JPS6223103A - 薄膜付着装置 - Google Patents

薄膜付着装置

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JPS6223103A
JPS6223103A JP16323785A JP16323785A JPS6223103A JP S6223103 A JPS6223103 A JP S6223103A JP 16323785 A JP16323785 A JP 16323785A JP 16323785 A JP16323785 A JP 16323785A JP S6223103 A JPS6223103 A JP S6223103A
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JP
Japan
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temperature
material vapor
generating furnace
vapor generating
thin film
Prior art date
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JP16323785A
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JPH0466378B2 (ja
Inventor
Hiromi Kaneko
金子 弘美
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、薄膜付着装置に関するものであり、とりわ
け、被付着体に薄膜を真空中で付着させる薄膜付着装置
に関するものである。
〔従来め技術〕
第2図は例えば特公昭54−9592号公報に示された
従来の薄膜付着装置を示し、図において、ベルジャ1と
ベルジャ上部ベース2とベルジャ下部ベース3とが一体
となって真空槽30を形成するが、ベルジャ下部ベース
3には、槽内を真空とするための排気口4が設けられて
いる。槽内には、物質蒸気発生炉5.イオン引出電極6
.物質蒸気発生炉支持台7.イーオン引出電極支持台8
.基板取付台18.基板19.シャッタ21等が収納さ
れている。この物質蒸気発生炉5には、物質蒸気発生炉
加熱用ヒータ15が取付けられている。また、イオン引
出電極6には、イオン化電子放出用フィラメント10が
取付られている。一方槽外には、直流高圧電源9.電子
放出用フィラメント加熱電源13.物質蒸気発生炉加熱
用ヒータ電源16゜電流計22等が配置されている。1
1は、電子ビーム、12は物質蒸気噴射用小孔、14は
イオン化して付着させる物質、17は物質蒸気、20は
、イオン化したクラスタービームである。上記イオン引
出電極6、イオン引出電極支持台8及びイオン化電子放
出用フィラメント10がイオン化手段を構成している。
次に動作について説明する。
イオン化して付着させる物質14を物質蒸気発生炉5に
入れ物質蒸気発生炉加熱用ヒータ15で加熱する。加熱
された物質14は物質蒸気17を発生し、物質蒸気発生
炉5内の圧力を高め、物質蒸気17を物質蒸気噴射小孔
12により噴射する。
飛び出した物質蒸気17は、断熱膨張に起因する凝縮に
よった塊状原子集団(クラスタ)を形成しつつ飛び続け
る。この塊状原子集団は、イオン化電子放出用フィラメ
ント10から放出され直流高圧電源9により、イオン引
出電極6が負、物質蒸気発生炉5が、正となるよう印加
された電界によって加速されつつある電子ビーム11と
衝突し、イオン化される。ここで、イオン化された塊状
原子集団は、上記直流高圧電源9により、上記電子ビー
ム11を加速した電界により、上方へ更に加速され、イ
オン化したクラスタビーム20となる。
このイオン化したクラスタビーム20は、シャッタ21
が開状態である場合、基板19に衝突し、基板19の下
部に薄膜を形成する。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の薄膜付着装置は以上のように構成されているので
、塊状原子集団の発生量を調節するためには物質蒸気発
生炉加熱用ヒータの電力を規定しなければならないが、
炉の絶対温度は炉の製造バラツキや周囲温度等により一
定値に保つことができず、薄膜形成速度が変動する。そ
の結果、希望する電気的磁気的9機械的性能を持った薄
膜が形成できないことや、蒸着時間が定まらないなどの
問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、希望する電気的、磁気的1機械的性能をもっ
た薄膜を所定時間で形成できる薄膜付着装置を提供する
ことを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明に係るini付着装置は、物質蒸気発生炉の温度
を検出する温度検出手段と、該温度に応じて物質蒸気発
生炉加熱用ヒータに加える電力を調節する温度制御手段
とを設けたものである。
〔作用〕
この発明においては、温度検出手段で物質蒸気発生炉の
温度を測定し、それに応じて温度制御手段で物質蒸気発
生炉加熱用ヒータに加える電力を調節するから、物質蒸
気発生炉の温度調節が正確に行なわれる。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例による薄膜付着装置を示し、図
中、第2図と同一符号は同一部分を示す。図において2
3は物質蒸気発生炉支持台7上に載置され物質蒸気発生
炉5を支持する耐熱及び耐圧性の絶縁体であり、これは
タングステンレニエウム熱電対24を内蔵したアルミナ
セラミックス絶縁体からなる。そして上記物質蒸気発生
炉支持台7は上記絶縁体23を介して上記物質蒸気発生
炉5を支持するよう配置されている。24は該絶縁体2
3の温度を検知する温度検出手段としての高温用熱電対
である。25は上記熱電対24で測定した温度に応じて
物質蒸気発生炉加熱用ヒータ15に加える電力を調節す
る温度制御手段としての温度調節器であり、これは設定
温度指令27を入力されており、物質蒸気発生炉5の検
出温度と設定温度とに応じて物質蒸気発生炉加熱用ヒー
タ電源16に対して、物質蒸気発生炉加熱ヒータ15に
供給する電力値を指示するための電力指令28を出力す
る。
次に動作について説明する。
以上の構成において、物質蒸気の発生、イオン化、イオ
ン化物質の加速、基板へのWIIII!の形成について
は従来のものと同じである。
物質蒸気発生炉5の温度は熱伝導性の良い材質であるア
ルミナセラミックス絶縁体23を介して熱電対24によ
り検出される。また、この熱電対24には耐熱性に優れ
たタングステンレニュウムを用いており、良好な動作を
長期的に安定に行なう。
ここで、物質蒸気発生炉の温度については、内部に入れ
る物質と形成する薄膜の特性により設定温度を決めるよ
うにしているため、設定温度指令27を温度調節器25
へ入力し、これを上記熱電対24よりの検出温度と比較
し、通常の制御方式によりその差に応じた電力指令28
を温度調節出力として電源袋M、16を介して物質蒸気
発生炉加熱用ヒータ15に与えてその電力値を関節する
このような本実施例装置においては、温度検出手段及び
温度制御手段を備えたことにより、物質蒸気発生炉の温
度を直接測定して、この温度を所定の温度に保つように
物質蒸気発生炉加熱用ヒータに供給する電力を調節する
ようにしたので、炉の温度を一定に保つことができ、そ
のことにより薄膜形成速度を一定にし、希望する電気的
、磁気的2機械的性能を持つ薄膜を形成することができ
る。また、薄膜形成速度を一定に保てるので、所定時間
内に薄膜形成を計画に沿って予定通り達成することがで
きる。
〔発明の効果〕
以上のように、本発明によれば、i膜付着装置において
、物質蒸気発生炉の温度を検出する手段及びその温度を
制御する手段を備えたので、物質蒸気発生炉の温度を高
温、高電界の状況下においても正確に制御でき、物質蒸
気の発生する速度。
発生状況の変化を少なくできる。その結果、形成する薄
膜の電気的、磁気的1機械的性能を所定の特性でもって
得られると共に、薄膜形成を計画に沿って予定通り達成
できる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による薄膜付着装置を示す
図、第2図は従来のml!I付着装置を示す図である。 5・・・物質蒸気発生炉、15・・・物質蒸気発生炉・
加熱用ヒータ、23・・・アルミナ植縁体、24・・・
熱電対(温度検出手段)、25・・・温度調節器(温度
制御手段)、27・・・設定温度指令、28・・・電力
指令、30・・・真空槽。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)所定の真空度を保持する真空槽と、 該真空槽内に設けられ蒸着物質の蒸気を噴出して該蒸気
    中の多数の原子が緩く結合したクラスタを発生する物質
    蒸気発生炉と、 該物質蒸気発生炉を加熱する物質蒸気発生炉加熱用ヒー
    タと 上記物質蒸気発生炉の温度を検出する温度検出手段と、 該温度検出手段からの温度に応じて上記物質蒸気発生炉
    の温度が設定値になるよう上記物質蒸気発生炉加熱用ヒ
    ータに供給する電力を調節する温度制御手段と、 上記物質蒸気発生炉からのクラスタをイオン化するイオ
    ン化手段とを備えたことを特徴とする薄膜付着装置。
  2. (2)上記温度検出手段は熱電対からなることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の薄膜付着装置。
JP16323785A 1985-07-23 1985-07-23 薄膜付着装置 Granted JPS6223103A (ja)

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JP16323785A JPS6223103A (ja) 1985-07-23 1985-07-23 薄膜付着装置

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JP16323785A JPS6223103A (ja) 1985-07-23 1985-07-23 薄膜付着装置

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JPS6223103A true JPS6223103A (ja) 1987-01-31
JPH0466378B2 JPH0466378B2 (ja) 1992-10-23

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01129135A (ja) * 1987-10-09 1989-05-22 Helmut Gomoruka 移動せしめられる帯状物品の単位長さ当たりの糸密度を自動的に測定する方法
CN105509498A (zh) * 2014-09-22 2016-04-20 沈阳铝镁设计研究院有限公司 罐式炉温度自动控制装置

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JPS4933890A (ja) * 1972-07-29 1974-03-28
JPS554719A (en) * 1978-06-22 1980-01-14 Nec Corp Pulse current driving unit for bubble

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CN105509498B (zh) * 2014-09-22 2017-12-15 沈阳铝镁设计研究院有限公司 罐式炉温度自动控制装置

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