが望ましく通常は
氷冷下で好適に行なわれる。酸の存在下でアルコ
ール類を用いる場合は通常溶剤として過剰のアル
コール類が好適に使用される。反応温度は特に限
定はないが室温乃至使用されるアルコール類の還
流温度付近で好適に行なわれる。反応時間は主に
反応温度、使用されるアルコール類の種類によつ
て異なるが約1時間乃至2日間である。
反応終了後、エステル化反応の目的化合物は常
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、反応混合物より溶剤を留去することに
よつて、さらに必要に応じて生成物を有機溶剤に
溶解し、有機溶剤層を重炭酸ナトリウム水溶液あ
るいは炭酸ナトリウム水溶液などの炭酸アルカリ
水溶液を用いて洗浄し乾燥した後、有機溶剤層よ
り溶剤を留去することによつて得られる。
法に従つて反応混合物から採取される。例えば反
応終了後、反応混合物より溶剤を留去することに
よつて、さらに必要に応じて生成物を有機溶剤に
溶解し、有機溶剤層を重炭酸ナトリウム水溶液あ
るいは炭酸ナトリウム水溶液などの炭酸アルカリ
水溶液を用いて洗浄し乾燥した後、有機溶剤層よ
り溶剤を留去することによつて得られる。
このようにして得られる前記一般式()を有
する化合物より水酸基の保護基を除去する反応は
保護基の種類によつて異なる。水酸基の保護基が
例えば2―テトラヒドロピラニルのような複素環
基、メトキシメチル、ベンジルオキシメチルのよ
うなアルコキシ基またはアラルキルオキシ基を置
換分として有する低級アルキル基の場合は酸と接
触させることにより容易に達成される。使用され
る酸としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、シユウ酸、マロン酸などの有機酸;塩酸、
臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に使用され
る。反応は溶剤の存在下または不存在下で実施さ
れるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使用する
方が好ましく、使用される溶剤としては本反応に
関与しなければ特に限定はなく例えば水;メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類または
これらの有機溶剤と水との混合溶剤が好適に使用
される。反応温度には特に限定はなく室温乃至溶
剤の還流温度で行なわれ、特に室温で好適に行な
われる。水酸基の保護基が例えばトリメチルシリ
ルのようなトリ低級アルキルシリル基の場合は水
あるいは酸または塩基を含有する水と接触させる
ことにより容易に達成される。酸または塩基を含
有する水を使用する場合に含有される酸または塩
基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、シユウ酸、マロン酸などの有機酸;塩酸、臭
化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸
化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金
属およびアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属および
アルカリ土類金属の炭酸塩のような塩基が特に限
定なく使用される。反応は溶剤として水を使用す
れば他の溶剤は特に必要ではない。他の溶剤を使
用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類;メタノール、エタノール
などのアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶
剤が使用される。反応温度には特に限定はないが
通常は室温で好適に行なわれる。
する化合物より水酸基の保護基を除去する反応は
保護基の種類によつて異なる。水酸基の保護基が
例えば2―テトラヒドロピラニルのような複素環
基、メトキシメチル、ベンジルオキシメチルのよ
うなアルコキシ基またはアラルキルオキシ基を置
換分として有する低級アルキル基の場合は酸と接
触させることにより容易に達成される。使用され
る酸としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
酪酸、シユウ酸、マロン酸などの有機酸;塩酸、
臭化水素酸、硫酸などの鉱酸が好適に使用され
る。反応は溶剤の存在下または不存在下で実施さ
れるが、反応を円滑に行なうには溶剤を使用する
方が好ましく、使用される溶剤としては本反応に
関与しなければ特に限定はなく例えば水;メタノ
ール、エタノールなどのアルコール類;テトラヒ
ドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類または
これらの有機溶剤と水との混合溶剤が好適に使用
される。反応温度には特に限定はなく室温乃至溶
剤の還流温度で行なわれ、特に室温で好適に行な
われる。水酸基の保護基が例えばトリメチルシリ
ルのようなトリ低級アルキルシリル基の場合は水
あるいは酸または塩基を含有する水と接触させる
ことにより容易に達成される。酸または塩基を含
有する水を使用する場合に含有される酸または塩
基としては例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪
酸、シユウ酸、マロン酸などの有機酸;塩酸、臭
化水素酸、硫酸などの鉱酸のような酸または水酸
化カリウム、水酸化カルシウムなどのアルカリ金
属およびアルカリ土類金属の水酸化物;炭酸カリ
ウム、炭酸カルシウムなどのアルカリ金属および
アルカリ土類金属の炭酸塩のような塩基が特に限
定なく使用される。反応は溶剤として水を使用す
れば他の溶剤は特に必要ではない。他の溶剤を使
用する場合は例えばテトラヒドロフラン、ジオキ
サンなどのエーテル類;メタノール、エタノール
などのアルコール類等の有機溶剤と水との混合溶
剤が使用される。反応温度には特に限定はないが
通常は室温で好適に行なわれる。
反応終了後、水酸基の保護基を除去する反応の
目的化合物は常法に従つて反応混合物から採取さ
れる。例えば反応終了後、反応混合物を中性と
し、次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を行な
い、抽出液を水洗し乾燥した後、抽出液より溶剤
を留去することによつて得られる。
目的化合物は常法に従つて反応混合物から採取さ
れる。例えば反応終了後、反応混合物を中性と
し、次いで適当な有機溶剤を加えて抽出を行な
い、抽出液を水洗し乾燥した後、抽出液より溶剤
を留去することによつて得られる。
さらに必要に応じてこのようにして得られる化
合物のエステル基を加水分解する反応は溶剤の存
在下で酸または塩基と接触させることによつて行
なわれる。使用される酸または塩基としては一般
の加水分解反応に使用される酸または塩基が特に
限定なく使用されるが、通常は例えば水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化カルシウム、水酸化バリウムのようなアルカリ
金属およびアルカリ土類金属の水酸化物を用いて
塩基性条件下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が特に
限定なく用いられ、例えばメタノール、エタノー
ル、n―プロパノール、イソプロピルアルコール
のようなアルコール類;エチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;ジメチルスルホキシドのよう
なジアルキルスルホキシド類およびこれらの有機
溶剤と水との混合溶剤をあげることができる。反
応温度には特に限定はなく、通常は室温付近乃至
溶剤の還流温度で行なわれる。反応時間は反応温
度などによつて異なるが、通常は1乃至12時間で
ある。
合物のエステル基を加水分解する反応は溶剤の存
在下で酸または塩基と接触させることによつて行
なわれる。使用される酸または塩基としては一般
の加水分解反応に使用される酸または塩基が特に
限定なく使用されるが、通常は例えば水酸化リチ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化カルシウム、水酸化バリウムのようなアルカリ
金属およびアルカリ土類金属の水酸化物を用いて
塩基性条件下で好適に行なわれる。使用される溶
剤としては加水分解反応に用いられる溶剤が特に
限定なく用いられ、例えばメタノール、エタノー
ル、n―プロパノール、イソプロピルアルコール
のようなアルコール類;エチルエーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタンの
ようなエーテル類;ジメチルスルホキシドのよう
なジアルキルスルホキシド類およびこれらの有機
溶剤と水との混合溶剤をあげることができる。反
応温度には特に限定はなく、通常は室温付近乃至
溶剤の還流温度で行なわれる。反応時間は反応温
度などによつて異なるが、通常は1乃至12時間で
ある。
反応終了後、加水分解反応の目的化合物は常法
に従つて反応混合物から採取される。例えば反応
終了後、反応混合物を酸性とし、次いで適当な有
機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を洗浄し乾
燥した後、抽出液より溶剤を留去することによつ
て得られる。
に従つて反応混合物から採取される。例えば反応
終了後、反応混合物を酸性とし、次いで適当な有
機溶剤を加えて抽出を行ない、抽出液を洗浄し乾
燥した後、抽出液より溶剤を留去することによつ
て得られる。
上記の各反応工程の目的化合物は必要ならば常
法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロ
マトグラフイー、再結晶法などを用いてさらに精
製することができる。このようにして得られる目
的化合物が種々の幾何異性体および光学異性体の
混合物で得られる場合には、適当な合成段階にお
いてこれらの異性体を分離および分割することが
できる。
法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄層クロ
マトグラフイー、再結晶法などを用いてさらに精
製することができる。このようにして得られる目
的化合物が種々の幾何異性体および光学異性体の
混合物で得られる場合には、適当な合成段階にお
いてこれらの異性体を分離および分割することが
できる。
本発明の方法を実施するに当つて原料化合物と
して用いた前記一般式()を有する化合物は新
規な化合物であり例えば次のような方法で製造さ
れる。
して用いた前記一般式()を有する化合物は新
規な化合物であり例えば次のような方法で製造さ
れる。
上記式中、R4は前述したものと同意義を示
す。R7はフエニルのようなアリール基を示し、
R8,R9はメチル、エチル、n―プロピル、イソ
プロピル、n―ブチル、イソブチルのような低級
アルキル基を示し、R10はR4と同意義を有する水
酸基の保護基を示し、R11は水素原子またはR4と
同意義を有する水酸基の保護基を示す。Zはカル
ボニル基の保護基を示し、ここでカルボニル基の
保護基としては後にその保護基を除去する際に除
去反応により化合物の他の部分に影響を与えない
ものであれば特に限定はなく、例えばジメトキ
シ、ジエトキシのようなジアルコキシ基;エチレ
ンジオキシのようなアルキレンジオキシ基;エチ
レンジチオ、トリメチレンジチオのようなアルキ
レンジチオ基などをあげることができる。
す。R7はフエニルのようなアリール基を示し、
R8,R9はメチル、エチル、n―プロピル、イソ
プロピル、n―ブチル、イソブチルのような低級
アルキル基を示し、R10はR4と同意義を有する水
酸基の保護基を示し、R11は水素原子またはR4と
同意義を有する水酸基の保護基を示す。Zはカル
ボニル基の保護基を示し、ここでカルボニル基の
保護基としては後にその保護基を除去する際に除
去反応により化合物の他の部分に影響を与えない
ものであれば特に限定はなく、例えばジメトキ
シ、ジエトキシのようなジアルコキシ基;エチレ
ンジオキシのようなアルキレンジオキシ基;エチ
レンジチオ、トリメチレンジチオのようなアルキ
レンジチオ基などをあげることができる。
以下、テトラヘドロン レターズ
(Tetrahedron Letters),1976年,101頁に記載
された方法に従つて製造した一般式()を有す
る化合物を出発原料として実施した各工程につい
て説明する。
(Tetrahedron Letters),1976年,101頁に記載
された方法に従つて製造した一般式()を有す
る化合物を出発原料として実施した各工程につい
て説明する。
第1工程は前記一般式()を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物を加水分解し、脱炭酸反応に付すことによ
つて達成される。反応は常法に従つて化合物
()を鉱酸および有機酸の混合物と共に加熱還
流することによつて行なわれる。使用される鉱酸
としては例えば希塩酸、希硫酸、希過塩素酸な
ど、有機酸としては例えば酢酸、プロピオン酸な
どをあげることができる。
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物を加水分解し、脱炭酸反応に付すことによ
つて達成される。反応は常法に従つて化合物
()を鉱酸および有機酸の混合物と共に加熱還
流することによつて行なわれる。使用される鉱酸
としては例えば希塩酸、希硫酸、希過塩素酸な
ど、有機酸としては例えば酢酸、プロピオン酸な
どをあげることができる。
第2工程は前記一般式()を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物をハロゲン化剤と処理して一般式 (式中、R7は前述したものと同意義を示し、
Xは塩素、臭素のようなハロゲン原子を示す。) を有する酸ハライド誘導体となし、これにジアゾ
メタン―エーテル溶液を反応させて一般式 (式中、R7は前述したものと同意義を示す。) を有するジアゾケトン誘導体を得て、これをアル
コールの存在下でウオルフ(Wolff)転位させる
ことによつて達成される。本工程の反応はいわゆ
るアルント―アイシユテルト(Arndt―Eistert)
反応であり、常法に従つて中間体化合物()
および()を単離することなく実施すること
ができる。はじめに使用されるハロゲン化剤とし
ては例えばシユウ酸クロリド、チオニルクロリ
ド、オキシ塩化リン、五塩化リン、五臭化リンな
どがあげられる。ジアゾケトン化合物()を
ウオルフ転位させる反応工程で使用されるアルコ
ールとしては目的化合物()のエステル基を形
成するものであれば特に限定はなく、例えばメタ
ノール、エタノール、n―プロパノール、イソプ
ロピルアルコール、n―ブタノール、イソブチル
アルコールなどがあげられる。本転位反応は金属
触媒あるいは光の存在下で好適に行なわれるが、
使用される金属触媒としては例えば硝酸銀、酸化
銀、酢酸銀、安息香酸銀などの銀塩および硫酸銅
などの銅塩があげられる。
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物をハロゲン化剤と処理して一般式 (式中、R7は前述したものと同意義を示し、
Xは塩素、臭素のようなハロゲン原子を示す。) を有する酸ハライド誘導体となし、これにジアゾ
メタン―エーテル溶液を反応させて一般式 (式中、R7は前述したものと同意義を示す。) を有するジアゾケトン誘導体を得て、これをアル
コールの存在下でウオルフ(Wolff)転位させる
ことによつて達成される。本工程の反応はいわゆ
るアルント―アイシユテルト(Arndt―Eistert)
反応であり、常法に従つて中間体化合物()
および()を単離することなく実施すること
ができる。はじめに使用されるハロゲン化剤とし
ては例えばシユウ酸クロリド、チオニルクロリ
ド、オキシ塩化リン、五塩化リン、五臭化リンな
どがあげられる。ジアゾケトン化合物()を
ウオルフ転位させる反応工程で使用されるアルコ
ールとしては目的化合物()のエステル基を形
成するものであれば特に限定はなく、例えばメタ
ノール、エタノール、n―プロパノール、イソプ
ロピルアルコール、n―ブタノール、イソブチル
アルコールなどがあげられる。本転位反応は金属
触媒あるいは光の存在下で好適に行なわれるが、
使用される金属触媒としては例えば硝酸銀、酸化
銀、酢酸銀、安息香酸銀などの銀塩および硫酸銅
などの銅塩があげられる。
第3工程は前記一般式()を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物をブロム化剤と処理して一般式 (式中、R7およびR9は前述したものと同意義
を示す。) を有するブロム置換化合物となし、これにゼレノ
フエノール若しくはフエニルメルカプタンのアル
カル金属塩を反応させて得られるゼレノあるいは
メルカプト化合物を酸化することによつてあるい
はブロム置換化合物を塩基と処理することによつ
て達成される。はじめに使用されるブロム化剤と
してはN―プロモアセトアミド、N―プロモスク
シンイミドのようなN―ブロモ酸アミド類が好適
である。ゼレノあるいはメルカプト化合物を酸化
する酸化剤としては例えば過酸化水素水;過酢
酸、m―クロル過安息香酸、tert―ブチルハイド
ロパーオキシド、メタ過ヨウ素酸ナトリウムなど
をあげることができる。また、ブロム置換化合物
を塩基と処理する場合に使用する塩基としては通
常の脱ハロゲン化水素剤であれば特に限定はない
が、好適には1,5―ジアザビシクロ〔4・3・
0〕ノネン―5(DBN)、1,8―ジアザビシク
ロ〔5・4・0〕ウンデセン―7(DBU)など
の有機塩基が使用される。
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物をブロム化剤と処理して一般式 (式中、R7およびR9は前述したものと同意義
を示す。) を有するブロム置換化合物となし、これにゼレノ
フエノール若しくはフエニルメルカプタンのアル
カル金属塩を反応させて得られるゼレノあるいは
メルカプト化合物を酸化することによつてあるい
はブロム置換化合物を塩基と処理することによつ
て達成される。はじめに使用されるブロム化剤と
してはN―プロモアセトアミド、N―プロモスク
シンイミドのようなN―ブロモ酸アミド類が好適
である。ゼレノあるいはメルカプト化合物を酸化
する酸化剤としては例えば過酸化水素水;過酢
酸、m―クロル過安息香酸、tert―ブチルハイド
ロパーオキシド、メタ過ヨウ素酸ナトリウムなど
をあげることができる。また、ブロム置換化合物
を塩基と処理する場合に使用する塩基としては通
常の脱ハロゲン化水素剤であれば特に限定はない
が、好適には1,5―ジアザビシクロ〔4・3・
0〕ノネン―5(DBN)、1,8―ジアザビシク
ロ〔5・4・0〕ウンデセン―7(DBU)など
の有機塩基が使用される。
第4工程は前記一般式()を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物を酸化開裂反応に付して一般式 (式中、R9は前述したものと同意義を示す。) を有するアルデヒド化合物となし、これをさらに
酸化して一般式 (式中、R9は前述したものと同意義を示す。) を有するカルボン酸化合物を得て、得られる生成
物を常法に従つてエステル化するこことによつて
達成される。本工程の反応は中間体化合物(
XI)および()を単離精製することなく実
施することができる。はじめのアルデヒド化合物
(XI)を得る酸化開裂反応に使用される酸化剤
としてはメタ過ヨウ素酸ナトリウムおよび四酸化
オスミウムが好適であり、次いでカルボン酸化合
物(XII)を得る酸化反応に使用される酸化剤と
しては無水クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重
クロム酸カリウムなどのクロム酸類;過マンガン
酸カリウム;酸化銀などが好適である。このよう
にして得られるカルボン酸化合物(XII)をエス
テル化する反応は常法に従つてエステル化剤と処
理することによつて行なわれるが、その反応条件
は前記の本発明の製法で述べた場合と同様であ
る。
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物を酸化開裂反応に付して一般式 (式中、R9は前述したものと同意義を示す。) を有するアルデヒド化合物となし、これをさらに
酸化して一般式 (式中、R9は前述したものと同意義を示す。) を有するカルボン酸化合物を得て、得られる生成
物を常法に従つてエステル化するこことによつて
達成される。本工程の反応は中間体化合物(
XI)および()を単離精製することなく実
施することができる。はじめのアルデヒド化合物
(XI)を得る酸化開裂反応に使用される酸化剤
としてはメタ過ヨウ素酸ナトリウムおよび四酸化
オスミウムが好適であり、次いでカルボン酸化合
物(XII)を得る酸化反応に使用される酸化剤と
しては無水クロム酸、重クロム酸ナトリウム、重
クロム酸カリウムなどのクロム酸類;過マンガン
酸カリウム;酸化銀などが好適である。このよう
にして得られるカルボン酸化合物(XII)をエス
テル化する反応は常法に従つてエステル化剤と処
理することによつて行なわれるが、その反応条件
は前記の本発明の製法で述べた場合と同様であ
る。
第5工程は前記一般式()を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物のカルボニル基を保護する反応である。本
反応は常法に従つて一般式()を有する化合物
をカルボニル基の保護基を形成する化合物と接触
させることによつて行なわれる。使用される保護
基を形成する化合物としては例えばケタールを形
成するオルトギ酸メチルエステル、オルトギ酸エ
チルエステルのようなオルトギ酸エステル類;環
状ケタールを形成するエチレングリコールのよう
なアルキレングリコール類;環状チオケタールを
形成するエチレンジチオグリコール、トリメチレ
ンジチオグリコールのようなアルキレンジチオグ
リコール類などを好適な化合物としてあげること
ができる。
製造する工程であり、前記一般式()を有する
化合物のカルボニル基を保護する反応である。本
反応は常法に従つて一般式()を有する化合物
をカルボニル基の保護基を形成する化合物と接触
させることによつて行なわれる。使用される保護
基を形成する化合物としては例えばケタールを形
成するオルトギ酸メチルエステル、オルトギ酸エ
チルエステルのようなオルトギ酸エステル類;環
状ケタールを形成するエチレングリコールのよう
なアルキレングリコール類;環状チオケタールを
形成するエチレンジチオグリコール、トリメチレ
ンジチオグリコールのようなアルキレンジチオグ
リコール類などを好適な化合物としてあげること
ができる。
第6工程は、前記一般式(XI)を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式()を有す
る化合物をデイークマン(Dieckmann)縮合反
応に付すことによつて達成される。反応は常法に
従つて塩基を使用して不活性溶剤の存在下で行な
われる。反応に使用される塩基としては例えば、
ナトリウムメトキシド、カリウム―tert―ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド;水素化
ナトリウム、水素化カリウムのような水素化アル
カリ金属などをあげることができる。
を製造する工程であり、前記一般式()を有す
る化合物をデイークマン(Dieckmann)縮合反
応に付すことによつて達成される。反応は常法に
従つて塩基を使用して不活性溶剤の存在下で行な
われる。反応に使用される塩基としては例えば、
ナトリウムメトキシド、カリウム―tert―ブトキ
シドのようなアルカリ金属アルコキシド;水素化
ナトリウム、水素化カリウムのような水素化アル
カリ金属などをあげることができる。
第7工程は前記一般式(XII)を有する化合物を
製造する工程であり、前記一般式(XI)を有する
化合物を還元することによつて達成される。反応
は通常溶剤の存在下で還元剤を使用することによ
つて行われる。使用される還元剤としてはカルボ
ニル基のみを水酸基に変換する還元剤であれば特
に限定はなく、例えば水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ―tert―ブトキシ
アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアル
ミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウ
ムなどの水素化金属化合物が好適に用いられる。
製造する工程であり、前記一般式(XI)を有する
化合物を還元することによつて達成される。反応
は通常溶剤の存在下で還元剤を使用することによ
つて行われる。使用される還元剤としてはカルボ
ニル基のみを水酸基に変換する還元剤であれば特
に限定はなく、例えば水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ―tert―ブトキシ
アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアル
ミニウムリチウム、水素化シアノホウ素ナトリウ
ムなどの水素化金属化合物が好適に用いられる。
第8工程は前記一般式()を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式(XII)を有す
る化合物の水酸基を保護することによつて達成さ
れる。反応は常法に従つて化合物(XII)を保護基
を形成する化合物と接触させることによつて行な
われる。使用される保護基を形成する化合物とし
ては例えばジヒドロピラン、ジヒドロチオピラ
ン、ジヒドロチオフエン、4―メトキシ―5,6
―ジヒドロ―(2H)ピランのような複素環化合
物;メトキシメチルクロリド、エトキシエチルク
ロリド、ベンジルオキシメチルクロリドのような
アルコキシ若しくはアラルキルオキシ置換アルキ
ルハライド化合物;メチルビニルエーテル、エチ
ルビニルエーテルのような不飽和エーテル類;ヘ
キサメチルジシラサン、トリメチルシリルクロリ
ドのようなシリル化合物などを好適な化合物とし
てあげることができる。複素環化合物または不飽
和エーテル類を使用する場合には、反応は少量の
酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱酸または
ピクリン酸、トリフルオロ酢酸、ベゼンスルホン
酸、p―トルエンスルホン酸のような有機酸の存
在下で実施される。また、アルルコキシ若しくは
アラルキルオキシ置換アルキルハライド化合物ま
たはシリル化合物を使用する場合には、反応は塩
基の存在下で行なわれる。
を製造する工程であり、前記一般式(XII)を有す
る化合物の水酸基を保護することによつて達成さ
れる。反応は常法に従つて化合物(XII)を保護基
を形成する化合物と接触させることによつて行な
われる。使用される保護基を形成する化合物とし
ては例えばジヒドロピラン、ジヒドロチオピラ
ン、ジヒドロチオフエン、4―メトキシ―5,6
―ジヒドロ―(2H)ピランのような複素環化合
物;メトキシメチルクロリド、エトキシエチルク
ロリド、ベンジルオキシメチルクロリドのような
アルコキシ若しくはアラルキルオキシ置換アルキ
ルハライド化合物;メチルビニルエーテル、エチ
ルビニルエーテルのような不飽和エーテル類;ヘ
キサメチルジシラサン、トリメチルシリルクロリ
ドのようなシリル化合物などを好適な化合物とし
てあげることができる。複素環化合物または不飽
和エーテル類を使用する場合には、反応は少量の
酸、例えば塩酸、臭化水素酸のような鉱酸または
ピクリン酸、トリフルオロ酢酸、ベゼンスルホン
酸、p―トルエンスルホン酸のような有機酸の存
在下で実施される。また、アルルコキシ若しくは
アラルキルオキシ置換アルキルハライド化合物ま
たはシリル化合物を使用する場合には、反応は塩
基の存在下で行なわれる。
第9工程は前記一般式()を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物を還元することによつて達成される。
反応は通常溶剤の存在下で還元剤を使用して行な
われる。使用される還元剤として例えば水素化ア
ルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ―tert―ブトキシ
アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアル
ミニウムリチウムのような水素化金属化合物が好
適である。
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物を還元することによつて達成される。
反応は通常溶剤の存在下で還元剤を使用して行な
われる。使用される還元剤として例えば水素化ア
ルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、
水素化ホウ素亜鉛、水素化トリ―tert―ブトキシ
アルミニウムリチウム、水素化トリメトキシアル
ミニウムリチウムのような水素化金属化合物が好
適である。
第10工程は前記一般式()を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物を酸化して一般式 (式中、R10およびZは前述したものと同意義
を示す。) を有するアルデヒド誘導体となし、これに一般式 を有するウイツチヒ試剤 または一般式 (式中、R5およびMは前述したものと同意義
を示す。) を有する変型―ウイツチヒ試剤と反応させること
によつて達成される。はじめに使用される酸化剤
としては例えば無水クロム酸、無水クロム酸―ピ
リジン錯塩(Collins試薬)、無水クロム酸―濃硫
酸―水(Jones試薬)、重クロム酸ナトリウム、
重クロム酸カリウムなどのクロム酸類;N―ブロ
ムアセトアミド、N―ブロムスクシンイミド、N
―ブロムフタルイミド、N―クロル―p―トルエ
ンスルホンアミド、N―クロルベンゼンスルホン
アミドなどの有機活性ハロゲン化合物;アルミニ
ウム―tert―ブトキシド、アルミニウムイソプロ
ポキシドなどのアルミニウムアルコキシド類;ジ
メチルスルホキシド―ジシクロカルボジイミドな
どが好適に用いられる。次いで、得られたアルデ
ヒド化合物()を通常は精製することな
く、ウイツチヒ試剤()または変型―ウイ
ツチヒ試剤()と反応させることができる
が、その反応条件は前述した一般式()を有す
る化合物を一般式()を有するウイツチヒ試剤
と反応させる場合と同様である。
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物を酸化して一般式 (式中、R10およびZは前述したものと同意義
を示す。) を有するアルデヒド誘導体となし、これに一般式 を有するウイツチヒ試剤 または一般式 (式中、R5およびMは前述したものと同意義
を示す。) を有する変型―ウイツチヒ試剤と反応させること
によつて達成される。はじめに使用される酸化剤
としては例えば無水クロム酸、無水クロム酸―ピ
リジン錯塩(Collins試薬)、無水クロム酸―濃硫
酸―水(Jones試薬)、重クロム酸ナトリウム、
重クロム酸カリウムなどのクロム酸類;N―ブロ
ムアセトアミド、N―ブロムスクシンイミド、N
―ブロムフタルイミド、N―クロル―p―トルエ
ンスルホンアミド、N―クロルベンゼンスルホン
アミドなどの有機活性ハロゲン化合物;アルミニ
ウム―tert―ブトキシド、アルミニウムイソプロ
ポキシドなどのアルミニウムアルコキシド類;ジ
メチルスルホキシド―ジシクロカルボジイミドな
どが好適に用いられる。次いで、得られたアルデ
ヒド化合物()を通常は精製することな
く、ウイツチヒ試剤()または変型―ウイ
ツチヒ試剤()と反応させることができる
が、その反応条件は前述した一般式()を有す
る化合物を一般式()を有するウイツチヒ試剤
と反応させる場合と同様である。
第11工程は前記一般式()を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物を還元することによつて達成される。
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物を還元することによつて達成される。
本工程の反応条件は前記一般式(XII)を有する
化合物を製造する第7工程で述べた場合と同様で
ある。
化合物を製造する第7工程で述べた場合と同様で
ある。
第12工程は前記一般式()を有する化合物
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物よりカルボニルの保護基を除去するこ
とによつて達成される。カルボニル基の保護基の
除去反応は保護基の種類によつて異なるが、保護
されたカルボニル基が例えばジメトキシ、ジエト
キシのようなジアルコキシ基、エチレンジオキシ
のようなアルキレンジオキシ基の場合には例えば
酢酸―水、希塩酸―含水アセトン、希塩酸―含水
アセトニトリル、希硫酸―含水アセトンのような
酸および水性溶媒と接触させることによつて除去
される。この場合は通常、水酸基の保護基も同時
に除去される。また、保護されたカルボニル基が
例えばエチレンジチオ、トリメチレンヂチオのよ
うなアルキレンジチオ基の場合には溶剤の存在下
で塩化第二水銀と接触させることによつて除去さ
れる。
を製造する工程であり、前記一般式()を有
する化合物よりカルボニルの保護基を除去するこ
とによつて達成される。カルボニル基の保護基の
除去反応は保護基の種類によつて異なるが、保護
されたカルボニル基が例えばジメトキシ、ジエト
キシのようなジアルコキシ基、エチレンジオキシ
のようなアルキレンジオキシ基の場合には例えば
酢酸―水、希塩酸―含水アセトン、希塩酸―含水
アセトニトリル、希硫酸―含水アセトンのような
酸および水性溶媒と接触させることによつて除去
される。この場合は通常、水酸基の保護基も同時
に除去される。また、保護されたカルボニル基が
例えばエチレンジチオ、トリメチレンヂチオのよ
うなアルキレンジチオ基の場合には溶剤の存在下
で塩化第二水銀と接触させることによつて除去さ
れる。
第13工程は前記一般式()を有する化合物を
製造する工程であり、一般式()を有する化
合物の水酸基を保護することによつて達成され
る。本工程の反応条件は前記一般式()を有
する化合物を製造する第8工程で述べた場合と同
様である。
製造する工程であり、一般式()を有する化
合物の水酸基を保護することによつて達成され
る。本工程の反応条件は前記一般式()を有
する化合物を製造する第8工程で述べた場合と同
様である。
以上の各工程において、各々の目的化合物は反
応終了後、反応混合物を常法により処理すること
によつて得られる。得られた目的化合物は必要な
らば常法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄
層クロマトグラフイーなどを用いてさらに精製す
ることができる。
応終了後、反応混合物を常法により処理すること
によつて得られる。得られた目的化合物は必要な
らば常法、例えばカラムクロマトグラフイー、薄
層クロマトグラフイーなどを用いてさらに精製す
ることができる。
また、このようにして得られる各工程の目的化
合物が種々の幾何異性体および光学異性体の混合
物で得られる場合には、適当な合成段階において
これらの異性体を分離および分割することができ
る。
合物が種々の幾何異性体および光学異性体の混合
物で得られる場合には、適当な合成段階において
これらの異性体を分離および分割することができ
る。
本発明によつて得られる前記一般式()を有
するプロスタサイクリン類似化合物およびその薬
理上許容される塩は薬理試験によりすぐれた血小
板凝集阻害作用、冠血管拡張作用および気管支拡
張作用などを示すが、就中、血栓治療および予防
薬として有用である。
するプロスタサイクリン類似化合物およびその薬
理上許容される塩は薬理試験によりすぐれた血小
板凝集阻害作用、冠血管拡張作用および気管支拡
張作用などを示すが、就中、血栓治療および予防
薬として有用である。
その投与形態としては例えば錠剤、カプセル
剤、顆粒剤、散剤、シロツプ剤などによる経口投
与または静脈注射による非経口投与等をあげるこ
とができる。その使用量は症状、年令、体重等に
よつて異なるが、通常は成人に対して1日約
0.001mg乃至1000mg、好適には1日約0.01mg乃至
100mgであり、1回または数回に分けて投与する
ことができる。
剤、顆粒剤、散剤、シロツプ剤などによる経口投
与または静脈注射による非経口投与等をあげるこ
とができる。その使用量は症状、年令、体重等に
よつて異なるが、通常は成人に対して1日約
0.001mg乃至1000mg、好適には1日約0.01mg乃至
100mgであり、1回または数回に分けて投与する
ことができる。
次に実施例及び参考例をあげて、本発明をさら
に具体的に説明する。
に具体的に説明する。
実施例 1
6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエ
ステル (a) 6,9α―メチレン―11α,15α―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)
―4β―〔3′α―(2″―テトラヒドロピラニル
オキシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―
7―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン(870
mg)にトリフエニルフオスフイン―ε―カルボ
キシブチルブロミド(14g)及びジメチルスル
フオキシドアニオン(2.20gの52.9%油性ナト
リウムヒドリド及び125mlのジメチルスルフオ
キシドより調製)のジメチルスルフオキシド溶
液より製造したイリド溶液を加え、アルゴン雰
囲気下室温で一夜放置する。然る後氷水次いで
酢酸を加えてエーテルで抽出する。抽出液を水
洗、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後溶媒を留去
する。得られた残渣をジアゾメタンのエーテル
溶液でエステル化した後シリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフイーに付して精製すると、
595mgの目的物が油状物として得られる。
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエ
ステル (a) 6,9α―メチレン―11α,15α―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)
―4β―〔3′α―(2″―テトラヒドロピラニル
オキシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―
7―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン(870
mg)にトリフエニルフオスフイン―ε―カルボ
キシブチルブロミド(14g)及びジメチルスル
フオキシドアニオン(2.20gの52.9%油性ナト
リウムヒドリド及び125mlのジメチルスルフオ
キシドより調製)のジメチルスルフオキシド溶
液より製造したイリド溶液を加え、アルゴン雰
囲気下室温で一夜放置する。然る後氷水次いで
酢酸を加えてエーテルで抽出する。抽出液を水
洗、乾燥(無水硫酸ナトリウム)後溶媒を留去
する。得られた残渣をジアゾメタンのエーテル
溶液でエステル化した後シリカゲルを用いたカ
ラムクロマトグラフイーに付して精製すると、
595mgの目的物が油状物として得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1590,1600,1740
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.68(3H,一重線)
5.20(1H,三重線)
5.68(2H,多重線)
7.10(5H,多重線)
(b) 6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチル
エステル 6,9α―メチレン―11α,16α―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル520mgの
酢酸溶液(16ml)に水(8ml)及びテトラヒド
ロフラン(4ml)を加え、室温に一夜放置す
る。然る後飽和食塩水を加えて酢酸エチルエス
テルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を
留去する。得られた残渣をシリカゲルを用いた
カラムクロマトグラフイーで精製すると、目的
化合物が得られる。
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチル
エステル 6,9α―メチレン―11α,16α―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル520mgの
酢酸溶液(16ml)に水(8ml)及びテトラヒド
ロフラン(4ml)を加え、室温に一夜放置す
る。然る後飽和食塩水を加えて酢酸エチルエス
テルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を
留去する。得られた残渣をシリカゲルを用いた
カラムクロマトグラフイーで精製すると、目的
化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1740,3400
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.62(3H,一重線)
4.45(1H,多重線)
5.20(1H,三重線)
5.62(2H,多重線)
7.10(5H,多重線)
実施例 2
6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエ
ステル (a) 6,9α―メチレン―11α,15β―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)
―4β―〔3′β―(2″―テトラヒドロピラニル
オキシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―
7―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン435mgを
用いて実施例1(a)と同様にイリド溶液と反応、
処理すると、油状の目的化合物が得られる。
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエ
ステル (a) 6,9α―メチレン―11α,15β―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)
―4β―〔3′β―(2″―テトラヒドロピラニル
オキシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―
7―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン435mgを
用いて実施例1(a)と同様にイリド溶液と反応、
処理すると、油状の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1590,1600,1740
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.67(3H,一重線)
5.20(1H,多重線)
5.68(2H,多重線)
7.10(5H,多重線)
(b) 6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロ
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチル
エステル 6,9α―メチレン―11α,15β―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル310mgを
用いて実施例1(b)と同様に加水分解反応、処理
すると油状の目的化合物が得られる。
キシ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テト
ラノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチル
エステル 6,9α―メチレン―11α,15β―ジ(2′―
テトラヒドロピラニルオキシ)―16―フエノキ
シ―17,18,19,20―テトラノルプロスト―
5,13(E)―ジエン酸 メチルエステル310mgを
用いて実施例1(b)と同様に加水分解反応、処理
すると油状の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1740,3400
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.66(3H,一重線)
4.50(1H,多重線)
5.26(1H,三重線)
5.75(2H,多重線)
7.10(5H,多重線)
実施例 3
6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5(E),13(E)―ジエン酸および
6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5(Z),13(E)―ジエン酸 6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラノ
ルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエステ
ル12.3mg及び5%水酸化カリウムの水性メタノー
ル溶液(10ml;水:メタノール=3:7)の混合
物を室温で4時間30分撹拌する。反応終了後酢酸
酸性として飽和食塩水を加えて酢酸エチルエステ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去
する。得られた残渣をシリカゲルを用いた薄層ク
ロマトグラフイーで精製する。より極性の低い部
分より結晶性の目的化合物(5―Z異性体)34mg
が得られる。酢酸エチルエステル―ヘキサン混合
溶液より再結晶すると、融点138〜139℃の結晶が
得られる。より極性の高い部分より91mgの結晶性
目的化合物(5―E異性体)が得られる。酢酸エ
チルエステル―ヘキサン混合溶媒から再結晶する
と、融点88―89℃の結晶が得られる。
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5(E),13(E)―ジエン酸および
6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5(Z),13(E)―ジエン酸 6,9α―メチレン―11α,15α―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラノ
ルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエステ
ル12.3mg及び5%水酸化カリウムの水性メタノー
ル溶液(10ml;水:メタノール=3:7)の混合
物を室温で4時間30分撹拌する。反応終了後酢酸
酸性として飽和食塩水を加えて酢酸エチルエステ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去
する。得られた残渣をシリカゲルを用いた薄層ク
ロマトグラフイーで精製する。より極性の低い部
分より結晶性の目的化合物(5―Z異性体)34mg
が得られる。酢酸エチルエステル―ヘキサン混合
溶液より再結晶すると、融点138〜139℃の結晶が
得られる。より極性の高い部分より91mgの結晶性
目的化合物(5―E異性体)が得られる。酢酸エ
チルエステル―ヘキサン混合溶媒から再結晶する
と、融点88―89℃の結晶が得られる。
5―Z異性体:
赤外線吸収スペクトル(Nujol)νnaxcm-1:
1715
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
4.55(1H,多重線)
5.25(1H,三重線)
5.75(2H,多重線)
7.10(5H,多重線)
5―E異性体:
赤外線吸収スペクトル(Nujol)νnaxcm-1:
1715
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
4.45(1H,多重線)
5.21(1H,三重線)
5.64(2H,多重線)
7.10(5H,多重線)
実施例 4
6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラノ
ルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエステ
ル31mgを用いて実施例3と同様に加水分解反応、
処理すると油状の目的化合物が得られる。
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラ
ノルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 6,9α―メチレン―11α,15β―ジヒドロキ
シ―16―フエノキシ―17,18,19,20―テトラノ
ルプロスト―5,13(E)―ジエン酸 メチルエステ
ル31mgを用いて実施例3と同様に加水分解反応、
処理すると油状の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1710
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
4.48(1H,多重線)
5.18(1H,三重線)
5.67(2H,多重線)
7.07(5H,多重線)
参考例 1
3α―(3′―フエニルプロピル)―4α―カル
ボキシシクロペンタノン テトラヘドロン レターズ(Tetrahedron
Letters)101(1976)に記載された方法に順じて
製造した2β,4α―ジメトキシカルボニル―3
α―(3′―フエニルプロピル)―シクロペンタノ
ン(83.5g)を酢酸(300ml)及び稀塩酸水(300
ml)に溶解し2時間45分加熱還流する。然る後飽
和食塩水を加えて酢酸エチルエスチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルを用いたカラムクロマト
グラフイーで精製すると、52.1gの結晶性目的化
合物が得られる。酢酸エチルエステル―ヘキサン
混合溶液より再結晶すると、融点76〜78℃の結晶
が得られる。
ボキシシクロペンタノン テトラヘドロン レターズ(Tetrahedron
Letters)101(1976)に記載された方法に順じて
製造した2β,4α―ジメトキシカルボニル―3
α―(3′―フエニルプロピル)―シクロペンタノ
ン(83.5g)を酢酸(300ml)及び稀塩酸水(300
ml)に溶解し2時間45分加熱還流する。然る後飽
和食塩水を加えて酢酸エチルエスチルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルを用いたカラムクロマト
グラフイーで精製すると、52.1gの結晶性目的化
合物が得られる。酢酸エチルエステル―ヘキサン
混合溶液より再結晶すると、融点76〜78℃の結晶
が得られる。
赤外線吸収スペクトル(melted film)νnaxcm
-1: 1705,1740 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm: 7.22(5H,一重線) 10.47(1H,一重線) 参考例 2 3α―(3′―フエニルプロピル)―4α―メト
キシカルボニルメチルシクロペンタノン 3α―(3′―フエニルプロピル)―4α―カル
ボキシシクロペンタノン(496mg)のベンゼン溶
液(2ml)にオキザリルクロリド(2ml)を加え
30分加熱還流する。反応終了後溶媒を留去し得ら
れた残留物にジアゾメタンのエーテル溶液(7g
のダイアザルト(Diazald)より調製)を加え1
時間撹拌する。然る後溶媒を留去し得られた残渣
(粗ジアゾケトン体含有)をメタノール(10ml)
およびトリエチルアミン(5ml)に溶解し、それ
に安息香酸銀(1g)を加え20分撹拌する。反応
終了後溶媒を濃縮し、飽和食塩水を加えて酢酸エ
チルエステルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後
溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルを
用いたカラムクロマトグラフイーによつて精製す
ると、399mgの目的化合物が油状物して得られ
る。
-1: 1705,1740 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm: 7.22(5H,一重線) 10.47(1H,一重線) 参考例 2 3α―(3′―フエニルプロピル)―4α―メト
キシカルボニルメチルシクロペンタノン 3α―(3′―フエニルプロピル)―4α―カル
ボキシシクロペンタノン(496mg)のベンゼン溶
液(2ml)にオキザリルクロリド(2ml)を加え
30分加熱還流する。反応終了後溶媒を留去し得ら
れた残留物にジアゾメタンのエーテル溶液(7g
のダイアザルト(Diazald)より調製)を加え1
時間撹拌する。然る後溶媒を留去し得られた残渣
(粗ジアゾケトン体含有)をメタノール(10ml)
およびトリエチルアミン(5ml)に溶解し、それ
に安息香酸銀(1g)を加え20分撹拌する。反応
終了後溶媒を濃縮し、飽和食塩水を加えて酢酸エ
チルエステルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後
溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲルを
用いたカラムクロマトグラフイーによつて精製す
ると、399mgの目的化合物が油状物して得られ
る。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1742
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.72(3H,一重線)
7.34(5H,一重線)
参考例 3
3α―(3′―フエニル―2′―プロペニル)―4
α―メトキシカルボニルメチルシクロペンタノ
ン 3α―(3′―フエニルプロピル)―4α―メト
キシカルボニルメチルシクロペンタノン(376
mg)の四塩化炭素溶液(6ml)にN―ブロムスク
シンイミド(200mg)および触媒量のアゾビスジ
イソブチロニトリルを加え加熱還流する。反応終
了後スクシンイミドを去し、液の溶媒を留去
すると粗ブロム体が得られる。この粗ブロム体を
テトラヒドロフラン(10ml)に溶解し、この溶液
をナトリウムゼレノフエノールのエタノール溶液
〔ジフエニルジゼレニド(240mg)、水素化ホウ素
ナトリウム(64mg)及びエタノール(10ml)より
調製した〕に室温で滴加し30分撹拌する。然る後
硫酸マグネシウム(2g)を加えたのち、30%過
酸化水素水(0.6ml)を滴加する。2時間撹拌後
稀重曹水を加えて酢酸エチルエステルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルを用いたカラムクロマト
グラフイーで精製すると、322mgの油状の目的化
合物が得られる。
α―メトキシカルボニルメチルシクロペンタノ
ン 3α―(3′―フエニルプロピル)―4α―メト
キシカルボニルメチルシクロペンタノン(376
mg)の四塩化炭素溶液(6ml)にN―ブロムスク
シンイミド(200mg)および触媒量のアゾビスジ
イソブチロニトリルを加え加熱還流する。反応終
了後スクシンイミドを去し、液の溶媒を留去
すると粗ブロム体が得られる。この粗ブロム体を
テトラヒドロフラン(10ml)に溶解し、この溶液
をナトリウムゼレノフエノールのエタノール溶液
〔ジフエニルジゼレニド(240mg)、水素化ホウ素
ナトリウム(64mg)及びエタノール(10ml)より
調製した〕に室温で滴加し30分撹拌する。然る後
硫酸マグネシウム(2g)を加えたのち、30%過
酸化水素水(0.6ml)を滴加する。2時間撹拌後
稀重曹水を加えて酢酸エチルエステルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得ら
れた残留物をシリカゲルを用いたカラムクロマト
グラフイーで精製すると、322mgの油状の目的化
合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1738
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.70(3H,一重線)
6.12(1H,多重線)
6.55(1H,二重線)
7.36(5H,一重線)
参考例 4
3α,4α―ジメトキシカルボニルメチルシク
ロペンタノン 3α―(3′―フエニル―2′―プロペニル)―4
α―メトキシカルボニルメチルシクロペンタノン
(85mg)のテトラヒドロフラン溶液(4ml)に水
(2ml)及びメタ過ヨウ素酸ナトリウム(200mg)
を加え、次いで触媒量の四酸化オスミウムを加え
室温で2時間15分撹拌する。然る後溶媒を留去し
飽和食塩水を加えて酢酸エチルエステルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得ら
れた残留物をアセトン(3ml)に溶解し氷冷下、
ジヨーンズ試薬(0.5ml)を加え15分放置する。
反応終了後過剰の試薬をイソプロピルアルコール
で分解し、飽和食塩水を加えて酢酸エチルエステ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去
する。ここに得られた粗カルボキシ体をジアゾメ
タンのエーテル溶液でエステル化したのちシリカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフイーで精製す
ると、60mgの油状の目的化合物が得られる。
ロペンタノン 3α―(3′―フエニル―2′―プロペニル)―4
α―メトキシカルボニルメチルシクロペンタノン
(85mg)のテトラヒドロフラン溶液(4ml)に水
(2ml)及びメタ過ヨウ素酸ナトリウム(200mg)
を加え、次いで触媒量の四酸化オスミウムを加え
室温で2時間15分撹拌する。然る後溶媒を留去し
飽和食塩水を加えて酢酸エチルエステルで抽出す
る。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得ら
れた残留物をアセトン(3ml)に溶解し氷冷下、
ジヨーンズ試薬(0.5ml)を加え15分放置する。
反応終了後過剰の試薬をイソプロピルアルコール
で分解し、飽和食塩水を加えて酢酸エチルエステ
ルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去
する。ここに得られた粗カルボキシ体をジアゾメ
タンのエーテル溶液でエステル化したのちシリカ
ゲルを用いたカラムクロマトグラフイーで精製す
ると、60mgの油状の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1735
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.78(6H,一重線)
参考例 5
1,1′―エチレンジオキシ―3α,4α―ジメ
トキシカルボニルメチルシクロロペンタン 3α,4α―ジメトキシカルボニルメチルシク
ロペンタノン470mgのベンゼン溶液(50ml)にエ
チレングリコール(2ml)及び触媒量のパラトル
エンスルフオン酸を加え脱水条件下に加熱する。
反応終了後稀重曹水を加えて酢酸エチルエステル
で抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去す
る。得られた残留物をシリカゲルを用いたカラム
クロマトグラフイーで精製すると、336mgの目的
化合物が油状物として得られる。
トキシカルボニルメチルシクロロペンタン 3α,4α―ジメトキシカルボニルメチルシク
ロペンタノン470mgのベンゼン溶液(50ml)にエ
チレングリコール(2ml)及び触媒量のパラトル
エンスルフオン酸を加え脱水条件下に加熱する。
反応終了後稀重曹水を加えて酢酸エチルエステル
で抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶媒を留去す
る。得られた残留物をシリカゲルを用いたカラム
クロマトグラフイーで精製すると、336mgの目的
化合物が油状物として得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1740
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.70(4H,一重線)
3.90(3H,一重線)
参考例 6
4β―メトキシカルボニル―7,7′―エチレン
ジオキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン―3―オ
ン 1,1′―エチレンジオキシ―3α,4α―ジメ
トキシカルボニルメチルシクロペンタン(120
mg)のジメチルスルフオキシド溶液(5ml)にナ
トリウムメトキシドのメタノール溶液(0.8ml:
Na9.5mg相当のナトリウムメトキシド含有)を加
え30分間メタノールが留出する温度に加熱する。
然る後室温に1時間放置し、水性酢酸で中和し酢
酸エチルエステルで抽出する。抽出液を水洗、乾
燥後溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲ
ルを用いたカラムクロマトグラフイーで精製する
と、73mgの目的化合物が油状物として得られる。
ジオキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン―3―オ
ン 1,1′―エチレンジオキシ―3α,4α―ジメ
トキシカルボニルメチルシクロペンタン(120
mg)のジメチルスルフオキシド溶液(5ml)にナ
トリウムメトキシドのメタノール溶液(0.8ml:
Na9.5mg相当のナトリウムメトキシド含有)を加
え30分間メタノールが留出する温度に加熱する。
然る後室温に1時間放置し、水性酢酸で中和し酢
酸エチルエステルで抽出する。抽出液を水洗、乾
燥後溶媒を留去する。得られた残留物をシリカゲ
ルを用いたカラムクロマトグラフイーで精製する
と、73mgの目的化合物が油状物として得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1620,1665,1730,1755
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.78(3H,一重線)
3.90(4H,一重線)
参考例 7
3α―ヒドロキシ―4β―メトキシカルボニル
―7,7′―エチレンジオキシビシクロ〔3.3.0〕
オクタン 4β―メトキシカルボニル―7,7′―エチレン
ジオキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン―3―オン
(250mg)の無水メタノール溶液(5ml)に氷冷下
水素化ホウ素ナトリウム(35mg)を加える。13分
後過剰の試薬を酢酸で分解し、飽和食塩水を加え
て酢酸エチルエステルで抽出する。抽出液を水
洗、乾燥後溶媒を留去する。得られた残留物をシ
リカゲルを用いてカラムクロマトグラフイーで精
製すると、145mgの油状の目的化合物が得られ
る。
―7,7′―エチレンジオキシビシクロ〔3.3.0〕
オクタン 4β―メトキシカルボニル―7,7′―エチレン
ジオキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン―3―オン
(250mg)の無水メタノール溶液(5ml)に氷冷下
水素化ホウ素ナトリウム(35mg)を加える。13分
後過剰の試薬を酢酸で分解し、飽和食塩水を加え
て酢酸エチルエステルで抽出する。抽出液を水
洗、乾燥後溶媒を留去する。得られた残留物をシ
リカゲルを用いてカラムクロマトグラフイーで精
製すると、145mgの油状の目的化合物が得られ
る。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1730,3450
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.75(3H,一重線)
3.98(4H,一重線)
4.33(1H,多重線)
参考例 8
3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―メトキシカルボニル―7,7′―エチレン
ジオキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―ヒドロキシ―4β―メトキシカルボニル
―7,7′―エチレンジオキシビシクロ〔3.3.0〕オ
クタン(140mg)の無水ベンゼン溶液(5ml)に
ジヒドロピラン(0.6ml)及び触媒量のピクリン
酸を加え氷冷下に1時間放置する。然る後反応液
に酢酸エチルエステルを加え、稀重曹水、水で順
次洗浄したのち乾燥する。溶媒を留去して得られ
た残留物をアルミナ(Grade)を用いてカラム
クロマトグラフイーで精製すると、173mgの油状
の目的化合物が得られる。
4β―メトキシカルボニル―7,7′―エチレン
ジオキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―ヒドロキシ―4β―メトキシカルボニル
―7,7′―エチレンジオキシビシクロ〔3.3.0〕オ
クタン(140mg)の無水ベンゼン溶液(5ml)に
ジヒドロピラン(0.6ml)及び触媒量のピクリン
酸を加え氷冷下に1時間放置する。然る後反応液
に酢酸エチルエステルを加え、稀重曹水、水で順
次洗浄したのち乾燥する。溶媒を留去して得られ
た残留物をアルミナ(Grade)を用いてカラム
クロマトグラフイーで精製すると、173mgの油状
の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1735
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.70(3H,一重線)
3.90(4H,一重線)
4.62(1H,多重線)
参考例 9
3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―ヒドロキシメチル―7,7′―エチレンジ
オキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―メトキシカルボニル―7,7′―エチレンジ
オキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン(165mg)のエ
ーテル溶液(7ml)に氷冷下水素化アルミニウム
リチウム(130mg)を加え20分間撹拌する。反応
終了後4%苛性ソーダ水(0.51ml)を加え室温に
て撹拌する。生成した白色沈澱物を去し、液
を濃縮する。得られた残留物をシリカゲルを用い
たカラムクロマトグラフイーに付し精製すると、
84mgの油状の目的化合物が得られる。
4β―ヒドロキシメチル―7,7′―エチレンジ
オキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―メトキシカルボニル―7,7′―エチレンジ
オキシビシクロ〔3.3.0〕オクタン(165mg)のエ
ーテル溶液(7ml)に氷冷下水素化アルミニウム
リチウム(130mg)を加え20分間撹拌する。反応
終了後4%苛性ソーダ水(0.51ml)を加え室温に
て撹拌する。生成した白色沈澱物を去し、液
を濃縮する。得られた残留物をシリカゲルを用い
たカラムクロマトグラフイーに付し精製すると、
84mgの油状の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
3450
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.82(4H,一重線)
4.55(1H,多重線)
参考例 10
3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―(3′―オキソ―4′―フエノキシ―1′―ブ
テニル)―7,7′―エチレンジオキシビシクロ
〔3.3.0〕オクタン 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―ヒドロキシメチル―7,7′―エチレンジオ
キシビシクロ〔3.3.0〕オクタン(1.15g)のメチ
レンクロリド溶液(10ml)に無水クロム酸―ピリ
ジン錯体のメチレンクロリド溶液〔無水クロム酸
(4.00g)、ピリジン(6.35ml)およびメチレンク
ロリド(100ml)より調製〕を加え、氷冷下10分
間放置する。反応終了後過剰のエーテルを加え有
機層を飽和食塩水、稀重曹水および飽和食塩水で
順次洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。得られた粗
アルデヒド体を精製することなく5mlのエーテル
に溶解し2―オキソ―3―フエノキシプロピリデ
ントリノルマルブチルフオスフオラン(3.2g)
を加え7時間加熱還流する。然る後溶媒を留去し
得られた残留物をシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフイーで精製すると、1.096gの油状の
目的化合物が得られる。
4β―(3′―オキソ―4′―フエノキシ―1′―ブ
テニル)―7,7′―エチレンジオキシビシクロ
〔3.3.0〕オクタン 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―ヒドロキシメチル―7,7′―エチレンジオ
キシビシクロ〔3.3.0〕オクタン(1.15g)のメチ
レンクロリド溶液(10ml)に無水クロム酸―ピリ
ジン錯体のメチレンクロリド溶液〔無水クロム酸
(4.00g)、ピリジン(6.35ml)およびメチレンク
ロリド(100ml)より調製〕を加え、氷冷下10分
間放置する。反応終了後過剰のエーテルを加え有
機層を飽和食塩水、稀重曹水および飽和食塩水で
順次洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。得られた粗
アルデヒド体を精製することなく5mlのエーテル
に溶解し2―オキソ―3―フエノキシプロピリデ
ントリノルマルブチルフオスフオラン(3.2g)
を加え7時間加熱還流する。然る後溶媒を留去し
得られた残留物をシリカゲルを用いたカラムクロ
マトグラフイーで精製すると、1.096gの油状の
目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1600,1625,1700,1720
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.82(4H,一重線)
4.64(1H,二重線)
6.60(2H,多重線)
7.20(5H,多重線)
参考例 11
3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―(3′―ヒドロキシ―4′―フエノキシ―
1′―ブテニル)―7,7′―エチレンジオキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン 1.09gの3α―(2′―テトラヒドロピラニルオ
キシ)―4β―(3′―オキソ―4′―フエノキシ―
1′―ブテニル)―7,7′―エチレンジオキシビシ
クロ〔3.3.0〕オクタンの無水メタノール溶液
(20ml)に水素化ホウ素ナトリウム(500mg)を氷
冷下に加え10分間放置する。然る後酢酸を加えて
過剰の試薬を分解し飽和食塩水を加えて酢酸エチ
ルエステルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶
媒を留去すると、目的化合物が油状物として得ら
れる。
4β―(3′―ヒドロキシ―4′―フエノキシ―
1′―ブテニル)―7,7′―エチレンジオキシビ
シクロ〔3.3.0〕オクタン 1.09gの3α―(2′―テトラヒドロピラニルオ
キシ)―4β―(3′―オキソ―4′―フエノキシ―
1′―ブテニル)―7,7′―エチレンジオキシビシ
クロ〔3.3.0〕オクタンの無水メタノール溶液
(20ml)に水素化ホウ素ナトリウム(500mg)を氷
冷下に加え10分間放置する。然る後酢酸を加えて
過剰の試薬を分解し飽和食塩水を加えて酢酸エチ
ルエステルで抽出する。抽出液を水洗、乾燥後溶
媒を留去すると、目的化合物が油状物として得ら
れる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1590,1600,3450
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
3.88(4H,一重線)
5.75(2H,多重線)
7.07(5H,多重線)
参考例 12
3α―ヒドロキシ―4β―(3′α―ヒドロキシ
―4′―フエノキシ―1′―ブテニル)―7―オキ
ソビシクロ〔3.3.0〕オクタンおよび3α―ヒ
ドロキシ―4β―(3′β―ヒドロキシ―4′―フ
エノキシ―1′―ブテニル)―7―オキソビシク
ロ〔3.3.0〕オクタン 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―(3′―ヒドロキシ―4′―フエノキシ―1′―
ブテニル)―7,7′―エチレンジオキシビシクロ
〔3.3.0〕オクタン(1.37g)の水性酢酸溶液(35
ml;水:酢酸=3:4)を室温に20時間放置す
る。然る後溶媒を留去し得られた残渣に飽和重曹
水を加えて酢酸エチルエステルで抽出する。抽出
液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルを用いたクロマトグラフイーで精
製すると、より極性の低い部分より217mgの結晶
性の目的化合物(3′β―体)およびより極性の高
い部分より445mgの油状の目的化合物(3′α―
体)が得られる。
―4′―フエノキシ―1′―ブテニル)―7―オキ
ソビシクロ〔3.3.0〕オクタンおよび3α―ヒ
ドロキシ―4β―(3′β―ヒドロキシ―4′―フ
エノキシ―1′―ブテニル)―7―オキソビシク
ロ〔3.3.0〕オクタン 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―(3′―ヒドロキシ―4′―フエノキシ―1′―
ブテニル)―7,7′―エチレンジオキシビシクロ
〔3.3.0〕オクタン(1.37g)の水性酢酸溶液(35
ml;水:酢酸=3:4)を室温に20時間放置す
る。然る後溶媒を留去し得られた残渣に飽和重曹
水を加えて酢酸エチルエステルで抽出する。抽出
液を水洗、乾燥後溶媒を留去する。得られた残留
物をシリカゲルを用いたクロマトグラフイーで精
製すると、より極性の低い部分より217mgの結晶
性の目的化合物(3′β―体)およびより極性の高
い部分より445mgの油状の目的化合物(3′α―
体)が得られる。
3′β―体:
融点 104―105℃
赤外線吸収スペクトル(melted film)νnaxcm
-1: 1595,1605,1740,3430 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm: 4.47(1H,多重線) 5.70(2H,多重線) 3′α―体: 赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1: 1595,1605,1740,3430 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm: 4.49(1H,多重線) 5.76(2H,多重線) 参考例 13 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―〔3′α―(2″―テトラヒドロピラニルオ
キシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―7
―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―ヒドロキシ―4β―(3′α―ヒドロキシ
―4′―フエノキシ―1′―ブテニル)―7―オキソ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン(415mg)の無水ベン
ゼン溶液(15ml)にジヒドロピラン(5ml)及び
触媒量のピクリン酸を加えて室温に2時間放置す
る。然る後反応液を直接アルミナを用いたカラム
クロマトグラフイーに付し精製すると、595mgの
油状の目的化合物が得られる。
-1: 1595,1605,1740,3430 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm: 4.47(1H,多重線) 5.70(2H,多重線) 3′α―体: 赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1: 1595,1605,1740,3430 核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm: 4.49(1H,多重線) 5.76(2H,多重線) 参考例 13 3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―〔3′α―(2″―テトラヒドロピラニルオ
キシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―7
―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―ヒドロキシ―4β―(3′α―ヒドロキシ
―4′―フエノキシ―1′―ブテニル)―7―オキソ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン(415mg)の無水ベン
ゼン溶液(15ml)にジヒドロピラン(5ml)及び
触媒量のピクリン酸を加えて室温に2時間放置す
る。然る後反応液を直接アルミナを用いたカラム
クロマトグラフイーに付し精製すると、595mgの
油状の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1742
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
5.63(2H,多重線)
参考例 14
3α―(2′―テトラヒドロピラニルオキシ)―
4β―〔3′β―(2″―テトラヒドロピラニルオ
キシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―7
―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―ヒドロキシ―4β―(3′β―ヒドロキシ
―4′―フエノキシ―1′―ブテニル)―7―オキソ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン(220mg)を用いて参
考例13と同様にジヒドロピランと反応、処理する
と、油状の目的化合物が得られる。
4β―〔3′β―(2″―テトラヒドロピラニルオ
キシ)―4′―フエノキシ―1′―ブテニル〕―7
―オキソビシクロ〔3.3.0〕オクタン 3α―ヒドロキシ―4β―(3′β―ヒドロキシ
―4′―フエノキシ―1′―ブテニル)―7―オキソ
ビシクロ〔3.3.0〕オクタン(220mg)を用いて参
考例13と同様にジヒドロピランと反応、処理する
と、油状の目的化合物が得られる。
赤外線吸収スペクトル(液膜状)νnaxcm-1:
1742
核磁気共鳴スペクトル(CDCl3)δppm:
5.63(2H,多重線)
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は水素原子または炭素数1乃至5
個を有するアルキル基を示し、nは1乃至5の整
数を示す。)を有するプロスタサイクリン類似化
合物およびその薬理上許容される塩。 2 一般式 (式中、R4は水酸基の保護基を示す。)を有す
る化合物を 一般式 (R5)3P―CH―(CH2)oCOOM (式中、R5はアリール基または低級アルキル
基を示し、Mはアルカリ金属原子を示し、nは1
乃至5の整数を示す。)を有するウイツチヒ試剤
と反応させ、次いで酸で処理することにより遊離
酸に変換し、必要に応じてエステル化して 一般式 (式中、R4およびnは前述したものと同意義
を示し、R6は水素原子または炭素数1乃至5を
有するアルキル基を示す。)を有する化合物を製
造し、得られた化合物の水酸基の保護基を除去
し、エステル誘導体を必要に応じて加水分解する
ことを特徴とする、一般式 (式中、R1は水素原子または炭素数1乃至5
を有するアルキル基を示し、nは前述したものと
同意義を示す。)を有するプロスタサイクリン類
似化合物およびその薬理上許容される塩の製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10208178A JPS5528945A (en) | 1978-08-22 | 1978-08-22 | Prostacycline-family compound and its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10208178A JPS5528945A (en) | 1978-08-22 | 1978-08-22 | Prostacycline-family compound and its preparation |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5528945A JPS5528945A (en) | 1980-02-29 |
JPS6223737B2 true JPS6223737B2 (ja) | 1987-05-25 |
Family
ID=14317817
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10208178A Granted JPS5528945A (en) | 1978-08-22 | 1978-08-22 | Prostacycline-family compound and its preparation |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5528945A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2845770A1 (de) * | 1978-10-19 | 1980-04-30 | Schering Ag | Neue prostacyclin-derivate und verfahren zu ihrer herstellung |
-
1978
- 1978-08-22 JP JP10208178A patent/JPS5528945A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5528945A (en) | 1980-02-29 |
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