JPS62233744A - 発光分析装置 - Google Patents
発光分析装置Info
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- JPS62233744A JPS62233744A JP7719686A JP7719686A JPS62233744A JP S62233744 A JPS62233744 A JP S62233744A JP 7719686 A JP7719686 A JP 7719686A JP 7719686 A JP7719686 A JP 7719686A JP S62233744 A JPS62233744 A JP S62233744A
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は１発光分析装置に係り、環境、各種材料、臨床
、薬品等の幅広い分野に係り、特に主成分中の微量成分
の分析等のマトリックスの高い試料の分析に好適な、発
光分光分析装置に関する。
、薬品等の幅広い分野に係り、特に主成分中の微量成分
の分析等のマトリックスの高い試料の分析に好適な、発
光分光分析装置に関する。
従来、分光分析装置としては、特開昭６０−１２２３５
７号公報に示されたものが知られている。すなわち目的
の元素の分析線波長の近傍を波長走査して上記分析線波
長を含む指定の波長区間における信号の最大値と上記指
定の波長区間より短波長側の指定の波長区間と長波長側
の指定の波長区間における信号の最小値とを検出する手
段と、上記最大値と上記最小値との差を演算してその結
果から連続光成分の影響を受けない上記元素の真の輝線
スペクトル強度に対応する値を求める手段とを具備した
構成とするものである７ これにより、分析値を狂わせる連続光の妨害を自動的に
速やかに補正するようにしたものである。
７号公報に示されたものが知られている。すなわち目的
の元素の分析線波長の近傍を波長走査して上記分析線波
長を含む指定の波長区間における信号の最大値と上記指
定の波長区間より短波長側の指定の波長区間と長波長側
の指定の波長区間における信号の最小値とを検出する手
段と、上記最大値と上記最小値との差を演算してその結
果から連続光成分の影響を受けない上記元素の真の輝線
スペクトル強度に対応する値を求める手段とを具備した
構成とするものである７ これにより、分析値を狂わせる連続光の妨害を自動的に
速やかに補正するようにしたものである。
通常、分光分析法では、分析する元素が発光する複数の
波長の内から、最も強度の高い、すなわち分析感度の波
長を選択して分析する。上記従来技術においては、一番
感度の高い波長が他の原子または分子が発する近接した
波長の光の干渉を受けている場合、一番目の波長を断念
して二番目に感度の高い波長を用いるか、あるいは、定
量計算値の誤差を覚悟して干渉を受けたまま測定してい
た。特に希土類元素は非常に多くの発光線を有するため
、希土類元素中の微量の希土類元素の分析の場合には、
全く干渉を受けていない波長を捜すのが困難な程である
。希土類元素以外にも、鉄。
波長の内から、最も強度の高い、すなわち分析感度の波
長を選択して分析する。上記従来技術においては、一番
感度の高い波長が他の原子または分子が発する近接した
波長の光の干渉を受けている場合、一番目の波長を断念
して二番目に感度の高い波長を用いるか、あるいは、定
量計算値の誤差を覚悟して干渉を受けたまま測定してい
た。特に希土類元素は非常に多くの発光線を有するため
、希土類元素中の微量の希土類元素の分析の場合には、
全く干渉を受けていない波長を捜すのが困難な程である
。希土類元素以外にも、鉄。
ニッケルやコバルト等の遷移金属も多くの発光線を有す
るため、鉄中の微量元素の分析の場合も干渉を起こしや
すい。また、水溶液試料はＨｚ Ｏの水分子が光源中で
分解されて多量のＯＨ分子が生成され、３０６．４ ｎ
ｍ とバンドヘッドに長波長側に延びるＯＩＩバン
ドを形成し、数十ｎｍの波長範囲に無数の発光線が存在
する。特にアルミニウムやバナジウムは、感度の高い発
光線がこの波長域にあるため、感度が低い別の波長を用
いざる得ないことが多いものであった。
るため、鉄中の微量元素の分析の場合も干渉を起こしや
すい。また、水溶液試料はＨｚ Ｏの水分子が光源中で
分解されて多量のＯＨ分子が生成され、３０６．４ ｎ
ｍ とバンドヘッドに長波長側に延びるＯＩＩバン
ドを形成し、数十ｎｍの波長範囲に無数の発光線が存在
する。特にアルミニウムやバナジウムは、感度の高い発
光線がこの波長域にあるため、感度が低い別の波長を用
いざる得ないことが多いものであった。
本発明の目的は、近接線の干渉を受けたスペクトルを数
学的に解決することにより、干渉を除去し、高感度で高
精度の定量測定をすることのできる発光分析装置を提供
することにある。
学的に解決することにより、干渉を除去し、高感度で高
精度の定量測定をすることのできる発光分析装置を提供
することにある。
上記問題を解決するために、発光分析法におけるスペク
トルについて検討する必要がある１発光分析の光源とし
ては、高温プラズマが用いられる。
トルについて検討する必要がある１発光分析の光源とし
ては、高温プラズマが用いられる。
高温プラズマからは、■原子の発光線、■２原子分子の
発光線、および■黒体輻射による連続スペクトルが放射
されている。従って上記■の連続スペクトル分をバック
グランドとして差引くことを行なえば、他の上記■と上
記■のラインスペクトルについて考慮すれば良いことに
なる。また、干渉の問題を解決するためには、妨害線の
スペクトルだけを消去できれば良いことになる。そのた
めに、ラインスペクトルを数学的に合成して妨害線のス
ペクトルと一致させ、差引きすることにより。
発光線、および■黒体輻射による連続スペクトルが放射
されている。従って上記■の連続スペクトル分をバック
グランドとして差引くことを行なえば、他の上記■と上
記■のラインスペクトルについて考慮すれば良いことに
なる。また、干渉の問題を解決するためには、妨害線の
スペクトルだけを消去できれば良いことになる。そのた
めに、ラインスペクトルを数学的に合成して妨害線のス
ペクトルと一致させ、差引きすることにより。
分析線のスペクトルのみを残すことによって、前記目的
を達成できることになる。
を達成できることになる。
すなおち、本発明は１元素固有の波長の光を分析の手段
に用いる発光分析法において、分析対象元素の特定の波
長付近を波長スキャンし２発光スペクトルを実測する手
段と、該分析波長が近接線の妨害を受けている場合に、
該妨害線スペクトルのみを数学的に合成し、実測スペク
トルと合成スペクトルの差を取ることにより、分析線の
スペクトルを明確化する手段とを有するようにしたもの
である。
に用いる発光分析法において、分析対象元素の特定の波
長付近を波長スキャンし２発光スペクトルを実測する手
段と、該分析波長が近接線の妨害を受けている場合に、
該妨害線スペクトルのみを数学的に合成し、実測スペク
トルと合成スペクトルの差を取ることにより、分析線の
スペクトルを明確化する手段とを有するようにしたもの
である。
ラインスペクトルを数学的にシミュレートするためには
、スペクトルの形状を把握しておく必要がある６発光分
析に用いられる分光器は、通常焦点距離が０．５〜１ｍ
の大形のものが用いられ、分解能を示す半値幅は０．０
１ｎｍ程度であることが多い、一方光源である高温プラ
ズマでの発光線の半値幅は、０．００１ ｎ ｍ のオ
ーダであり分光器の分解能より１桁近く小さく、発光分
析装置が描くスペクトルは分光器が決定していると言え
る。
、スペクトルの形状を把握しておく必要がある６発光分
析に用いられる分光器は、通常焦点距離が０．５〜１ｍ
の大形のものが用いられ、分解能を示す半値幅は０．０
１ｎｍ程度であることが多い、一方光源である高温プラ
ズマでの発光線の半値幅は、０．００１ ｎ ｍ のオ
ーダであり分光器の分解能より１桁近く小さく、発光分
析装置が描くスペクトルは分光器が決定していると言え
る。
分光器の内でも、スリットがスペクトル形状を決定する
のに重要な役割を果している６特に０．０１ｎｍ程度の
高分解能を達成するために、スリット幅は１０〜２０μ
ｍ程度の狭さが要求され、スリット幅に対し端面の不均
一さが無視できなくなり、スペクトル形状に影響を与え
る。また、入射スリットと出射スリットの幅の関係も、
スペクトル形状に決定的な影響を与える。さらに、コリ
メーティングミラーやカメラミラーの球面度、光源の像
が入射スリット上に結像しているか否かや、光源が分光
器光軸上に載っているか否か等の要因も、スペクトル形
状に影響を与えている０以上の個々の要因がスペクトル
形状に与える影響度を、理論的に計算して求めることは
非常に困難であり、現実的でない。このことに鑑み本発
明においては。
のに重要な役割を果している６特に０．０１ｎｍ程度の
高分解能を達成するために、スリット幅は１０〜２０μ
ｍ程度の狭さが要求され、スリット幅に対し端面の不均
一さが無視できなくなり、スペクトル形状に影響を与え
る。また、入射スリットと出射スリットの幅の関係も、
スペクトル形状に決定的な影響を与える。さらに、コリ
メーティングミラーやカメラミラーの球面度、光源の像
が入射スリット上に結像しているか否かや、光源が分光
器光軸上に載っているか否か等の要因も、スペクトル形
状に影響を与えている０以上の個々の要因がスペクトル
形状に与える影響度を、理論的に計算して求めることは
非常に困難であり、現実的でない。このことに鑑み本発
明においては。
ガウス分布とローレンツ分布を組合おせる関数を用いる
ことにより、実際に測定して得られたスペクトルの妨害
線のスペクトル形状に合うように合成する手法を確立し
たことによって上記目的が達成し得る。
ことにより、実際に測定して得られたスペクトルの妨害
線のスペクトル形状に合うように合成する手法を確立し
たことによって上記目的が達成し得る。
以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明する。第２
図に、光源として誘導結合プラズマ（以下ＩＣＰと略す
）を用いるＩＣＰ発光分析装置の光学系を示す。高周波
電源２４から自動マツチング回路２３を通してコイル１
９に供給された高周波電力により、ＩＣＰのプラズマ１
８が形成される。サンプル２１はトーチ２０を通り、プ
ラズマ１８に導入され、各元素固有の波長の光を発光す
る。この光はレンズ２５とミラー２６により、入射スリ
ット２７上に結像する。また、光束を平行にするコリメ
ータイングミラ−２８、単一波長の光を取出すグレーチ
ング２９および、出射スリット３２上に入射スリット２
７の像を結像させるカメラミラー３１より成るグレーチ
ング２９はグレーチング台３０に取付けられており、グ
レーチング台３０を回転することにより、光束とグレー
チングとの角度が変わり、出射スリット３２を通過する
光の波長を変化させることができる。出射スリット３２
を通過した光は、ホトマルチプライヤ３３に入射し、電
気信号に変換させられる。
図に、光源として誘導結合プラズマ（以下ＩＣＰと略す
）を用いるＩＣＰ発光分析装置の光学系を示す。高周波
電源２４から自動マツチング回路２３を通してコイル１
９に供給された高周波電力により、ＩＣＰのプラズマ１
８が形成される。サンプル２１はトーチ２０を通り、プ
ラズマ１８に導入され、各元素固有の波長の光を発光す
る。この光はレンズ２５とミラー２６により、入射スリ
ット２７上に結像する。また、光束を平行にするコリメ
ータイングミラ−２８、単一波長の光を取出すグレーチ
ング２９および、出射スリット３２上に入射スリット２
７の像を結像させるカメラミラー３１より成るグレーチ
ング２９はグレーチング台３０に取付けられており、グ
レーチング台３０を回転することにより、光束とグレー
チングとの角度が変わり、出射スリット３２を通過する
光の波長を変化させることができる。出射スリット３２
を通過した光は、ホトマルチプライヤ３３に入射し、電
気信号に変換させられる。
第３図に、ＩＣＰ発光分析装置の電気系システムを示す
、同図においてはプラズマ１８からの光は分光器３４で
単色化されるようになっており。
、同図においてはプラズマ１８からの光は分光器３４で
単色化されるようになっており。
この分光器はツエルニターナのマウンティングとなって
いる。ホトマルチプライヤ３３で電気信号に変換された
プラズマからの発光信号は、プリアンプ３５で増幅され
、さらにマルチプレクサを有するメインアンプ３６で増
幅され、Ａ／Ｄコンバータ３７でディジタル信号に変換
され、ＣＰＵバス３８に入る。ＣＰＵ４２は、プラズマ
１８からの信号を受取るだけでなく、ＰＩＡ３９を通し
てホトマルチプライヤ３３への供給高電圧を制御し。
いる。ホトマルチプライヤ３３で電気信号に変換された
プラズマからの発光信号は、プリアンプ３５で増幅され
、さらにマルチプレクサを有するメインアンプ３６で増
幅され、Ａ／Ｄコンバータ３７でディジタル信号に変換
され、ＣＰＵバス３８に入る。ＣＰＵ４２は、プラズマ
１８からの信号を受取るだけでなく、ＰＩＡ３９を通し
てホトマルチプライヤ３３への供給高電圧を制御し。
さらにステッピングモータ制御回路４０を通して、ステ
ッピングモータ４１を制御している。ステッピングモー
タ４１の回転は、駆動力伝達機構を通して第２図に示し
たグレーチング台３０を回転させ、任意の波長範囲のス
ペクトルを取ることができる。ＣＰＵ４２は、ＧＰＩＩ
３４３を通して、上位コンピュータ４４と接続されてお
り、測定者はコンピュータ４４のＣＲＴを見ながらキー
ボードよりび示することができる。コンピュータ４４に
は、ＧＰＩＢ４３を介して、プリンタ４５やＸＹプロッ
タ４６の出力装置が接続されている。
ッピングモータ４１を制御している。ステッピングモー
タ４１の回転は、駆動力伝達機構を通して第２図に示し
たグレーチング台３０を回転させ、任意の波長範囲のス
ペクトルを取ることができる。ＣＰＵ４２は、ＧＰＩＩ
３４３を通して、上位コンピュータ４４と接続されてお
り、測定者はコンピュータ４４のＣＲＴを見ながらキー
ボードよりび示することができる。コンピュータ４４に
は、ＧＰＩＢ４３を介して、プリンタ４５やＸＹプロッ
タ４６の出力装置が接続されている。
以上のシステムにおいて５本発明の内容はコンピュータ
４４のメモリに蓄えられている。第１図（ａ）と（ｂ）
を用いて、妨害ピークの影響を取除くシーケンスを説明
する。コンピュータ４４から５ＴＡＲＴ（ステップ１）
の指示を出すと、ステッピングモータ駆動回路４０がス
テッピングモータ４】を回転させることにより、予め指
定しておいた波長区間のスペクトルを実測する（ステッ
プ２）、実測したスペクトルは、コンピュータ４４のＣ
ＲＴ上に表示され、分析線を妨害するピークがある場合
には、後述の第１図（ｂ）に示す方法で、妨害ピークを
シミュレーションして合成する（ステップ３）。妨害ピ
ークがうまくシミュレートされていると、実測スペクト
ルを差引くことにより（ステップ４）、分析線から妨害
を取除くことができる。この場合には分析線のピークハ
イドを求めることは容易にでき（ステップ５）、試料の
測定が完了する（スイング６）。
４４のメモリに蓄えられている。第１図（ａ）と（ｂ）
を用いて、妨害ピークの影響を取除くシーケンスを説明
する。コンピュータ４４から５ＴＡＲＴ（ステップ１）
の指示を出すと、ステッピングモータ駆動回路４０がス
テッピングモータ４】を回転させることにより、予め指
定しておいた波長区間のスペクトルを実測する（ステッ
プ２）、実測したスペクトルは、コンピュータ４４のＣ
ＲＴ上に表示され、分析線を妨害するピークがある場合
には、後述の第１図（ｂ）に示す方法で、妨害ピークを
シミュレーションして合成する（ステップ３）。妨害ピ
ークがうまくシミュレートされていると、実測スペクト
ルを差引くことにより（ステップ４）、分析線から妨害
を取除くことができる。この場合には分析線のピークハ
イドを求めることは容易にでき（ステップ５）、試料の
測定が完了する（スイング６）。
第１図（ｂ）に、妨害スペクトルのシミュレーションの
シーケンスを示す６シミユレーシヨンを始めるには（ス
テップ７）、まず実測スペクトルにスムージングをかけ
、ノイズを低減する（ステップ８）６続いて分析線ピー
クを妨害するピークの有無を確認しくステップ９）、こ
のとき、妨害ピークがある場合には、その数（＝Ｎ）も
数えておく（ステップ１０．１１）。妨害ピークのシミ
ュレーションは１本ずつ行なう、第一の妨害ピークにつ
いて、中心波長を指定しくステップ１２）、かつそのピ
ーク高さおよびバックグラウンドレベルを指定する（ス
テップ１３）、さらにピークの半値幅を指定しくステッ
プ１４）、本実施例で用いているシミュレーション関数
であるガウス分布とローレンツ分布の割合を入力する（
ステップ１５）ことにより、一つの妨害ピークのシミュ
レーションが完了する（ステップ１７）。中心波長指定
（ステップ１２）からガウス分布とローレンツ分布の割
合入力（ステップ１５）までは、ＣＲＴ上に表示される
シミュレートされたスペクトルを見ながら、実測スペク
トルに合わせるように実行する。いずれの過程において
も、各ピラメータを入力した後でも、やり直しが可能で
あるようにシ−ケンスを組んでおく。第１の妨害ピーク
のシミュレーションが完了したら、第２さらに第３の妨
害ピークをシミュレートし、分析線に妨害を及ぼしてい
るすべてのピークのシミュレーションを行なうことによ
り、シミュレーションが完了する。
シーケンスを示す６シミユレーシヨンを始めるには（ス
テップ７）、まず実測スペクトルにスムージングをかけ
、ノイズを低減する（ステップ８）６続いて分析線ピー
クを妨害するピークの有無を確認しくステップ９）、こ
のとき、妨害ピークがある場合には、その数（＝Ｎ）も
数えておく（ステップ１０．１１）。妨害ピークのシミ
ュレーションは１本ずつ行なう、第一の妨害ピークにつ
いて、中心波長を指定しくステップ１２）、かつそのピ
ーク高さおよびバックグラウンドレベルを指定する（ス
テップ１３）、さらにピークの半値幅を指定しくステッ
プ１４）、本実施例で用いているシミュレーション関数
であるガウス分布とローレンツ分布の割合を入力する（
ステップ１５）ことにより、一つの妨害ピークのシミュ
レーションが完了する（ステップ１７）。中心波長指定
（ステップ１２）からガウス分布とローレンツ分布の割
合入力（ステップ１５）までは、ＣＲＴ上に表示される
シミュレートされたスペクトルを見ながら、実測スペク
トルに合わせるように実行する。いずれの過程において
も、各ピラメータを入力した後でも、やり直しが可能で
あるようにシ−ケンスを組んでおく。第１の妨害ピーク
のシミュレーションが完了したら、第２さらに第３の妨
害ピークをシミュレートし、分析線に妨害を及ぼしてい
るすべてのピークのシミュレーションを行なうことによ
り、シミュレーションが完了する。
ここでシミュレーション関数について説明しておく。ピ
ーク状の関数としてガウス分布（１）式とローレンツ分
布（２）式はよく用いられる関数である。
ーク状の関数としてガウス分布（１）式とローレンツ分
布（２）式はよく用いられる関数である。
Ｉａ（λ）＝ ｂ −ｅｘｐ（−ａ ”（λ０−
λ）”） ・ （１）ただし、ａ＝ｆ７ンΔλ ｂ＝、／＝７７；／Δλ Ｉｂ（λ）＝ｄ／（１＋ｃ”（λ０−λ）２）
・−（２）ただし、ｃ＝２／（ｖ’丁・Δλ） ｄ＝２／（ｆ了ｎ・Δλ） ガウス分布は、正規分布で知られる関数であり、一方ロ
ーレンツ分布はガウス分布に比ベピークのすそ野が拡が
った関数である。なおΔλはピークの半値幅λ０は中心
波長である０両者の分布を同時に考え合わせると少し複
雑な関数になり、計算に手間取るため、（３）式に示す
近似合成関数を用いることが適当となる。
λ）”） ・ （１）ただし、ａ＝ｆ７ンΔλ ｂ＝、／＝７７；／Δλ Ｉｂ（λ）＝ｄ／（１＋ｃ”（λ０−λ）２）
・−（２）ただし、ｃ＝２／（ｖ’丁・Δλ） ｄ＝２／（ｆ了ｎ・Δλ） ガウス分布は、正規分布で知られる関数であり、一方ロ
ーレンツ分布はガウス分布に比ベピークのすそ野が拡が
った関数である。なおΔλはピークの半値幅λ０は中心
波長である０両者の分布を同時に考え合わせると少し複
雑な関数になり、計算に手間取るため、（３）式に示す
近似合成関数を用いることが適当となる。
Ｉａｌ、（λ）＝Ｍ／（１＋Ａ）＋（１−Ｍ） ・ｅｘ
ｐ（−Ａ、 Ｑｎ２）・・・・・・（３） ただし、Ａ＝４．（λ０−λ）２／（Δλ）２−Ｍ＝Ｏ
〜１ 次に、第４図から第７図を用いて本実施例の効果を示す
。第４図は、Ｃｅ１ＯＯｐｐＨ中のＰｒ４０６．２８１
ｎ ｍ付近のスペクトルを示す、Ｐｒの濃度はＯＰＰ
■ （図中４７に示す）＊０−５ｐρ園（図中４８に示
す）、１．０ρρ■（図中４９に示す）および２．０Ｐ
Ｐ１ｍ（図中５０に示す）であり、Ｐｒの分析線は、高
濃度で存在するＧｏの２つの波長４０６．２５６ｎｍ（
図中５１に示す）と４０６．２９４ ｎ ｍ （図中５
２に示す）の妨害を受けており、Ｐ ｒ４０６．２８１
ｎｍの波長を使ってのｐｐ■のオーダの定量測定は事実
上不可能である。第５図にスペクトルのシミュレーショ
ンを示す、第５図で入力した各パラメータは次の表に示
すとおりである。
ｐ（−Ａ、 Ｑｎ２）・・・・・・（３） ただし、Ａ＝４．（λ０−λ）２／（Δλ）２−Ｍ＝Ｏ
〜１ 次に、第４図から第７図を用いて本実施例の効果を示す
。第４図は、Ｃｅ１ＯＯｐｐＨ中のＰｒ４０６．２８１
ｎ ｍ付近のスペクトルを示す、Ｐｒの濃度はＯＰＰ
■ （図中４７に示す）＊０−５ｐρ園（図中４８に示
す）、１．０ρρ■（図中４９に示す）および２．０Ｐ
Ｐ１ｍ（図中５０に示す）であり、Ｐｒの分析線は、高
濃度で存在するＧｏの２つの波長４０６．２５６ｎｍ（
図中５１に示す）と４０６．２９４ ｎ ｍ （図中５
２に示す）の妨害を受けており、Ｐ ｒ４０６．２８１
ｎｍの波長を使ってのｐｐ■のオーダの定量測定は事実
上不可能である。第５図にスペクトルのシミュレーショ
ンを示す、第５図で入力した各パラメータは次の表に示
すとおりである。
（表）
第４図の例では、ＰｒのＯｐｐ＋ｓのサンプルすなわち
ブランク液が存在したため、妨害ピークのシミュレーシ
ョンにもブランク液のスペクトルを用いたが、ブランク
液が存在しない場合にも、本方法は有効である。実際の
分析ではブランク液が存在しない場合がしばしばあり、
その場合には、最も低濃度のサンプルのスペクトルを対
象にシミュレートすれば良い、 第６図に、実測スペクトルからシミュレーションしたス
ペクトルを差引いたスペクトルを示す。
ブランク液が存在したため、妨害ピークのシミュレーシ
ョンにもブランク液のスペクトルを用いたが、ブランク
液が存在しない場合にも、本方法は有効である。実際の
分析ではブランク液が存在しない場合がしばしばあり、
その場合には、最も低濃度のサンプルのスペクトルを対
象にシミュレートすれば良い、 第６図に、実測スペクトルからシミュレーションしたス
ペクトルを差引いたスペクトルを示す。
ＰｒＯｐｐｍ（図中５４に示す） 、 ０．５ｐｐｍ
（図中５５に示す）、１．Ｏｐｐ硼（図中５６に示す）
および２．Ｏｐｐ＋ｍ（図中５７に示す）の各スペクト
ルである。
（図中５５に示す）、１．Ｏｐｐ硼（図中５６に示す）
および２．Ｏｐｐ＋ｍ（図中５７に示す）の各スペクト
ルである。
第７図に、第６図から求めたＰ ｒ４０６．２８１ ｎ
ｍの強度から作成した検量線を示す。Ｉ ＰＰ＠以下
の濃度域まで、良い直線性を示しており１本実施例を用
いることにより、妨害ピークの影響を取除くことができ
るが判る。
ｍの強度から作成した検量線を示す。Ｉ ＰＰ＠以下
の濃度域まで、良い直線性を示しており１本実施例を用
いることにより、妨害ピークの影響を取除くことができ
るが判る。
以上説明したことから明らかなように１本発明によれば
１発光分析法において分析線が近接する発光線の妨害を
受けている場合には、妨害を取除くことができる。これ
により、第２あるいは第３の発光線を捜し、再び妨害の
有無について検討する手間を省くことができる。さらに
、第２あるいは第３の発光線を用いた場合には、感度の
低下が避けられないが、第１の発光線を用いることによ
り、高感度で分析することができるようになる。
１発光分析法において分析線が近接する発光線の妨害を
受けている場合には、妨害を取除くことができる。これ
により、第２あるいは第３の発光線を捜し、再び妨害の
有無について検討する手間を省くことができる。さらに
、第２あるいは第３の発光線を用いた場合には、感度の
低下が避けられないが、第１の発光線を用いることによ
り、高感度で分析することができるようになる。
第り図（ａ）および（ｂ）は本発明による発光分析装置
の要部を示すスペクトルシミュレーションのフローチャ
ート、第２図、第３図はそれぞれ本発明による発光分析
装置の光学系およびｆＩＥ気系を示す構成図、第４１ｇ
ないし第７図はそれぞれ本発明による発光分析装置の効
果を示すグラフである。１８・・・ＩＣＰプラズマ、２
４・・・高周波Ｗｔ源。 ２９・・・グレーチング、３４・・・発光器、４０・・
・ステッピングモータ駆動回路、４１・・・ステッピン
グモータ、４２・・・ＣＰＵ、４４・・・コンピュータ
。
の要部を示すスペクトルシミュレーションのフローチャ
ート、第２図、第３図はそれぞれ本発明による発光分析
装置の光学系およびｆＩＥ気系を示す構成図、第４１ｇ
ないし第７図はそれぞれ本発明による発光分析装置の効
果を示すグラフである。１８・・・ＩＣＰプラズマ、２
４・・・高周波Ｗｔ源。 ２９・・・グレーチング、３４・・・発光器、４０・・
・ステッピングモータ駆動回路、４１・・・ステッピン
グモータ、４２・・・ＣＰＵ、４４・・・コンピュータ
。
Claims (1)
- １、元素固有の波長の光を分析の手段に用いる発光分析
法において、分析対象元素の特定の波長付近を波長スキ
ャンし、発光スペクトルを実測する手段と、該分析波長
が近接線の妨害を受けている場合に、該妨害線のスペク
トルのみを数学的に合成し、実測スペクトルと合成スペ
クトルの差を取ることにより、分析線のスペクトルを明
確化する手段とを有することを特徴とする発光分析装置
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077196A JPH0718795B2 (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 発光分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61077196A JPH0718795B2 (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 発光分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62233744A true JPS62233744A (ja) | 1987-10-14 |
| JPH0718795B2 JPH0718795B2 (ja) | 1995-03-06 |
Family
ID=13627064
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61077196A Expired - Lifetime JPH0718795B2 (ja) | 1986-04-03 | 1986-04-03 | 発光分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0718795B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014119457A (ja) * | 2012-12-13 | 2014-06-30 | Gwangju Inst Of Science & Technology | レーザープラズマスペクトルを用いた試料内の測定対象元素の定量分析方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59228134A (ja) * | 1983-06-10 | 1984-12-21 | Shimadzu Corp | スペクトル分解処理装置 |
| JPS60205336A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-16 | Res Dev Corp Of Japan | スペクトル分析装置における混在物質の干渉スペクトル除去処理方式 |
-
1986
- 1986-04-03 JP JP61077196A patent/JPH0718795B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59228134A (ja) * | 1983-06-10 | 1984-12-21 | Shimadzu Corp | スペクトル分解処理装置 |
| JPS60205336A (ja) * | 1984-03-30 | 1985-10-16 | Res Dev Corp Of Japan | スペクトル分析装置における混在物質の干渉スペクトル除去処理方式 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014119457A (ja) * | 2012-12-13 | 2014-06-30 | Gwangju Inst Of Science & Technology | レーザープラズマスペクトルを用いた試料内の測定対象元素の定量分析方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0718795B2 (ja) | 1995-03-06 |
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