JPS62231069A - 検反機の欠点検出方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、無地生地の汚れや傷等の欠点を検出する方法
に係り、特に織目や編目によるノイズを除去して、正確
かつ高速に欠点を検出できる検反・、［、−の欠点検出
方法に関する。

′二・〔従来の技術〕 従来のこの種の自動検反機としては、゛「加工技術」、
第１８巻、第１１号、　１９８３年発行、第３０頁〜第
３５頁″に記載されているように、レーザ光を用いて機
械走査する方式のものが主であった。

また、これとは別に、電子走査方式の検反機も提供され
るようになってきた。かかる電子走査方式には、例えば
画像入力装置としての一次元センサで生地表面を読み取
って各ライン毎にあるしきい値を設けた処理する方式の
ものや、あるいは、画像入力装置としての一次元センサ
で生地表面を読み取って複数ライン分を格納できる画像
メモリに読み取りデータを格納後にあるしきい値を設け
て処理する方式のものがあった。かかる電子走査方式の
検反機は、織目や編目を特別に考慮していないため、こ
れを欠点として判定してしまうことがあった。このこと
について、さらに説明をする。

〔発明が解決しようとする問題点〕

検反の対象である無地生地は、通常、縦糸や横、ノ′ 糸で織ったり、編んだりして作られるものである。

シたがって、糸の部分は輝度が高く、織目や編目は影と
なって、輝度は低くなる。また、一般的に淡中色の生地
においては、汚れ、しわ等の欠点も生地部分の輝度レベ
ルに対して、低い輝度レベルをもつ。そのため、汚れ、
しわ等の欠点検出に際しては、織目、ｍ目がノイズとし
て悪影響を与える可能性が大きい。しかしながら、上記
従来技術は、この点について配慮がなされておらず、十
分な欠点検出ができないという問題があった。

本発明の目的は、織目や編目によるノイズを除去し、正
確かつ高速に欠点検出を行う検反機の欠点検出方法を提
供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記問題点を解決した本発明は、被検査対象物表面の状
態を画像入力装置を介して取り込み、この取り込んだ画
像情報を所定の処理をすることにより該被検査対象物の
欠点を検出する検反機の欠点検出方法において、前記被
検査対象物表面における欠点のない部分を基準画像とし
て取り込んで平均化し、次いで検査対象部分を検査対象
画像と−・） 、′シて取り込んで平均化し、両平均化画像の差の画一
　像を求めることにより、２次検出を行うことを特徴と
するものである。

〔作用〕

局所的な平滑化処理を行うと、糸と織目の境界において
は、糸の濃度と織目の濃度との平均濃度が求められるこ
とになる。通常、織目の大きさは、糸の太さに対して半
分以下程度なので、上記平滑化処理によって、織目全体
あるいは織目の大部分の濃度および織目と糸との境界部
分の濃度は、元の織目の濃度と糸の濃度との中間の濃度
となり。

糸の中心線付近の濃度は、元の糸の濃度はほぼ同じとな
る。汚れ等の欠点部分については、欠点の周辺部分は欠
点と生地の中間の濃度となり、欠点の周辺部以外の部分
は１元の欠点濃度と同じ濃度になる。また、差分処理は
、基準画像と検査対象画像の濃度の差の絶対値を求める
ものである。それにより、欠点の部分あるいは若干の糸
や織目の部分が正の濃度で求められる。これにより、欠
点−の検出ができることになる。

、１ 〔実施例〕 以下１本発明の実施例を図面に基づいて説明する。

第２図は画像処理技術を用いた自動検反機を示す全体構
成図である。

第２図において、自動検反機は、検反機本体１と、欠点
検出装置２と、検反機本体１の速度制御表ｅ３とから構
成されている。

上記構成において、欠点検出装置２は後述するが、欠点
検出装置２には、システムコンソール４と、キーボード
５と、ハードコピー用タイプライタ６とが接続されてお
り、パラメータ等の条件設定や検査結果の出力に使用さ
れる。

検反機本体１をさらに詳しく説明すると、以下のとおり
である。軸８を中心に生地がロール状に巻かれた被検査
対象物７は、第１中間ローラ９゜モータ駆動される第２
中間ローラ１０、第３中間押えローラ１１および第４中
間ローラ１２を介してモータ駆動される軸１３に巻き取
られ、ロール状に巻かれた検査完了生地１４となるよう
になっている。ライン走行中の被検査対象物１５は、２
個のローラ１０および１１に挾まれて、生地表面とロー
ラ表面にすベリを生じないようにしである。

第２中間ローラ１０は、モータ駆動されるが、その回転
数を正確にカウントできるように、該ローラ軸端にセル
シン発信機１６が取り付けられている。セルシン発信機
１６は、該ローラ１ｏの回転数に対応するパルスを発生
し、信号線３０を通してパルス信号をパルス信号変換器
１７に伝達する。

パルス信号変換器１７は、伝達されたパルス数をカウン
トし、必要に応じて欠点検出装置２に信号線３１を通し
てカウント値を伝送する。該欠点検出装置２は、該カウ
ント値により被検査対象物１５の走行方向欠点位置座標
を知ることができる。

また、パルスカウントの基準値をセットできるように、
イニシャル用の信号線３２が設けられている。これによ
り、検反開始時にパルス信号変換器１７のカウンタをイ
ニシャルすることができる。

被検査対象物１５の穴きず、糸切れ１組織くずれ等の欠
点は、平面照明装置１８からの透過光をシャッタ付ＩＴ
Ｖカメラ１９により取り込み、信号線３３を通して欠点
検出装置ｉ！２へ取り込み、所定の処理を施すことによ
り検出される。また、被検査対象物１５の汚れ、染めむ
ら、しわ等の欠点は照明袋！２０．２１から光を反射し
た反射光をシャッタ付ＩＴＶカメラ２２で取り込み、信
号線３４を通して映像信号として欠点検出装置２へ取り
込み、後述する処理を施すことにより、検出される。速
度制御装置３は、信号線３５を介して欠点検出装置２か
らの指令信号により、信号＠３６を通して中間ロール軸
１０や生地ロニル８，１３の駆動モータの速度を制御す
るようになっているが、通常は一定速度で運転されるよ
うに制御する。

ビームセンサ２５は、生地端につけられた銀紙を検出す
ると、その信号を信号線３６を通して欠点検出装置ｉ！
２へ伝送するようになっている。

第３図は、欠点検出装置２を示すブロック図である。図
において、４０は画像メモリ、４１は画像メモリ、４２
は画像プロセッサ、４３はシステムバス、４４はシステ
ムプロセッサ、４５は主メモリ、４６は外部記憶装置、
４７はシリアルインターフェース機構、４８はプロセス
入出力機構である。

シャッタ付ＩＴＶカメラ１９，２２から取り込まれた映
像信号は、信号線３３および３４を通して、Ａ／Ｄ変換
されて、画像メモリ４０．４１にそれぞれ取り込まれる
１画像プロセッサ４２は。

システムバス４３を介して送られてくるシステムプロセ
ッサ４４の指令に基づき各種の処理（この処理は後に第
１図を用いて説明する）を高速に実行する。主メモリ４
５には、欠点検出のための処理手順が格納されており、
システムプロセッサ４４によりアクセスされる。外部記
憶装置４６は、予め作成済みの欠点検出の処理手順を外
部から入力する場合等に使用される。シリアルインター
フェース機構４７は、システムプロセッサ４４とパルス
信号変換器１７との間の信号のやり取りのためのインタ
ーフェース回路である。また、プロセス入出力機構４８
は、システムプロセッサ４４と速度制御装置３との間の
信号のやり取りおよびビームセンサ２５からの割り込み
信号受は取りのためのインターフェース回路である。

以下、第１図〜第６図を用いて本実施例の作用について
詳細に説明する。

自動検反を開始する前に、まず第１図（ａ）に示す処理
を起動し、汚れ、しわ等の欠点のない第４図（ａ）に示
すような正常部分を基準画像Ａとしてシャッタ付ＩＴＶ
カメラ２２から取り込み。

画像メモリ４１に記憶する（ステップ１００）。

生地は、通常、縦糸２００および横糸２０１を用いて織
ったり、１！んだすして作られるものなので。

糸２００，２０１の部分が明るく、またそれにより生ず
る織目２０２あるいは編目の部分が暗くなるのが普通で
ある。また、通常、織目２０２の大きさは、糸２００，
２０１の太さの半分以下程度である。該画像Ａに対して
平滑化処理を行い、第４図（ｂ）に示すような画像Ａ′
を得る（ステップ１１０）、すなわち、織目については
、全体あるいは大部分が元の織目の濃度と糸の濃度の中
間の濃度となり、糸の中心線付近の濃度は、元の糸の濃
度とほぼ同じ濃度となる。また、織目と糸の境界部分の
濃度は、元の織目の濃度と糸の濃度の中間の濃度になる
（この状態を第４図（ｂ）の斜線１で示す、）、なお、
平滑化処理は、３Ｘ３画素、５ｘ５画素等の局所近傍の
空間積和演算により実現される。

以上が、自動検反開始前の準備処理である６次に、自動
検反処理について述べる。

ユーザによりキーボード５を用いて自動検反開始指令が
出されると、システムプロセッサ４４により、第１図（
ｂ）に示す処理が起動される。まず、シャッタ付ＩＴＶ
カメラ２２を通して移動中の被検査対象物１５の表面状
態を検査対象画像Ｂとして取り込み（ステップ１２０）
、画像メモリ４１に記憶する。画像像メモリ４１は、複
数枚のメモリで構成されているため、ステップ１１０で
処理した画像は、破壊されることなく記憶しておくこと
ができる。該画像Ｂの一例を第４図（ｃ）に示す。この
図は、淡中色の生地に欠点として生１、地より輝度（濃
度）の低い汚れを含んだ部分を示している。該画像Ｂに
対して、ステップ１１０と同様に平滑化処理を行う（こ
れは平滑化のための空間積和演算を複数回繰り返すこと
で得てもよい）（ステップ１３０）と、第４図（ｄ）に
示すような画像Ｂ′が得られる。すなわち、汚れ部分に
ついては、汚れの周辺部分は汚れと生地の中間の濃度と
なり（第４図（ｄ）中の左右の斜線で示される部分、こ
こで生地の濃度は、糸の濃度から織目の濃度までの濃度
のばらつきがある）、汚れの周辺部以外の部分は、元の
汚れの濃度と同じになる（第４図（ｄ）中の黒で示され
る部分）。次に。

画像Ａ′と画像Ｂ′との間の濃度差の絶対値を求める（
ステップ１４０）と、第４図（ｅ）に示すように、汚れ
の部分あるいは若干の糸や織目の部分が正の濃度で求め
られる（第４図（ａ）中の白及び左右の斜線で示される
部分で、白の部分の方が左右の斜線部分より濃度が高い
、）、この画像に対しであるしきい値で２値化処理する
（ステップ１５０）と、第４図（ｆ）に示すように、汚
れ丁、−の部分第４図（ｆ）の白で示される部分が大き
め１−に出力される。また対象によっては、糸や織目の
部分がノイズとして出力されることがある。そこで収縮
処理をすることにより、小さなノイズを除去するととも
に、汚れを表わす部分の周囲一画素ずつ削除する（ステ
ップ１６０）、これにより、最初にステップ１２０で取
り込んだ画像上での汚れの大きさに合うようにする（第
４図（ｇ）参照）、なお、第４図（ｄ）、（ｅ）中の破
線は第４図（ｃ）に示す汚れの輪郭を表わしている。ス
テップ１６０で得られた２値画像をマスクとして、第５
図に示すように、各アトリエ毎に明るさを割すつけた濃
度画像メモリに対して、マスク付濃度頻度分布を求め、
ヒストグラムの頻度（すなわち、この頻度は汚れの面積
を表わす）が正の部分を求めると、汚れとして検出され
た部分の画面内の位置（第６図の例では、１２および１
３）が求められる（ステップ１７０）。この情報とパル
ス信号変換器１７からの情報により、被検査対象物１５
上での絶対位置が求められる。ステップ１８０では、生
地終端に貼っである銀紙をビームセンサ′・） 、−♀５により検出し、信号＠３６、プロセス出入力１
　パ ′機構４７、システムバス４３を介してシステムプロセ
ッサに割り込みを入れることにより、主メモリ４５にあ
る処理終了フラグを参照して、フラグが立っていない場
合は、ステップ１２０に戻り。

以下ステップ１８０までの処理を繰り返すことになる。

該フラグが立っている場合は、一連の処理を終了する。

なお、処理終了フラグは、基準画像取込処理時（ステッ
プ１００）にイニシャル処理される。

なお、ブロック１６０に示す収縮処理の代りに、ブロッ
ク１６５に示す２値フイルタリング処理によっても、小
さなノイズを除去するとともに、汚れを表わす部分を適
性な大きさで出力することができる。二値フィルタリン
グ処理とは、３×３画素、５Ｘ５画素、８×１２画素等
のマスク内のｎ画素以上が１”の場合、マスクの中心部
分に対応する画素の値を“１”、そうでない場合１１０
１Ｆにする処理で１画像の左上から右下に向ってマスク
を１画素ずつ動かしながら処理することにより、画像全
体を処理する。

〔発明の効果〕

以上述べたように５本発明によれば、平滑化処理により
、生地の織目に生じるノイズを除去できるようにしたの
で、高速に移動している無地生地の汚れ、傷等の欠点検
出が高速に行えるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例を示す処理フローチャート、
第２図は自動検反機の全体構成を示す梼成図、第３図は
欠点検出装置を示すブロック図、第４図は第１図の処理
フローチャートに対応した画像処理結果の一例を示す説
明図、第５図、第６図は欠点検出位置算出を説明するた
めに示す説明図である６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、被検査対象物表面の状態を画像入力装置を介して取
   り込み、この取り込んだ画像情報を所定の処理をするこ
   とにより、該被検査対象物の欠点を検出する検反機の欠
   点検出方法において、前記被検査対象物表面における欠
   点のない部分を基準画像として取り込んで平均化し、次
   いで検査対象部分を検査対象画像として取り込んで平均
   化し、両平均化画像の差の画像を求めることにより、欠
   点検出を行うことを特徴とする検反機の欠点検出方法。 ２、特許請求の範囲第１項記載の方法において、両平均
   化画像の差の画像を２値化し、次いで収縮処理すること
   により欠点検出を行うことを特徴とする検反機の欠点検
   出方法。 ３、特許請求の範囲第２項記載の方法において、前記収
   縮処理の代りに２値のフィルタリング処理により欠点検
   出を行うことを特徴とする検反機の欠点検出方法。