JPS62235794A - 半導体レ−ザアレイ装置 - Google Patents

半導体レ−ザアレイ装置

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JPS62235794A
JPS62235794A JP61080478A JP8047886A JPS62235794A JP S62235794 A JPS62235794 A JP S62235794A JP 61080478 A JP61080478 A JP 61080478A JP 8047886 A JP8047886 A JP 8047886A JP S62235794 A JPS62235794 A JP S62235794A
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    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/02Structural details or components not essential to laser action
    • H01S5/028Coatings ; Treatment of the laser facets, e.g. etching, passivation layers or reflecting layers
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar
    • H01S5/4031Edge-emitting structures
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、位相同期型半導体レーザアレイ装置の構造に
関するものである。
(従来の技術) 半導体レーザを高出力動作させる場合、実用性を考慮す
ると、単体の半導体レーザ素子では現在のところ、最大
出力はF+OmW程度が限界である。
そこで、複数個の半導体レーザを同一基板上に並べるこ
とにより高出力化を計る半導体レーザアレイの研究が進
められている。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、複数本の屈折率導波型半導体レーザを平
行に光学的結合を持たせて並べ、各レーザに均一な利得
を与えても、各々のとなりあった半導体レーザによる光
は、0°位相で同期する状態よりもむしろ位相が反転し
た180°位相モードの方が光の電界分布と利得分布が
良く一致するので発振閾値利得が小さくなるため、定常
状態において、180°位相モードが発振してしまう。
これを避けるためには、180°位相モードの発振閾値
利得を大きくして180’位相モードの抑制を行なう必
要があり、第4図(a)、 (b)に示すように両へき
開面(30,30)間に分岐結合型の導波路(31,3
1,・・・)を有する構造の半導体レーザアレイが提案
されてる。第4図(a)の場合は、分岐部(31a)が
1本の導波路(31)に2ケ所設けられているが、第4
図(b)の場合は、分岐部(31a)が1本の導波路(
3I)に1ケ所設けられている。この導波路構造におい
ては、2本の導波路を進んできた06位相モードの光は
1本の導波路に進行する際に位相が同相であるため互い
に強め合うが、180°位相モードの光は逆相になるた
め互いに弱められ、放射モードとなって導波路外に放射
していく。゛このことを利用して1800位相モードの
損失を増大させ、その結果、1800位相モードの発振
閾値利得を増大させている。
しかしながら、導波路の本数が増大していくと、0°位
相モードと180°位相モードの中間モードの発振閾値
利得が最も小さくなってしまい、00位相モードによる
発振が出来なくなる。例えば、平行に隣接された複数の
活性導波路によって構成されているレーザアレイにおけ
る(a) 00位相モード、(c)180°位相モード
、(b)中間モードの電界Eの分布及び遠視野像をそれ
ぞれ第5図(a)〜(c)に示す。第5図(a)〜(c
)において、数字(9゜9、・・・)は活性導波路であ
る。
これらの図かられかるように、0°位相同期モード(a
)の遠視野像は垂直方向に出射するレーザ光となり、一
方、他のアレイモード(b)、 (c)の遠視野像はあ
る角度をもった斜方向に出射するレーザ光となる。即ち
、半導体レーザアレイから放射されるレーザ光の遠視野
像は00位相同期状態では単峰性の強度分布を示し、レ
ンズで単一の微小スポットに絞ることができるが、18
00位相同期モード及び各中間モード状態では遠視野像
が複数の双峰性のピークとなりレンズで単一のスポット
に絞ることはできない。
レーザ光を単一のスポットに絞れないと各種光学系との
結合4こ不都合が生じ、光通信、光デイスクシステム等
の光源としての実用性が阻害されることになる。
従って、半導体レーザアレイが00位相同期して発振す
るように、即ち00位相同期モードの発振利得が180
°位相同期モード及び中間モードよりも高くなるように
技術的手段を駆使して通信用光源等としての利用価値を
確保することが、半導体レーザアレイ装置に対して強く
要望されている。
本発明の目的は、平行にならびかっ互いがなめらかに結
合された複数本の屈折率導波型半導体レーザが0°位相
同期して発振し、単峰性の放射パターンで高出力のレー
ザ光を放射する半導体レーザアレイ装置を提供すること
である。
(問題点を解決するための手段) 本発明に係る半導体レーザアレイ装置は、隣接した複数
の屈折率導波型活性導波路と、この複数の活性導波路に
接して、複数の活性導波路から放射される位相同期した
レーザ光がフーリエ変換されるフーリエ変換領域とを同
一基板上に設け、このフーリエ変換領域に接して、フー
リエ変換された00位相同期モードのレーザ光を選択的
に反射し、上記の複数の活性導波路に再入射させるよう
に構成されたミラー部を設けたことを特徴とする。
(作 用) 本発明の半導体レーザアレイ装置においては、隣接した
複数の屈折率導波路型の活性導波路を有し、この複数の
活性導波路から放射される位相同期したレーザ光が変換
導波路領域でフーリエ変換され、さらにフーリエ変換さ
れた0°位相モードのレーザ光が選択的にミラー部で反
射されることによって、レーザ光をθ°位相で同期発振
させる。
(実施例) 以下、本発明の1実施例を、第2図に示すような平坦な
活性層を有するGaAs−GaAaAs系半導体レーザ
アレイを用いて説明する。
n−GaAs基板(+)上に、エピタキシャル法により
、n−Al2XGa1−XAsクラッド層(2)、p−
またはn  A f2yG at −yA s活性層(
3)、p−AQXG al −。
Asクラッド層(4)、p−GaAsキャップ層(5)
を順次成長させ、ダブルへテロ構造を得る。ただし上記
のクラッド層(2)、(4)においてx>yである。次
に通常のホトリソグラフィ技術、及び化学エツチング法
あるいはドライエツチング法を用・いて、隣接する複数
の屈折率導波路(9)を形成するため、導波路間のp型
キャップ層(5)及びp型クラッド層(4)の一部を除
去する。エッチングで除去した後のp型りラッド層厚と
活性層厚で屈折率導波路の屈折率差が決定されるが、通
常位相同期アレイでは、5 X 10−’〜3 X 1
0−’となるように設定する。
次にp型キャップ層(5)及び上記のエツチング部にプ
ラズマCVD法でS i3N、膜(6)を全面に形成し
た後、ホトリソグラフィ技術で導波路部(9)の5ia
N4膜(6)を除去した後、n型抵抗性電極(7)を形
成する。また、n型基板側にn型抵抗性電極(8)を形
成する。最後に共振器長が200〜400μlとなるよ
うに前記導波路(a)と直角にへき開する。
以上のプロセスにより、複数の平行な分岐結合型の屈折
率導波路(9,9,・・・)よりなる屈折率導波路部(
16)とこれに接するフーリエ変換部(17)が形成さ
れる。フーリエ変換部(17)では、活性導波路(19
)から放射される位相同期したレーザ光がフーリエ変換
される。
次に両へき開面にA12ffios膜あるいはアモルフ
ァスSi膜を電子ビーム蒸着法で被覆して、レーザ面ミ
ラーを形成する。この時単層のA Q 203膜あるい
は多層のAILO3膜とアモルファスSi膜で構成され
る反射膜における各層の厚さを適当に変えることによっ
て反射膜の反射率を約2%〜95%まで任意に設定する
ことができる。本実施例ではλ/4厚(λ:発振波長)
のAQtO3膜とλ/2厚のA(bos膜を用いていて
、それぞれの反射率を約2%と約32%としている。す
なわち、まず、第1図に示すように複数の隣接する屈折
率導波路(9)側のへき開面(11)にλ/2厚のA(
h03膜よりなるミラー(12)を電子ビーム蒸着法で
形成する。
次に、その対面するべき開面(13)には、まずλ/4
厚のAQ、03膜(14)を形成し、次に周知のホトリ
ソグラフィ技術によってA Q t O3膜(14)が
形成されたへき開面上の導波路部の周辺部にレジスト膜
を形成した後、再度λ/4厚のA12aOs膜(15)
を被覆する。次にレジスト膜を除去する。
これによって、第1図に示すように、導波路の中央部の
へき開面(13a)上にはλ/2厚のA (l t O
3膜(反射率:32%)(14と15)、そして周辺部
のへき開面(13b)上にはλ/4厚のAl2zOs膜
(反射率:2%X14)よりなる共振器ミラー18が形
成されることになる。
ここではλ/4膜厚(反射率;2%)とλ/2膜厚(反
射率γ32%)のAQtO3膜を用いたが、前に記した
ようにAct’3膜とアモルファス−8t膜の多層膜を
用いても可能である。また、導波路に対面するへき開面
(13)側の高反射率部分の反射率は95%程度の高反
射率の方が効果的であることはいうまでもない。
このようにへき開面(13)上に反射率の異なる誘電膜
を形成することにより、へき開面(13)上の反射率が
複数の活性導波路に対面する中央部で高く、その周辺部
で低くなる。従って、共振器ミラーによる損失は、θ°
位相同期モードでは第5図(a)に示したように複数の
活性導波路からまつすぐ垂直方向にレーザ光が照射され
るために共振器ミラーによる損失は少なく、一方他のア
レイモードにおいては複数の活性導波路から両側に斜め
8一 方向にレーザ光が照射されるために損失は大きくなる。
この結果、0膜位相同期モードの全体として損失は他の
アレイモードに比べて少なく、発振閾値利得も小さくな
るため、第5図(a)で示すように、0膜位相で同期し
たレーザ光を安定して出力することができる。
この時、複数の活性導波路が分岐結合部を有しない通常
の平行型の導波路では各導波路間はエバネッセント波を
利用して光学的に結合している必要がある。一方、分岐
結合部を有する複数の活性導波路の場合はエバネッセン
ト波を利用して光学的に結合している方が安定な0膜位
相同期モードが得られるが、各活性導波路が均一にでき
ていれば、エバネッセント波を利用した光学的結合は必
ずしも必要でない。
第1図に示す位相同期レーザ素子で、屈折率導波路部(
16)の幅Wが4μ肩、中間領域幅Ws力月μm、屈折
率導波路部(16)の長さ乙が250μM1フーリエ変
換部(17)の長さQ、が5θμ11屈折率導波路(9
)側のへき開面(11)の反射率が32%、フーリエ変
換部(17)側のへき開面(I3)の中央部の反射率が
32%、周辺部の反射率が2%に設定した場合、発振閾
値電流は130〜160mA、光出力+00mWまで0
0位相同期モードで発振し、他の位相同期モードの発振
を抑制することができた。
なお、本発明の半導体レーザアレイの複数の活性導波路
部は、上述した種類の屈折率導波路構造に限らず、埋め
込み構造型、基板吸収型等の屈折率型導波路に適用でき
ることはいうまでもない。
さらに、GaAρAs−GaAs系に限らず、InP−
rnGaAsP系、 その他の材料を用いた半導体レー
ザアレイ素子に適用することができる。
その他の構成方法として、第1図に示す半導体アレイ装
置において、フーリエ変換部(17)側のへき開面(1
3)の導波路(9)に対向する部分に均一な反射率を有
する共振器面を形成することによっても06位相モード
のレーザ光を選択的に複数の活性導波路に再入射できる
ことは、第5図の各モードの遠視野像に示すように00
位相モード以外はレーザ光の出射方向が斜方向となって
いることから明らかである。
さらに、第3図に示すように、複数の隣接した平行な屈
折率型活性導波路(29)側のへき開面(21)に対面
するフーリエ変換部(27)側のへき開面(23)の中
央部(25)を凸面鏡の形状に形成し、その上にミラー
面(24)を形成して上記中央部(25)にレーザ光に
対して凹面鏡をなすミラー面を形成し、08位相モード
のレーザ光を有効に選択的に再入射することによっても
可能である。
フーリエ変換部(17,27)の導波路(17a。
27a)への電流注入は、この部分がレーザ光に対して
十分低損失であれば不用である。その場合は、複数の活
性導波路(16)、 (26)と異なった材料でフーリ
エ変換部(17,27)を構成してもなんら問題はない
(発明の効果) この発明は複数の活性導波路から出射するレーザ光をフ
ーリエ変換する導波路とフーリエ変換された00位相同
期モードのレーザ光を選択的に反−11= 射する反射鏡を用いて上記の複数の活性導波路に再入射
させることとし、0°位相同期モードの発振閾値利得を
他の高次のアレイモードにおける利得よりも小さくした
ので、0°位相で同期したレーザ光を安定して放射する
ことができる。これによりレンズ等により微少面積の単
一スポットに絞ることができ、解像度のすぐれた各種の
レーザ光応用機器の実現が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例の半導体レーザアレイ装置の
平面図である。 第2図は、本発明の実施例の半導体レーザアレイ装置の
斜視図である。 第3図は、本発明の変形実施例の平面図である。 第4図(a)、 (b)は、それぞれ従来の半導体レー
ザアレイ装置の上面図と、その端面での屈折率を示す図
である。 第5図(a) 、 (b) 、 (c)は、それぞれ、
0°位相モード、中間モード、180°位相モードでの
遠視野像と近視野像のグラフである。 −12〜 ■・・・基板、      2・・・第1クラッド層、
3・・・活性層、     4・・・第2クラッド層、
5・・・キャップ層、   6・・・絶縁膜、7・・・
第2電極、   8・・・第1電極、9・・・屈折率導
波路、 1’l、13.23・・・へき開面、 12.14,15.24・・・へき開面被覆膜、16.
26・・屈折率導波路部、 17.27・・・フーリエ変換部、 1B・・・ミラー部。 特許出願人     シャープ株式会社代  理  人
 弁理士 青白 葆ほか2名#!          
              啼^         
         −0Q 第51!1 (a)O@位湘モーV

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)隣接した複数の屈折率導波型活性導波路と、この
    複数の活性導波路に接して、複数の活性導波路から放射
    される位相同期したレーザ光がフーリエ変換されるフー
    リエ変換領域とを同一基板上に設け、このフーリエ変換
    領域に接して、フーリエ変換された0°位相同期モード
    のレーザ光を選択的に反射し、上記の複数の活性導波路
    に再入射させるように構成されたミラー部を設けたこと
    を特徴とする半導体レーザアレイ装置。
JP61080478A 1986-04-07 1986-04-07 半導体レ−ザアレイ装置 Granted JPS62235794A (ja)

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US07/035,477 US4811351A (en) 1986-04-07 1987-04-07 Semiconductor laser array device
DE19873711615 DE3711615A1 (de) 1986-04-07 1987-04-07 Halbleiter-laseranordnung

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