JPS59230144A - 織物および同様のシ−ト状構造の繊維製品の欠点を自動的に検出する方法および装置 - Google Patents
織物および同様のシ−ト状構造の繊維製品の欠点を自動的に検出する方法および装置Info
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- JPS59230144A JPS59230144A JP59002105A JP210584A JPS59230144A JP S59230144 A JPS59230144 A JP S59230144A JP 59002105 A JP59002105 A JP 59002105A JP 210584 A JP210584 A JP 210584A JP S59230144 A JPS59230144 A JP S59230144A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は布または同様なシー、 ｌ−状槁遺の繊維製品
の欠陥を、正常と見なされる部分と欠陥と見なされろ部
分の部分的偏りとの間のコン１−ラストを増大・さぜる
ため１７像フ・ｆルタリングによって自ｊ２ｉＪ的に検
出する方法と装置に関する。
の欠陥を、正常と見なされる部分と欠陥と見なされろ部
分の部分的偏りとの間のコン１−ラストを増大・さぜる
ため１７像フ・ｆルタリングによって自ｊ２ｉＪ的に検
出する方法と装置に関する。
物質の表面を、移動する光スポットで走査するか、一連
に配列されたセンサを用いて走査する谷イｄ１の方法が
存在する。これらの方法に使用されている充血信号変換
器で生ずる光度値は予めフィルタをかけられたのち、理
想的には平均されたのちしき（・値をもった処理段に送
られる。
に配列されたセンサを用いて走査する谷イｄ１の方法が
存在する。これらの方法に使用されている充血信号変換
器で生ずる光度値は予めフィルタをかけられたのち、理
想的には平均されたのちしき（・値をもった処理段に送
られる。
なぜなら、特に布の揚台には、刊本かの糸にわたって光
度値を平均することは、信号対雑音比を増大さぜる効呆
をもち、したがってあとの信号処理段に止要な利点をも
たらすことが判って（・るンク）もである。既存の方法
においては、光度値は個々のセンサーの走性面積あるい
は照射面、（賃の形と大きさの結果として平均化される
。多（の」易曾、２つの定食システムが並列に用いらコ
゛シ、一方は水平方向平均！１仔性をもち、他は垂直方
向平均Ｉ特性をもつものであり、平均化特性の力量はイ
１］中のＸ匠糸及び緯糸の方向に対応する。
度値を平均することは、信号対雑音比を増大さぜる効呆
をもち、したがってあとの信号処理段に止要な利点をも
たらすことが判って（・るンク）もである。既存の方法
においては、光度値は個々のセンサーの走性面積あるい
は照射面、（賃の形と大きさの結果として平均化される
。多（の」易曾、２つの定食システムが並列に用いらコ
゛シ、一方は水平方向平均！１仔性をもち、他は垂直方
向平均Ｉ特性をもつものであり、平均化特性の力量はイ
１］中のＸ匠糸及び緯糸の方向に対応する。
：１−たイＩＪ人聞の光度分布を光射干渉フーリエ変換
て分（）１する白ム助／Ｉｌｊ、ｉ東食法もある。
て分（）１する白ム助／Ｉｌｊ、ｉ東食法もある。
本発明は布または同様なシート状構造の繊維製品の欠陥
を、正常と見なされる部分と、欠陥と見なされる部分の
部分的偏りとの間のコントラストを増大させるため、特
許請求の範囲に記載した特徴によって定義されるごとく
、画像フィルタリングによって、自動的に検出する方法
と装置に関する。
を、正常と見なされる部分と、欠陥と見なされる部分の
部分的偏りとの間のコントラストを増大させるため、特
許請求の範囲に記載した特徴によって定義されるごとく
、画像フィルタリングによって、自動的に検出する方法
と装置に関する。
本発明による方法において新規なる１当は布幅中の欠陥
はその輪郭ある（・はラインで検出されることにある。
はその輪郭ある（・はラインで検出されることにある。
この点で喚起すべきことは布欠点な賛成する時の比較と
して考ｋ、せねばならぬ人間の眼は輪郭またはラインに
対し特別な感度（いわゆる状相感度）をもっているとい
うことである。
して考ｋ、せねばならぬ人間の眼は輪郭またはラインに
対し特別な感度（いわゆる状相感度）をもっているとい
うことである。
輪郭または線要素の検出の方法には、処理丁べぎ布表面
の二次元的画像フィルタリングが必要とされる。
の二次元的画像フィルタリングが必要とされる。
特許請求の範囲に述べた二重スロットマスクの方法によ
る画像フィルタリングは、原理的には２つの異なった方
法で実現される： １ 他の応用分野に見られる非干渉光学的フィルタリン
グによる方法。この様な方法については例えば次の文Ｈ
５がある： Ｇ、Ｌ、Ｒｏｄｇｅｒｓ、’Ｎｏｎ ＣＱｈｅｒｅｎｔ
ＯｐｔｉｃａｌＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”、Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９７７Ｓ、Ｉ−１，
Ｌｅｅ、Ｅｄｉｔｏｒ、”０ｐｔｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒ
ｍａｔｉｏｎＰｒｏｃａｓｓｉｎｇ”、Ｔｏｐｉｃｓ
ｉｎ ａｐｐｌｉｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ’；Ｓｐｒ ｉ
、ｎｇｅｒ 、Ｖｏｌ、２３ ａｎｄ ４８゜Ｍ、Ａ、
Ｉｖｌｏｎａｈａｎ ｅｔ ａ］、、、１ｎ ＩＥＥＥ
Ｐｒｏｃ、Ｖｏｉ、６５（１９７７）ｐｐ 、 ’１
２１−・１２９゜非干渉光学的フィルタリングの重大な
欠点は一般にマスク関数の負の重みづげが完全にシ、１
、ＩＷ（決されないことにある。
る画像フィルタリングは、原理的には２つの異なった方
法で実現される： １ 他の応用分野に見られる非干渉光学的フィルタリン
グによる方法。この様な方法については例えば次の文Ｈ
５がある： Ｇ、Ｌ、Ｒｏｄｇｅｒｓ、’Ｎｏｎ ＣＱｈｅｒｅｎｔ
ＯｐｔｉｃａｌＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”、Ｊｏｈｎ
Ｗｉｌｅｙ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９７７Ｓ、Ｉ−１，
Ｌｅｅ、Ｅｄｉｔｏｒ、”０ｐｔｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒ
ｍａｔｉｏｎＰｒｏｃａｓｓｉｎｇ”、Ｔｏｐｉｃｓ
ｉｎ ａｐｐｌｉｅｄ ｐｈｙｓｉｃｓ’；Ｓｐｒ ｉ
、ｎｇｅｒ 、Ｖｏｌ、２３ ａｎｄ ４８゜Ｍ、Ａ、
Ｉｖｌｏｎａｈａｎ ｅｔ ａ］、、、１ｎ ＩＥＥＥ
Ｐｒｏｃ、Ｖｏｉ、６５（１９７７）ｐｐ 、 ’１
２１−・１２９゜非干渉光学的フィルタリングの重大な
欠点は一般にマスク関数の負の重みづげが完全にシ、１
、ＩＷ（決されないことにある。
じかしながら提案されたフィルタマスクの１）ｉｆ ４
更さは、特許請求の範囲第１０項および第１１８′１の
装置で示されるごとく、別個のセンサに、よって正しい
符号で■みづげすることができる。
更さは、特許請求の範囲第１０項および第１１８′１の
装置で示されるごとく、別個のセンサに、よって正しい
符号で■みづげすることができる。
２ 近年の順向はディジタルイメージ処理である。この
場合、適当な部品が、市価で−はない高速プロセッサと
ＣＣＤセンザなどの形で得られる。ディジタルイメージ
処理は柔軟かつ正確でありまた（幾様的スキャナが不要
であるため堅牢である。このいわゆるディジタル空間フ
ィルタリングの方法は例えば次の様な文献に見られる： Ａ 、ＲＯＳ ８ ｎ ｆ ｅ ｌ ｄ ａ ｎ ｄＡ
、Ｃ−Ｋａ ｋ ＋″Ｄｉｇｉｔａｌ Ｐｉｃｔｕｒ
ｅＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇ’、Ａｃａｄｅｍｉｃ ｐｒｅ
ｓｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９７６Ｗ、に、Ｐｒａ、ｔ
ｔ、”Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｍａｇｅ Ｐｒｏｃｅｓｓｉ
ｎｇ”。
場合、適当な部品が、市価で−はない高速プロセッサと
ＣＣＤセンザなどの形で得られる。ディジタルイメージ
処理は柔軟かつ正確でありまた（幾様的スキャナが不要
であるため堅牢である。このいわゆるディジタル空間フ
ィルタリングの方法は例えば次の様な文献に見られる： Ａ 、ＲＯＳ ８ ｎ ｆ ｅ ｌ ｄ ａ ｎ ｄＡ
、Ｃ−Ｋａ ｋ ＋″Ｄｉｇｉｔａｌ Ｐｉｃｔｕｒ
ｅＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇ’、Ａｃａｄｅｍｉｃ ｐｒｅ
ｓｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒｋ、１９７６Ｗ、に、Ｐｒａ、ｔ
ｔ、”Ｄｉｇｉｔａｌ Ｉｍａｇｅ Ｐｒｏｃｅｓｓｉ
ｎｇ”。
Ｈｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ ５ｏｎｓ、Ｎｅｗ Ｙｏｒ
ｋ、１９７８Ｗ、Ｆｒｅｉ＋ａｎｄ Ｃｈｕｎｇ−Ｃｈ
ｉｎｇ Ｃｂｅｎ、ｉｎ ＩＥＥＥＴｒａｎｓ ｏｎ
Ｃｏｍｐｕｔｅｒｓ、Ｏｃｔ、１９７７： ”Ｆａｓｔ
Ｂｏｕｎｄａｒｙ Ｄｅｔｅｃｔｆｏｎ”。
ｋ、１９７８Ｗ、Ｆｒｅｉ＋ａｎｄ Ｃｈｕｎｇ−Ｃｈ
ｉｎｇ Ｃｂｅｎ、ｉｎ ＩＥＥＥＴｒａｎｓ ｏｎ
Ｃｏｍｐｕｔｅｒｓ、Ｏｃｔ、１９７７： ”Ｆａｓｔ
Ｂｏｕｎｄａｒｙ Ｄｅｔｅｃｔｆｏｎ”。
正常な、欠陥のない繊維布表面構造においてさえ、ライ
ンや輪郭エレメントから成り立っている。したがって輪
郭検出プロセスでは常に出力値が発生し、これより平均
値、布の特性参照量が形成され、正常表面構造の１つの
測度となる。しかし布巾の輪郭エレメントあるいはライ
ンエレメントは、その寸法および／またはコントラスト
の程度が、表面構造から著しく異なっている。見出され
た輪郭およびう≧ンエレメントの、該布特性参照標準と
の連続比較で、信頼できるＩｌｊ中の欠点検出が可能と
なる。
ンや輪郭エレメントから成り立っている。したがって輪
郭検出プロセスでは常に出力値が発生し、これより平均
値、布の特性参照量が形成され、正常表面構造の１つの
測度となる。しかし布巾の輪郭エレメントあるいはライ
ンエレメントは、その寸法および／またはコントラスト
の程度が、表面構造から著しく異なっている。見出され
た輪郭およびう≧ンエレメントの、該布特性参照標準と
の連続比較で、信頼できるＩｌｊ中の欠点検出が可能と
なる。
コｇｉ当な１１畠郭検出方式の輪郭及びラインに対する
著しい高感度と、他の構造エビジント（例えば粒状性）
に対する低感度により、フィルタシステム自体の分解能
が劣っていて゛も、個々の糸の寸法程度の布欠点の検出
が可能となる。フィルタシステムの分解能は、窒間的頻
反が高いための干渉信号を抑圧する程１度にまで減少で
きる。
著しい高感度と、他の構造エビジント（例えば粒状性）
に対する低感度により、フィルタシステム自体の分解能
が劣っていて゛も、個々の糸の寸法程度の布欠点の検出
が可能となる。フィルタシステムの分解能は、窒間的頻
反が高いための干渉信号を抑圧する程１度にまで減少で
きる。
この様／よ分’）’Ｊｌ能な低減する方法は、光学的ロ
ーパスフィルタとも１えるが、システムをディジタルエ
レクトロニックハードウェアで構成するとき、センサ上
１／メントの数を減らせることができ、したがって、極
めて経済的な方法を提供する。
ーパスフィルタとも１えるが、システムをディジタルエ
レクトロニックハードウェアで構成するとき、センサ上
１／メントの数を減らせることができ、したがって、極
めて経済的な方法を提供する。
輪郭検出方式は、フィルタの方向及び感度を、フィルタ
マスクを１当に週択することによって決へ）ることかで
きるので、輪郭エレメントとラインエレメントをその方
向と長さにしたがって選択的に区別することができると
いう特別な利点を有する。一般的に多数のフィルタ段を
並列に用いるこ丈が望゛ましい。かかる配ＮＪにおいて
もこれをディジタルエレクトロニックハードウェアで実
現するならば、１つの固定センサシステムだけでよいこ
とになる。この場合、フィルタの特性は電子回路あるい
はプログラミングによって極めて柔軟に決めることがで
きる。本発明による方法は、したがって、機運プロセサ
を用いる近代的技術の適用に極めて適している。
マスクを１当に週択することによって決へ）ることかで
きるので、輪郭エレメントとラインエレメントをその方
向と長さにしたがって選択的に区別することができると
いう特別な利点を有する。一般的に多数のフィルタ段を
並列に用いるこ丈が望゛ましい。かかる配ＮＪにおいて
もこれをディジタルエレクトロニックハードウェアで実
現するならば、１つの固定センサシステムだけでよいこ
とになる。この場合、フィルタの特性は電子回路あるい
はプログラミングによって極めて柔軟に決めることがで
きる。本発明による方法は、したがって、機運プロセサ
を用いる近代的技術の適用に極めて適している。
本発明による方法に用いるイメージフィルタリングとし
きい値形成システムは、その本質において、まず、連続
して到来する輪郭エレメントあるいはラインエレメント
が正常な布組織から有意に偏つ忙いるかどうかについて
分析することにある。有意な偏りをもつＩｌ！ｌｉ！郭
あるいはラインエレメントが発見されない限り、該プロ
セスは何等の信号も生じない。顕著な輪郭あるいはライ
ンエレメントが発注したときにのみ、対応する信号がス
トアされこのあとに続くプロセサで分析される。
きい値形成システムは、その本質において、まず、連続
して到来する輪郭エレメントあるいはラインエレメント
が正常な布組織から有意に偏つ忙いるかどうかについて
分析することにある。有意な偏りをもつＩｌ！ｌｉ！郭
あるいはラインエレメントが発見されない限り、該プロ
セスは何等の信号も生じない。顕著な輪郭あるいはライ
ンエレメントが発注したときにのみ、対応する信号がス
トアされこのあとに続くプロセサで分析される。
この分析の結果は、イ４コ中の欠点を示すであろう。布
巾の欠点の発生は統計高には、まれに発生ずる現象を見
なされるので、あとに接続されるプロセサは分析に充分
長い時間々隔をもち得て、比軟的低速で処理でき、した
がづてそれ程高価なプロセサでなくても充分である。
巾の欠点の発生は統計高には、まれに発生ずる現象を見
なされるので、あとに接続されるプロセサは分析に充分
長い時間々隔をもち得て、比軟的低速で処理でき、した
がづてそれ程高価なプロセサでなくても充分である。
以下１：′、１面を用いて本発明の方法と装置を詳述す
る。
る。
第１図は欠点２を有する布１の一部を示す。
２１３２図において布１は巻もどし、巻取機構３上で移
動している状態を図式に示した。布面に対し直角に光学
的スキャナ５があり、布１を横方向にラインごとに走査
し、フィルタマスク４上に布１のその１吋同の切片１ａ
の画像を形成する。
動している状態を図式に示した。布面に対し直角に光学
的スキャナ５があり、布１を横方向にラインごとに走査
し、フィルタマスク４上に布１のその１吋同の切片１ａ
の画像を形成する。
フィルタマスク４で生ずる光度値は光学的積分ｋｅ５１
と光重変換器６によって、点Ｂから求めらｈ−４） ｉ
ｊｌ′に’ｒ図に示した様な１つのグレーバリュー１′
！Ｊζを生ずる電気信号に変４Ｑ％される。
と光重変換器６によって、点Ｂから求めらｈ−４） ｉ
ｊｌ′に’ｒ図に示した様な１つのグレーバリュー１′
！Ｊζを生ずる電気信号に変４Ｑ％される。
これらの信号を、１つは直接に、また１つにはローパス
７を介してしきい値段８に加え、８の出力を第１のモニ
タ９に導くと、モニタのスクリーンＣには、第３図のグ
レーバリュー像に対応する黒・白画像（第４図）が得ら
れる。多（の場合、これでは未だ欠点検出の信頼度は不
充分である。なぜなら、胸囲の面構造から見て有意とは
思われない程度の差しかもた゛ない構造の布上の部分も
欠点のごとく描き出されてしまうからである。
７を介してしきい値段８に加え、８の出力を第１のモニ
タ９に導くと、モニタのスクリーンＣには、第３図のグ
レーバリュー像に対応する黒・白画像（第４図）が得ら
れる。多（の場合、これでは未だ欠点検出の信頼度は不
充分である。なぜなら、胸囲の面構造から見て有意とは
思われない程度の差しかもた゛ない構造の布上の部分も
欠点のごとく描き出されてしまうからである。
１つのスリットを有するこのフィルタマスク４の効果は
、序章でのべた光度値を何本かの糸について平均する公
知の方式のものと同じである。
、序章でのべた光度値を何本かの糸について平均する公
知の方式のものと同じである。
今もし、フィルタマスク４と布１０間に、第５図に示す
よ）に、光学システム１１．２つの光電変換器１２．１
３差動段１４およびモニタ１５よりなる前段を配置し、
フィルタマスクを直接亜１に対向するのでなく、上記第
２のモニタ１５の画像Ａに対向させると、結果として得
られる黒白画像における欠点検出の信頼度を著しく塩１
大させることができる。
よ）に、光学システム１１．２つの光電変換器１２．１
３差動段１４およびモニタ１５よりなる前段を配置し、
フィルタマスクを直接亜１に対向するのでなく、上記第
２のモニタ１５の画像Ａに対向させると、結果として得
られる黒白画像における欠点検出の信頼度を著しく塩１
大させることができる。
どの様に蕉自画像における検出信頼度が増大するかを第
６図および第７図に示し′た。第６図はモニタ１５のス
クリーンＡ上に現われる布の画像を示し、第７図は同一
布部分の第５図Ｂ点で得ら、ｈる像を示す。
６図および第７図に示し′た。第６図はモニタ１５のス
クリーンＡ上に現われる布の画像を示し、第７図は同一
布部分の第５図Ｂ点で得ら、ｈる像を示す。
第５図における配置は、第８図に示ずよう（、差動段１
・１の出力を直接、しきい値段８とローパスフィルタ７
に加える様にすれば著しく簡略化されろ。この１易合マ
スクとしてダブルスリットダイヤフラムＩ６を布１と光
学システム１１の間に４１１１人し、布１を２つの平行
な画像ラインの形でとらえ、これより光度値とそ牙シそ
れの重みづげのバ：、ｆ ｉ’４）るよ５にする。この
ようにフィルタマスク１０としてダブルスリットダイヤ
フラム、光学７ステムＩＩ、光（５）変換器１２，１３
、差動段１４をまとめたものを光学的空間フィルタ２０
とする。
・１の出力を直接、しきい値段８とローパスフィルタ７
に加える様にすれば著しく簡略化されろ。この１易合マ
スクとしてダブルスリットダイヤフラムＩ６を布１と光
学システム１１の間に４１１１人し、布１を２つの平行
な画像ラインの形でとらえ、これより光度値とそ牙シそ
れの重みづげのバ：、ｆ ｉ’４）るよ５にする。この
ようにフィルタマスク１０としてダブルスリットダイヤ
フラム、光学７ステムＩＩ、光（５）変換器１２，１３
、差動段１４をまとめたものを光学的空間フィルタ２０
とする。
Ｃｌ′；’ ４１図（・まダブルスリットダイヤフラム
１６を用いて、モニタ９のスクリーンＣ上に得られる黒
白画像中の布欠点２を示す。第４図に示したものと比較
すると検出信頼度がさらに著しく向上していることは明
らかである。
１６を用いて、モニタ９のスクリーンＣ上に得られる黒
白画像中の布欠点２を示す。第４図に示したものと比較
すると検出信頼度がさらに著しく向上していることは明
らかである。
どんなタイプの布欠点も検出するためには、いく、つか
のフィルタ段を並列に用いることカ好ましい。その個々
の段はフィルタマスクのスリットが長さ、方向で夫々異
なっている。その１例を第１０図に示す。ここでは２つ
の水平方向の、そして２つの垂直方向のダブルスリット
ダイヤフラム１６１，１６２，１６３，１６４がフィル
タマスクとして１）ｍえられ、そのうち２つは短いダブ
ルスリット、２つは長いダブルスリットを有している。
のフィルタ段を並列に用いることカ好ましい。その個々
の段はフィルタマスクのスリットが長さ、方向で夫々異
なっている。その１例を第１０図に示す。ここでは２つ
の水平方向の、そして２つの垂直方向のダブルスリット
ダイヤフラム１６１，１６２，１６３，１６４がフィル
タマスクとして１）ｍえられ、そのうち２つは短いダブ
ルスリット、２つは長いダブルスリットを有している。
短いダブルスリツ） １６１，１６３は亜表面の小さい
切片をおおい、そうすることによって部分的な偏りを検
出、一方長いダブルスリツ） １６２，１６４は布表面
のより大きい部分の光度値から平均を形成するのに用い
られる。後続の予備処理段１７１，１７２，１７３゜１
７４は、基本的には第８図に示した光学システム１１、
変換器１礼１３、差動段１４、ローパス７およびしきい
値段８などの要素を含んでおり、これらは７トリクプＩ
８に接続される。マトリクー！：１８には、潜在的に欠
点部分をもつ布切片の今迄に処ｙｒ＋ｒ Ｌだすべての
点が表の形式でストアされている。次の段１９で行なわ
れる処理でマトリツクス１８にストアされたデータが分
析され、欠点信号２１の形でこれを出力する。
切片をおおい、そうすることによって部分的な偏りを検
出、一方長いダブルスリツ） １６２，１６４は布表面
のより大きい部分の光度値から平均を形成するのに用い
られる。後続の予備処理段１７１，１７２，１７３゜１
７４は、基本的には第８図に示した光学システム１１、
変換器１礼１３、差動段１４、ローパス７およびしきい
値段８などの要素を含んでおり、これらは７トリクプＩ
８に接続される。マトリクー！：１８には、潜在的に欠
点部分をもつ布切片の今迄に処ｙｒ＋ｒ Ｌだすべての
点が表の形式でストアされている。次の段１９で行なわ
れる処理でマトリツクス１８にストアされたデータが分
析され、欠点信号２１の形でこれを出力する。
提案されたフィルタマスクより′成る画像フィルタリン
グシステムは、例えば第１１図に示す配置の形で′電子
的に実現される。光学システム１１１′ｉｍ ｊ：ウラ
インセンサ２５上に布１の像が得られる。
グシステムは、例えば第１１図に示す配置の形で′電子
的に実現される。光学システム１１１′ｉｍ ｊ：ウラ
インセンサ２５上に布１の像が得られる。
このジインセンザ２５の出力には電気信号ＵＬが得ｃ）
）１．、これらその瞬間の布のライン画像の光度植に比
例する。２ラインメモリ２２は、例えば１勺のンフトレ
ジスクであっても、、良いが、今走査し２ノ、−２つの
ラインのストアに用いられる。信号１１１Ｊとメモリ内
％ｉ Ｕ Ｓはフィルタプロセサ２３に導かＡし、フィ
ルタプロセサ２：３の出力ＵＦは光学フィルタの出力Ｉ
７・１号のようにしきい値段に導かれていイ）。・１：
た、フィルタプロセサ２３には、中間メモリ２・１カー
′、１、ｌす２／）てらり、ていイ）。
）１．、これらその瞬間の布のライン画像の光度植に比
例する。２ラインメモリ２２は、例えば１勺のンフトレ
ジスクであっても、、良いが、今走査し２ノ、−２つの
ラインのストアに用いられる。信号１１１Ｊとメモリ内
％ｉ Ｕ Ｓはフィルタプロセサ２３に導かＡし、フィ
ルタプロセサ２：３の出力ＵＦは光学フィルタの出力Ｉ
７・１号のようにしきい値段に導かれていイ）。・１：
た、フィルタプロセサ２３には、中間メモリ２・１カー
′、１、ｌす２／）てらり、ていイ）。
第１２図は水平方向のフィルタマスクの他の実施例を示
す。２ラインメモリ２２からの走査されたラインｎ−２
（３１）の値が第１０差動段３３において各瞬間の電流
走査ラインｎ（３２）の値から引かｈる。
す。２ラインメモリ２２からの走査されたラインｎ−２
（３１）の値が第１０差動段３３において各瞬間の電流
走査ラインｎ（３２）の値から引かｈる。
シフトレジスフ３４では、その場所数Ｋがフィルタマス
ク１６のスリットの長さを決定するが、そのシフトレジ
スタ３４上において走査値が遅延され、次に走査された
値が第２の差動段３５においてそのｋだけ前の値から引
かれる。加算段３Ｇにおける差の連続的な加算はフィル
タ出力信号ＵＦを生じる。このフィルタ出力信号ＵＦは
例えば第８図の接続段りに送られる。
ク１６のスリットの長さを決定するが、そのシフトレジ
スタ３４上において走査値が遅延され、次に走査された
値が第２の差動段３５においてそのｋだけ前の値から引
かれる。加算段３Ｇにおける差の連続的な加算はフィル
タ出力信号ＵＦを生じる。このフィルタ出力信号ＵＦは
例えば第８図の接続段りに送られる。
垂直なダブルスリットマスクの実施例を第１３図は示し
ている。この装置は各瞬間の走置ラインｎ（４１） Ｌ
、か必要としない。走置された値を２つの場所だけ相対
シフトさせることは第３の７フトレジスタ４２により達
成される。各瞬間の走肴点とそれより２つ前に走査され
た点との間の信号差ＵＤが第３０差動段７Ｉ３の出力と
なる。すべての走置された点における走行平均ＵＭは掛
算器４・１（係数ｐ）および４５（係数ｇ）、第４の差
段階４６、および走置されたラインｎの長さの第４のシ
フ１−Ｌｚレジスタ７により従来の方法で形成される。
ている。この装置は各瞬間の走置ラインｎ（４１） Ｌ
、か必要としない。走置された値を２つの場所だけ相対
シフトさせることは第３の７フトレジスタ４２により達
成される。各瞬間の走肴点とそれより２つ前に走査され
た点との間の信号差ＵＤが第３０差動段７Ｉ３の出力と
なる。すべての走置された点における走行平均ＵＭは掛
算器４・１（係数ｐ）および４５（係数ｇ）、第４の差
段階４６、および走置されたラインｎの長さの第４のシ
フ１−Ｌｚレジスタ７により従来の方法で形成される。
係７ ｐおよびどの選択によりダブルスリットマスクの
長さが決められ、峰。この循環的な信号処ｖ；）は、走
査方向に対して直角方向における充分に近似的な平均値
となり、長い垂直スリットマスクを発生あるいは再形成
するよう作らなり゛ればならない大ざいメモリ領域を量
販する。
長さが決められ、峰。この循環的な信号処ｖ；）は、走
査方向に対して直角方向における充分に近似的な平均値
となり、長い垂直スリットマスクを発生あるいは再形成
するよう作らなり゛ればならない大ざいメモリ領域を量
販する。
第１図は７１１ｊの一部の写真、紀２図は簡単なスリッ
トをもっダイヤフラムの光学的空間フィルタを示す図、
第３図はｆ＝巣なスリットダイヤフラムで得られた布欠
点のグレー値画像の写真、払Ｂ； ４図は第３図のグレ
ー値画像から導出した黒画面１：４ぼの写真、第５図は
第２図に示した光学的’、、”、 Ｉｉｌフィルタと間
接的に接続された差動段とをンＪ、す図、第６図は第５
図の信号の流れから竹、出した布情逓、の画［象の写真
、第７図は第５図の空１１１１フィルタを進上したあと
の布構造の画像の写真、第８図はダブルスリットダイヤ
フラムをもつ光学的空間フィルタを示す図、詔９図は第
８図に示したタープルスリットダイヤフラムを用いて得
られた布欠点の黒白画像の写真、第１０図は水平および
垂直成分をもつ、すべての布欠点をすべて検出するため
のマルチチャンネル画像処理システムを示す図、第１１
図はディジタル画像フィルタリング装置の図、第１２図
は水平フィルタマスクのディジタル装置の１例を示す図
、第１３図は垂直フィルタマスクのディジタル装置の１
実施例を示す図である。 １・・・布、２・・・欠点、７・・・口・−パス ８・
・・しきい値段、９・・・第１のモニタ、］２．１３・
・・光電変換器、１６・・・ダブルスリットダイヤフラ
ム、２０・・・光′祇的荒間フィルタ特許出願人 ツ
エルヴエーゲル・ウスチル・アクチェンゲゼルシャフト 手続補正書（方却 昭和５９年７月２３日 ＃’！Ｊ’ ＋ｉ′ｌ庁長官 志９′ 学 殿１、 ！
Ｊｉヂ１の表示 昭和５・）年特 ｙ「 願第２Ｉ０５号２、発１１Ｊの
名称 ３、補正をする者 事イ′１との関係 ！、’ｒ ：ｉ’ｌ： Ｉｌ’、願
人４、代 理 人 ５− ｉ＋ｌｉ ＋ｌ命令の１１伺 昭和５９年
も月 ６日（発送［１昭和５０年 ６月２６１］］）１
明■齋第１７頁第１５行〜同頁第１６行「第４図は・
・・写真、」を次のように訂正する。 「第４図は第３図のグレー値ｌＩ！１１１象から伸出さ
れた黒白側１象を示す図、」 ２ 図面の第４図を添代のように訂正する。
トをもっダイヤフラムの光学的空間フィルタを示す図、
第３図はｆ＝巣なスリットダイヤフラムで得られた布欠
点のグレー値画像の写真、払Ｂ； ４図は第３図のグレ
ー値画像から導出した黒画面１：４ぼの写真、第５図は
第２図に示した光学的’、、”、 Ｉｉｌフィルタと間
接的に接続された差動段とをンＪ、す図、第６図は第５
図の信号の流れから竹、出した布情逓、の画［象の写真
、第７図は第５図の空１１１１フィルタを進上したあと
の布構造の画像の写真、第８図はダブルスリットダイヤ
フラムをもつ光学的空間フィルタを示す図、詔９図は第
８図に示したタープルスリットダイヤフラムを用いて得
られた布欠点の黒白画像の写真、第１０図は水平および
垂直成分をもつ、すべての布欠点をすべて検出するため
のマルチチャンネル画像処理システムを示す図、第１１
図はディジタル画像フィルタリング装置の図、第１２図
は水平フィルタマスクのディジタル装置の１例を示す図
、第１３図は垂直フィルタマスクのディジタル装置の１
実施例を示す図である。 １・・・布、２・・・欠点、７・・・口・−パス ８・
・・しきい値段、９・・・第１のモニタ、］２．１３・
・・光電変換器、１６・・・ダブルスリットダイヤフラ
ム、２０・・・光′祇的荒間フィルタ特許出願人 ツ
エルヴエーゲル・ウスチル・アクチェンゲゼルシャフト 手続補正書（方却 昭和５９年７月２３日 ＃’！Ｊ’ ＋ｉ′ｌ庁長官 志９′ 学 殿１、 ！
Ｊｉヂ１の表示 昭和５・）年特 ｙ「 願第２Ｉ０５号２、発１１Ｊの
名称 ３、補正をする者 事イ′１との関係 ！、’ｒ ：ｉ’ｌ： Ｉｌ’、願
人４、代 理 人 ５− ｉ＋ｌｉ ＋ｌ命令の１１伺 昭和５９年
も月 ６日（発送［１昭和５０年 ６月２６１］］）１
明■齋第１７頁第１５行〜同頁第１６行「第４図は・
・・写真、」を次のように訂正する。 「第４図は第３図のグレー値ｌＩ！１１１象から伸出さ
れた黒白側１象を示す図、」 ２ 図面の第４図を添代のように訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 対象物の正常と見なされる組綾部と、欠点と児なさ
れる部分的偏りとの同のコントラストを増大すべ（画像
をフィルタリングすることによって織物または同様なシ
ート状繊維製品の欠点を自動的に侠出する方法において
、釘ミ糸１６よび緯糸方向における線状輪郭要素を検出
するよう適合させた、少なくとも２つの空ｊｉｉＪンイ
ルク（２０）を隙の変換に用い、変換された暉は、各方
向ごとθル特性グレイ・バリューのしさい（直と比・Ｉ
Ｍすることによって、バイツーリの黒白１翔１峨とする
ことを／特徴と１−る、欠巧、の自動・演出方法。 ２、！１．！１．性グレイ・バリューのしざい値を空間
フィルタ（２（１）のあとに接１．−丸されたローパス
・フィルタ（７） −Ｃ’ ；ｂ成することを特徴とす
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 空間フィルタ（２０）は、１つのマスク（１６）よ
す成す、マスクは２つの平行な短形ゾーンをもち、その
一方は正の重みづけ、他方は負の重みづけを、またマス
クの２つの平行ゾーンの外の部分は重みづけＯとなって
見・ることを特徴とする特許請求の範囲ム）１項記載の
方法。 ４ 面積エレメントとその重みづげとの積の、空間フィ
ルタ全域にわたる合削がＯであることを特徴とする特許
請求の馳囲鵠］項ンよいし第３項のいずれかに記載の方
法。 ５ 空間フィルタマスクの２つの平行ゾーンに直角の方
向に沿ったどのセクションにおいても、セクションの面
２Ｍ ”９Ｕ素とその重みづけとの積の和は０となるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第３項のい
ずれかに記載の方法。 ６４固々のゾーン中の単位面槙要素当りの重みは一定で
あることを特徴とする特ｊ’Ｆ Ｋ’Ｊ求の呪囲第１項
ないし第３項のいずれかに記載の方法。 ７ 空間フィルタマスクの２つの平行ゾーンを、そＡ・
］、それ経糸方向および緯糸方向に配置したことを特徴
とする特に布欠点を調査するための、特許請求の範囲第
１項ないし第３項の（・ずれかに記載の方法。 ８ 梁間フィルタマスクの２つの平行ゾーンの長さは、
調畳ず−る布組織の偏りの長さに近似させたことを特徴
とする特許請求の範囲第１ 項７．１：いし第３項の（
・ずれかに記載の方法。 ミ）空間フィルタマスクの２つの平行ゾーンの幅は１本
／、し・し多数の糸幅に等しくしたことを７１４徴とす
る、特４作、１”」求の範囲第１項ないし第３項のいず
れかに記載の方法。 １０ 公知の非干渉光学フィルタより成る装置に：ｔ
６いて、各空間フィルタマスク（１６）の・あとに少／
、１くとも２つの光’ｉ、ａ、変Ｊ列器（１２，１３）
を配置し、ぞ７）ｌ、ぞり、の変鳳器ば、空１ｄ］フィ
ルタマスク０６）の２つの平行ゾーンの一方のみん・ら
受光するごとくしたことを特徴とする、織物および同様
のシート状構造の繊維製品の欠点を自動的に検出する装
置。 １１、 負の重みづけ領域に指定された変換器（１３
）の電気的出力信号を、後置の差動段（１４）において
、正の重みづけ領域に指定された変換器（１２）の゛電
気的出力信号から差引くとと（したことを特徴とする特
許論′）Ｊ（の範囲第１０項記載の装置。 １２ 固定配線あるいはプログラム可能に計算回路を
有する公知の、電気的画像処理配置に１６いて、マスク
（１６）中の重みづけば＋１オ６よび−１の値のみをと
ることを特徴とする、織物および同様のシート状イ４０
′造の繊糾製品の欠点を自動的に検出する装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH624/839 | 1983-02-03 | ||
| CH624/83A CH660920A5 (de) | 1983-02-03 | 1983-02-03 | Verfahren und vorrichtung zur automatischen erkennung von fehlern in geweben und aehnlichen textilen flaechengebilden. |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59230144A true JPS59230144A (ja) | 1984-12-24 |
Family
ID=4191338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59002105A Pending JPS59230144A (ja) | 1983-02-03 | 1984-01-11 | 織物および同様のシ−ト状構造の繊維製品の欠点を自動的に検出する方法および装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4619527A (ja) |
| EP (1) | EP0115573B1 (ja) |
| JP (1) | JPS59230144A (ja) |
| CA (1) | CA1226920A (ja) |
| CH (1) | CH660920A5 (ja) |
| DE (1) | DE3304817C2 (ja) |
| IN (1) | IN162612B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62231069A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-09 | 株式会社日立製作所 | 検反機の欠点検出方法 |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH663474A5 (de) * | 1984-04-24 | 1987-12-15 | Zellweger Uster Ag | Verfahren und vorrichtung zur automatischen ueberwachung von gewebebahnen. |
| DE3709500A1 (de) * | 1985-09-24 | 1988-10-06 | Sick Optik Elektronik Erwin | Optische bahnueberwachungseinrichtung mit zeilenkameras mit gerichteter beleuchtung |
| BE1000294A3 (nl) * | 1987-02-05 | 1988-10-11 | Wetenschappelijk En Tech Ct Va | Werkwijze voor het meten van de garendichtheid van een weefsel of de steekdichtheid van een breisel en inrichting voor het uitvoeren van deze werkwijze. |
| GB2202627A (en) * | 1987-03-23 | 1988-09-28 | Sick Optik Elektronik Erwin | Optical arrangement in web monitoring device |
| DE3729804A1 (de) * | 1987-09-05 | 1989-03-16 | Menschner Maschf Johannes | Verfahren zur automatischen erkennung von fehlern in bewegten warenbahnen |
| CH669401A5 (ja) * | 1988-03-02 | 1989-03-15 | Loepfe Ag Geb | |
| US4972091A (en) * | 1989-05-16 | 1990-11-20 | Canadian Patents And Development Limited/Societe Canadienne Des Brevets Et D'exploitation Limitee | Method and apparatus for detecting the presence of flaws in a moving sheet of material |
| US5075562A (en) * | 1990-09-20 | 1991-12-24 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for absolute Moire distance measurements using a grating printed on or attached to a surface |
| US5075560A (en) * | 1990-09-20 | 1991-12-24 | Eastman Kodak Company | Moire distance measurements using a grating printed on or attached to a surface |
| CH687110A5 (de) * | 1991-09-10 | 1996-09-13 | Luwa Ag Zellweger | Verfahren zur Erstellung einer Stoerungsdiagnose an Produktionsmaschinen und Anwendung des Verfahrens an Textilmaschinen. |
| DE69324557T2 (de) * | 1992-12-31 | 1999-09-23 | Zellweger Uster Inc | Kontinuierliche zweidimensionale Überwachung von dünnem Gewebe textilen Materials |
| US5778724A (en) * | 1995-09-07 | 1998-07-14 | Minnesota Mining & Mfg | Method and device for monitoring web bagginess |
| FR2739879B1 (fr) | 1995-10-16 | 1997-11-21 | Ictb Macotex | Dispositif pour l'inspection et la detection automatique de defauts sur une bande en defilement, telle qu'une etoffe de textile |
| DE19543289A1 (de) * | 1995-11-21 | 1996-05-09 | Werner Grose | Verfahren und Vorrichtung zur opto-dynamischen Oberflächenspannungsmessung an laufenden Substraten |
| DE19628319C2 (de) * | 1996-07-13 | 2000-11-23 | Monforts Textilmaschinen Gmbh | Einrichtung zum Messen der Rapportlänge eines plastischen Musters |
| US6675837B1 (en) | 2000-10-04 | 2004-01-13 | Si Corporation | Woven fabric having modified selvage and related assembly and method for the manufacture thereof |
| DE10057170A1 (de) * | 2000-11-16 | 2002-05-23 | Rieter Ag Maschf | Ermittlung von Störstellen |
| WO2004086013A1 (de) * | 2003-03-27 | 2004-10-07 | Mahlo Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur überfrüfung der qualitätskriterien von flächigen, mehrlagig konturbezogen gefertigten textilen gebilden |
| DE10336748A1 (de) * | 2003-08-11 | 2005-03-10 | Herbst Protechna Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zum Erfassen von Fehlerstellen in Tufting-Ware und Tufting-Maschine |
| US11287667B2 (en) | 2018-03-23 | 2022-03-29 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Spatial filtering apparatus and method of spatial filtering using the same |
| WO2020012311A2 (en) | 2018-07-08 | 2020-01-16 | Lohia Corp Limited | Device and method for managing defects in a web material on conversion lines |
| CN110231348B (zh) * | 2019-06-19 | 2021-08-13 | 湖南省宝满科技开发有限公司 | 一种窗帘质量检测平台及检测方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3361225A (en) * | 1966-05-31 | 1968-01-02 | North American Aviation Inc | Sonic testing device |
| DE1938083B2 (de) * | 1969-07-26 | 1972-05-10 | Mahlo Gmbh, 8424 Saal | Verfahren zur automatischen fehlerueberwachung flaechenfoermiger werkstuecke mittels einer anzahl parallel nebeneinander angeordneter abtastsysteme |
| US3658420A (en) * | 1969-12-10 | 1972-04-25 | Bell Telephone Labor Inc | Photomask inspection by spatial filtering |
| US3783296A (en) * | 1972-04-14 | 1974-01-01 | Deering Milliken Res Corp | Method and apparatus for detecting flaws in a fabric web |
| DE2718086C2 (de) * | 1976-04-24 | 1985-07-11 | Daidotokushuko K.K., Nagoya, Aichi | Vorrichtung zur Feststellung von Oberflächenfehlern von Stahlteilen |
| FR2396287A1 (fr) * | 1977-07-01 | 1979-01-26 | Agfa Gevaert | Dispositif et procede pour detecter les irregularites dans une feuille en mouvement |
| DE2814854A1 (de) * | 1978-04-06 | 1979-10-11 | Aldo Bosello | Vorrichtung zur bestimmung von gewebefehlern |
| DE3212438C2 (de) * | 1982-04-02 | 1984-10-25 | Erwin Sick Gmbh Optik-Elektronik, 7808 Waldkirch | Verfahren zur Auswertung der analogen elektrischen Ausgangssignale einer photoelektrischen Lichtempfangsvorrichtung in optischen Bahnabtastvorrichtungen |
-
1983
- 1983-02-03 CH CH624/83A patent/CH660920A5/de not_active IP Right Cessation
- 1983-02-11 DE DE3304817A patent/DE3304817C2/de not_active Expired
- 1983-10-25 CA CA000439639A patent/CA1226920A/en not_active Expired
- 1983-10-31 IN IN1340/CAL/83A patent/IN162612B/en unknown
- 1983-11-02 EP EP83110933A patent/EP0115573B1/de not_active Expired
- 1983-12-09 US US06/559,802 patent/US4619527A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-01-11 JP JP59002105A patent/JPS59230144A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62231069A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-09 | 株式会社日立製作所 | 検反機の欠点検出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0115573A2 (de) | 1984-08-15 |
| CH660920A5 (de) | 1987-05-29 |
| US4619527A (en) | 1986-10-28 |
| EP0115573B1 (de) | 1988-05-11 |
| DE3304817A1 (de) | 1984-08-16 |
| IN162612B (ja) | 1988-06-18 |
| EP0115573A3 (en) | 1985-11-21 |
| CA1226920A (en) | 1987-09-15 |
| DE3304817C2 (de) | 1986-07-31 |
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