JPS62230780A - 1,3―ジオキソラン誘導体の重合抑制剤 - Google Patents
1,3―ジオキソラン誘導体の重合抑制剤Info
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Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、新規な1,3−ジオキソラン誘導体の重合禁
止剤に関する。
止剤に関する。
従来の技術
一般式
[式中、R1は水素原子又はメチル基を示ず。
R2及びR3は同−若しくは異なって低級アルキル基を
示すか、又は一方が低級アルキル基で使方が一Cト12
CーCF13基若しくは−CH2CH2CCH3基を示
す。] で表わされる1、3−ジオキソラン誘導体は、色伺、4
9.341〜348 (1976) 、特開昭60−1
97670号、特開昭60−197671号等に記載さ
れており、これをラジカル触媒等により重合させて得ら
れるポリマーはプラスチックレンズ等の種々の用途に好
適に使用し得る。
示すか、又は一方が低級アルキル基で使方が一Cト12
CーCF13基若しくは−CH2CH2CCH3基を示
す。] で表わされる1、3−ジオキソラン誘導体は、色伺、4
9.341〜348 (1976) 、特開昭60−1
97670号、特開昭60−197671号等に記載さ
れており、これをラジカル触媒等により重合させて得ら
れるポリマーはプラスチックレンズ等の種々の用途に好
適に使用し得る。
しかし、一般式(i>の1°、3−ジオキソラン誘導体
には、その製造時、精製時に重合を起こし易く、これを
充分に防止できないという問題点がある。即ち、一般式
(I>の化合物は、例えばグリシジルアクリレート又は
グリシジルメタクリレ−トと一般式R2−C−R3[式
中、R2、R3は前記に同じ。]のケトンをリン酸の存
在下に反応させる方法、アクリル酸又はメタクリル酸の
アルカリ金属塩と一般式 臭素原子等のハロゲン原子を示す。R2、R3は前記に
同じ。]の化合物を反応させる方法等により製造され、
次いで通常蒸留により精製されている。この場合、製造
時及び精製時における重合を防止するため重合禁止剤を
添加する必要がおるが、従来用いられている重合禁止剤
では重合の防止特に精製時における重合の防止が充分で
はなかった。
には、その製造時、精製時に重合を起こし易く、これを
充分に防止できないという問題点がある。即ち、一般式
(I>の化合物は、例えばグリシジルアクリレート又は
グリシジルメタクリレ−トと一般式R2−C−R3[式
中、R2、R3は前記に同じ。]のケトンをリン酸の存
在下に反応させる方法、アクリル酸又はメタクリル酸の
アルカリ金属塩と一般式 臭素原子等のハロゲン原子を示す。R2、R3は前記に
同じ。]の化合物を反応させる方法等により製造され、
次いで通常蒸留により精製されている。この場合、製造
時及び精製時における重合を防止するため重合禁止剤を
添加する必要がおるが、従来用いられている重合禁止剤
では重合の防止特に精製時における重合の防止が充分で
はなかった。
例えば、製造時の重合禁止剤としてはハイドロキノンが
用いられるが、重合防止は必ずしも充分とは言えない。
用いられるが、重合防止は必ずしも充分とは言えない。
また、蒸留精製時の重合禁止剤としては、塩化第二銅と
少量の水酸化ナトリウムとの組合せか、又はN−フェニ
ル−β−ナフチルアミンが用いられているが、いずれの
場合も精製時往々にして重合ゲル化を起こしたりして安
定性に欠け、@製収率は50〜80%程度に過ぎず、更
に前者の場合は昇華した銅のため留出液が青色に着色す
るという欠点もある。
少量の水酸化ナトリウムとの組合せか、又はN−フェニ
ル−β−ナフチルアミンが用いられているが、いずれの
場合も精製時往々にして重合ゲル化を起こしたりして安
定性に欠け、@製収率は50〜80%程度に過ぎず、更
に前者の場合は昇華した銅のため留出液が青色に着色す
るという欠点もある。
従って、一般式(I>の1,3−ジオキソラン誘導体の
′IA造時及び精製時に有効に使用できる重合禁止剤が
切望されているのが現状である。
′IA造時及び精製時に有効に使用できる重合禁止剤が
切望されているのが現状である。
発明が解決しようとする問題点
本発明は、上記現状に鑑み、一般式(I)の化合物の新
規にして有効なる重合禁止剤を提供することを目的とす
る。
規にして有効なる重合禁止剤を提供することを目的とす
る。
問題点を解決するための手段
本発明者は、鋭意研究の結果、叶づert−一般式(I
>の化合物に対する優れた重合禁止作用を有し、これに
より上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成
するに至った。
>の化合物に対する優れた重合禁止作用を有し、これに
より上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成
するに至った。
即ら本発明は、p−tert−ブチルカテコールからな
ることを特徴とする、一般式 り式中、R1は水素原子又はメチル基を示す。
ることを特徴とする、一般式 り式中、R1は水素原子又はメチル基を示す。
R2及びR3は同−若しくは異なって低級アルキル基を
示すか、又は一方が低級アルキル基で使方が一〇H20
C83基若しくは −Ct−h CH2−C−083塁を示す。]で表わさ
れる1、3−ジオキソラン誘導体の重合禁止剤に係る。
示すか、又は一方が低級アルキル基で使方が一〇H20
C83基若しくは −Ct−h CH2−C−083塁を示す。]で表わさ
れる1、3−ジオキソラン誘導体の重合禁止剤に係る。
本明細書において低級アルキル基としては、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等を挙
げることができる。
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル基等を挙
げることができる。
本発明の重合禁止剤であるp−tert−ブチルカテコ
ールは、一般式(I>の化合物の重合を防止することを
必要とするいかなる場合にも使用できる。特に、一般式
(I)の化合物の製造時、精製時、保存時等に使用する
ことにより、その優れた重合禁止作用がいかんなく発揮
される。
ールは、一般式(I>の化合物の重合を防止することを
必要とするいかなる場合にも使用できる。特に、一般式
(I)の化合物の製造時、精製時、保存時等に使用する
ことにより、その優れた重合禁止作用がいかんなく発揮
される。
p−tert−ブチルカテコールの使用方法は、一般の
重合禁止剤の場合と同様で良く、通常、一般式(I)の
化合物を製造、精製、保存等するに際して、これをその
まま添加しておくのみで良い。
重合禁止剤の場合と同様で良く、通常、一般式(I)の
化合物を製造、精製、保存等するに際して、これをその
まま添加しておくのみで良い。
勿論、必要に応じて、適当な溶媒等に溶解等してから添
加しても良い。その使用量は、特に限定されず、その使
用状況に応じて適宜決定される。例えば前記製造方法に
おける製造時に使用する場合には、原料のグリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート又はアクリル酸
若しくはメタクリル酸のアルカリ金属塩に対して通常0
.01〜5.0重量%程度、好ましくは0.05〜1.
0重量%程度用いるのが適当である。また、精製時に使
用する場合には、一般式(I)の化合物に対して通常0
.01〜5.0重量%程度、好ましくは0.05〜1.
0重量%程度用いるのが適当である。また、保存時に使
用する場合には、一般式(I)の化合物に対して通常0
.001〜1.0重量%程度、好ましくは0.01〜0
.1重量%程度用いるのが適当である。保存時に添加し
た場合には、必要ならば、使用時に例えばアルカリ水溶
液等で洗浄することにより容易に除去できる。
加しても良い。その使用量は、特に限定されず、その使
用状況に応じて適宜決定される。例えば前記製造方法に
おける製造時に使用する場合には、原料のグリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート又はアクリル酸
若しくはメタクリル酸のアルカリ金属塩に対して通常0
.01〜5.0重量%程度、好ましくは0.05〜1.
0重量%程度用いるのが適当である。また、精製時に使
用する場合には、一般式(I)の化合物に対して通常0
.01〜5.0重量%程度、好ましくは0.05〜1.
0重量%程度用いるのが適当である。また、保存時に使
用する場合には、一般式(I)の化合物に対して通常0
.001〜1.0重量%程度、好ましくは0.01〜0
.1重量%程度用いるのが適当である。保存時に添加し
た場合には、必要ならば、使用時に例えばアルカリ水溶
液等で洗浄することにより容易に除去できる。
発明の効果
本発明によれば、その優れた重合禁止作用により、下記
の如き格別顕著な効果が奏される。
の如き格別顕著な効果が奏される。
(1)一般式(1,’)の化合物の製造時の重合を充分
に防止できる。
に防止できる。
(2)一般式(I>の化合物を蒸留精製する際に極めて
効果的に使用でき、その精製収率は少なくとも90%以
上通常92〜97%程度と極めで高い。
効果的に使用でき、その精製収率は少なくとも90%以
上通常92〜97%程度と極めで高い。
(3)一般式(I>の化合物の保存に際して添加するの
みで、長期間安定に保存できる。
みで、長期間安定に保存できる。
火−一廉−−湾
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
説明する。
実施例 1
(2−メチル−2−アセトニル−1,3−ジオキソラン
−4−イル)メチルメタクリレート(一般式(I)でR
’=CH3、 R2−CH3、R3=Cl−120CII3 )
の’A造500 m12のフラスコに、グリシジルメタ
クリレート353、アセチルアセトン274Ij、85
徂邑%リン酸287及び重合禁止剤としてp−tert
−ブチルカテコール35mgを仕込み、撹拌、均−生後
に60’Cで1時間反応させた。次いで冷却後、トルエ
ン175mQを加えて希釈し、この希釈した反応液を、
2重量%水酸化ナトリウム水溶液100mQで3回振盪
、洗浄した後に有機層を分離した。−万全水層をトルエ
ン50mQで抽出し、トルエン層を有機層と合併した。
−4−イル)メチルメタクリレート(一般式(I)でR
’=CH3、 R2−CH3、R3=Cl−120CII3 )
の’A造500 m12のフラスコに、グリシジルメタ
クリレート353、アセチルアセトン274Ij、85
徂邑%リン酸287及び重合禁止剤としてp−tert
−ブチルカテコール35mgを仕込み、撹拌、均−生後
に60’Cで1時間反応させた。次いで冷却後、トルエ
ン175mQを加えて希釈し、この希釈した反応液を、
2重量%水酸化ナトリウム水溶液100mQで3回振盪
、洗浄した後に有機層を分離した。−万全水層をトルエ
ン50mQで抽出し、トルエン層を有機層と合併した。
この合併した有機層に重合禁止剤としてp−tert−
ブチルカテコール35myを添加して、減圧下にて仝液
量の約172まで濃縮して、トルエン及び未反応アセチ
ルアセトンを回収し、濃度残液50.0gを得た。この
濃縮残液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、
目的物の含有量は54.0重量%であり、従って粗服率
は45.2%であった。
ブチルカテコール35myを添加して、減圧下にて仝液
量の約172まで濃縮して、トルエン及び未反応アセチ
ルアセトンを回収し、濃度残液50.0gを得た。この
濃縮残液をガスクロマトグラフィーで分析したところ、
目的物の含有量は54.0重量%であり、従って粗服率
は45.2%であった。
この濃縮残液をビグリュー精留管を用いて精留し、沸点
116〜119°C10,8a+yl−1gの留分とし
て目的物25.0!IFを得た。精製収率は92,6%
、収率は42%であった。また、ガスクロマトグラフィ
ー分析の結果、純度は99.1%であった。このものは
、’ H−NMR。
116〜119°C10,8a+yl−1gの留分とし
て目的物25.0!IFを得た。精製収率は92,6%
、収率は42%であった。また、ガスクロマトグラフィ
ー分析の結果、純度は99.1%であった。このものは
、’ H−NMR。
” C−NMRにより目的物であることを確認した。
比較例 1
(2−メチル−2−アセトニル−1,3−ジオキソラン
−4−イル)メチルメタクリレートの製造 実施例1において、反応時に添加する重合禁止剤として
p−tert−ブチルカテコールに代えてハイドロキノ
ンを同量用い、又(・ルエン及び未反応アセチルアセト
ンの回収前に添加する重合禁止剤としてp−tert−
ブチルカテコールに代えてN−フェニル−β−ナフチル
アミンを同量用いた以外はすべて実施例1と同様にして
、濃縮残液48.0qを得た。
−4−イル)メチルメタクリレートの製造 実施例1において、反応時に添加する重合禁止剤として
p−tert−ブチルカテコールに代えてハイドロキノ
ンを同量用い、又(・ルエン及び未反応アセチルアセト
ンの回収前に添加する重合禁止剤としてp−tert−
ブチルカテコールに代えてN−フェニル−β−ナフチル
アミンを同量用いた以外はすべて実施例1と同様にして
、濃縮残液48.0qを得た。
この濃縮残液を実施例1と同様に分析したところ、目的
物の含有量は43.3重量%、粗服率は34.8%であ
った。これを、実施例1と同様に精留し、沸点116〜
119°C10,8mmHQの留分として目的物15.
4SJを得た。精製収率は74.0%、収率は25.9
%、純度は93.1%であった。目的物は、実施例1と
同様に同定した。
物の含有量は43.3重量%、粗服率は34.8%であ
った。これを、実施例1と同様に精留し、沸点116〜
119°C10,8mmHQの留分として目的物15.
4SJを得た。精製収率は74.0%、収率は25.9
%、純度は93.1%であった。目的物は、実施例1と
同様に同定した。
実施例 2
[2−メチル−2−(β−アセチルエチル)−1,3−
ジオキソラン−4−イル]メチルメタクリレ−1〜(一
般式(I>でR’=CH3、R2−C)h 、 R3
=CH2CH2CCH3)の製造 グリシジルメタクリレート20y、アセトニルアセトン
1709.85重d%リン@16!lJに重合禁止剤と
してp−tert−ブチルカテコール10mgを添加し
て実施例1と同様に反応させた。
ジオキソラン−4−イル]メチルメタクリレ−1〜(一
般式(I>でR’=CH3、R2−C)h 、 R3
=CH2CH2CCH3)の製造 グリシジルメタクリレート20y、アセトニルアセトン
1709.85重d%リン@16!lJに重合禁止剤と
してp−tert−ブチルカテコール10mgを添加し
て実施例1と同様に反応させた。
次いで冷却復、トルエン100m12を加えて希釈し、
この希釈液を、2重量%水酸化ナトリウム水溶液60m
Qで3回撮盪洗浄した後に有機層を分離した。
この希釈液を、2重量%水酸化ナトリウム水溶液60m
Qで3回撮盪洗浄した後に有機層を分離した。
一方仝水層をトルエン30+nQで抽出し、トルエン層
を有機層と合併した。
を有機層と合併した。
この合併した有機層に重合禁止剤としてp−tere−
ブチルカテコール10IR1jを添加して、減圧下にて
仝液量の約172まで濃縮して、トルエン及び未反応ア
セトニルアセトンを回収し、濃度残液45.Oびを得た
。
ブチルカテコール10IR1jを添加して、減圧下にて
仝液量の約172まで濃縮して、トルエン及び未反応ア
セトニルアセトンを回収し、濃度残液45.Oびを得た
。
この濃縮残液をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、目的物の含有量は46.0型開%、粗服率は57.
3%であった。これを、実施例1と同様に精留し、沸点
130〜132°C10,5mHgの留分として目的物
20.0gを得た。精製収率は96.6%、収率は55
.4%、純度は98.5%であった。このものは、1ト
1−NMRl” C−NMRにより目的物であることを
確認した。
ろ、目的物の含有量は46.0型開%、粗服率は57.
3%であった。これを、実施例1と同様に精留し、沸点
130〜132°C10,5mHgの留分として目的物
20.0gを得た。精製収率は96.6%、収率は55
.4%、純度は98.5%であった。このものは、1ト
1−NMRl” C−NMRにより目的物であることを
確認した。
比較例 2
[2−メヂルー2−(β−アセチルエチル)=1.3−
ジオキソラン−4−イル1メヂルメタクリレートの製造 実施例2において、反応時に添加する重合禁止剤として
p−tert−ブチルカテコールに代えてハイドロキノ
ンを同量用い、又トルエン及び未反応アセトニルアセト
ンの回収前に添加する重合禁止剤としてp−tert−
ブチルカテコールに代えてN−フェニル−β−ナフチル
アミンを同は用いた以外はすべて実施例1と同様にして
、濃縮残液29.2!Jを得た。
ジオキソラン−4−イル1メヂルメタクリレートの製造 実施例2において、反応時に添加する重合禁止剤として
p−tert−ブチルカテコールに代えてハイドロキノ
ンを同量用い、又トルエン及び未反応アセトニルアセト
ンの回収前に添加する重合禁止剤としてp−tert−
ブチルカテコールに代えてN−フェニル−β−ナフチル
アミンを同は用いた以外はすべて実施例1と同様にして
、濃縮残液29.2!Jを得た。
この濃縮残液を実施例2と同様に分析したところ、目的
物の含有dは49.7重但%、粗服率は40.2%でお
った。これを、実施例1と同様に精留し、81点130
〜132℃10.5閉HQの留分として目的物10.4
gを得た。精製収率は71.5%、収率は28.8%、
純度は93.8%であった。目的物は、実施例2と同様
に同定した。
物の含有dは49.7重但%、粗服率は40.2%でお
った。これを、実施例1と同様に精留し、81点130
〜132℃10.5閉HQの留分として目的物10.4
gを得た。精製収率は71.5%、収率は28.8%、
純度は93.8%であった。目的物は、実施例2と同様
に同定した。
実施例 3
[2−メチル−2−アセトニル−1,3−ジオキソラン
−4−イル]メヂルアクリレート(一般式(1)でR+
=ト1、R2=CH3、R3−CH2CCH3)の製造 2−メチル−2−アセトニル−4−クロロメチル−1,
3−ジスキンラン50g、ジメチルスルホキシド200
m12.クロロベンゼン60mG、アクリル酸カリウム
32g及び重合禁止剤としてp−tert−ブチルカテ
コール601Qを蒸留フラスコに入れ、加熱して液温か
140°Cになるまで留分を留出させた。なお、クロロ
ベンゼンは反応系の水分を共沸混合物として除去するた
めに使用した。
−4−イル]メヂルアクリレート(一般式(1)でR+
=ト1、R2=CH3、R3−CH2CCH3)の製造 2−メチル−2−アセトニル−4−クロロメチル−1,
3−ジスキンラン50g、ジメチルスルホキシド200
m12.クロロベンゼン60mG、アクリル酸カリウム
32g及び重合禁止剤としてp−tert−ブチルカテ
コール601Qを蒸留フラスコに入れ、加熱して液温か
140°Cになるまで留分を留出させた。なお、クロロ
ベンゼンは反応系の水分を共沸混合物として除去するた
めに使用した。
液温を160℃に保持して2時間反応させた後に、冷却
し、泥状沈澱物を?戸別し、炉液をビグリュー管側蒸留
フラスコに移し、減圧蒸留して沸点105〜106℃1
0.3簡Hgの留分として目的物36.09を得た。収
率は、60.6%でおった。
し、泥状沈澱物を?戸別し、炉液をビグリュー管側蒸留
フラスコに移し、減圧蒸留して沸点105〜106℃1
0.3簡Hgの留分として目的物36.09を得た。収
率は、60.6%でおった。
比較例 3
(2−メチル−2−アセトニル−1,3−ジオキソラン
−4−イル)メチルアクリレートの製造 実施例3において、重合禁止剤としてp−tert−ブ
チルカテコールに代えてN−フェニル−β−ナフチルア
ミンを同量用いた。他はすべて実施例3と同様にして、
沸点105〜106℃10.3sトIQの留分として目
的物29.CNJを得た。収率は、48.8%であった
。
−4−イル)メチルアクリレートの製造 実施例3において、重合禁止剤としてp−tert−ブ
チルカテコールに代えてN−フェニル−β−ナフチルア
ミンを同量用いた。他はすべて実施例3と同様にして、
沸点105〜106℃10.3sトIQの留分として目
的物29.CNJを得た。収率は、48.8%であった
。
実施例 4
(2−メチル−2−プロピル−1,3−ジオキソラン−
4−イル)メチルメタクリレート(一般式(I)でR2
=CH3、R2=CH3、R3=CH2CH2CH3)
の製造 グリシジルメタクリレート30.4SJ、メチルプロピ
ルケトン192.5g、リン酸24.7g及び重合禁止
剤としてp−tert−ブチルカテコール20myを用
い、実施例1と同様にして反応させた。反応物を実施例
1と同様に処理し、濃縮前に重合禁止剤としてp−te
rt−ブチルカテコール30m1を添加して、濃縮残液
38.057を得た。
4−イル)メチルメタクリレート(一般式(I)でR2
=CH3、R2=CH3、R3=CH2CH2CH3)
の製造 グリシジルメタクリレート30.4SJ、メチルプロピ
ルケトン192.5g、リン酸24.7g及び重合禁止
剤としてp−tert−ブチルカテコール20myを用
い、実施例1と同様にして反応させた。反応物を実施例
1と同様に処理し、濃縮前に重合禁止剤としてp−te
rt−ブチルカテコール30m1を添加して、濃縮残液
38.057を得た。
この濃縮残液をガスクロマトグラフィーで分析したとこ
ろ、目的物の含有量は63.7fflff1%、粗服率
は50.5%でおった。これを、実施例1と同様に精留
し、沸点111〜113°C/2胴ヒ1qの留分として
目的物23.5Vを得た。精製収率は97.1%、収率
は49.1%、純度は98.1%であった。このものは
、’ H−NMRl” C−NMRにより目的物である
ことを確認した。
ろ、目的物の含有量は63.7fflff1%、粗服率
は50.5%でおった。これを、実施例1と同様に精留
し、沸点111〜113°C/2胴ヒ1qの留分として
目的物23.5Vを得た。精製収率は97.1%、収率
は49.1%、純度は98.1%であった。このものは
、’ H−NMRl” C−NMRにより目的物である
ことを確認した。
比較例 4
(2−メチル−2−プロピル−1,3−ジオキソラン−
4−イル)メチルメタクリレートの製造 実施例4において、反応時に添加する重合禁止剤として
p−tert−ブチルカテコールに代えてハイドロキノ
ンを同量用い、又トルエン及び未反応メチルプロピルケ
トンの回収前に添加する重合禁止剤としてp−tert
−ブチルカテコールに代えて塩化第二銅500mg及び
水酸化ナトリウム100mgを用いた以外はすべて実施
例4と同様にして、濃縮残液40.57を得た。
4−イル)メチルメタクリレートの製造 実施例4において、反応時に添加する重合禁止剤として
p−tert−ブチルカテコールに代えてハイドロキノ
ンを同量用い、又トルエン及び未反応メチルプロピルケ
トンの回収前に添加する重合禁止剤としてp−tert
−ブチルカテコールに代えて塩化第二銅500mg及び
水酸化ナトリウム100mgを用いた以外はすべて実施
例4と同様にして、濃縮残液40.57を得た。
この濃縮残液を実施例4と同様に分析したところ、目的
物の含有量は47.6重量%、粗服率は39.5%であ
った。これを、実施例1と同様に精留し、沸点111〜
113°C/2m1−IQの留分として目的物14.5
9を得た。精製収率は75.2%、収率は38.4%、
純度は97.1%でめった。目的物は、実施例4と同様
に同定した。得られた目的物は、昇華した銅のため青色
を呈していた。
物の含有量は47.6重量%、粗服率は39.5%であ
った。これを、実施例1と同様に精留し、沸点111〜
113°C/2m1−IQの留分として目的物14.5
9を得た。精製収率は75.2%、収率は38.4%、
純度は97.1%でめった。目的物は、実施例4と同様
に同定した。得られた目的物は、昇華した銅のため青色
を呈していた。
実施例 5
純度98.5%の(2−メチル−2−アセトニル−1,
3−ジオキソラ>−4−イル)メチルメタクリレート5
0yを褐色瓶に入れ、重合禁止剤としてp−tert−
ブチルカテコール添加、撹拌した。これを、そのまま実
験室内(蛍光燈照明下)で保存したところ、6力月後に
おいても性状に何ら変化がなく、純度も同じでおった。
3−ジオキソラ>−4−イル)メチルメタクリレート5
0yを褐色瓶に入れ、重合禁止剤としてp−tert−
ブチルカテコール添加、撹拌した。これを、そのまま実
験室内(蛍光燈照明下)で保存したところ、6力月後に
おいても性状に何ら変化がなく、純度も同じでおった。
(以 上)
Claims (1)
- (1) p−tert−ブチルカテコールからなること
を特徴とする、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、R^1は水素原子又はメチル基を示す。 R^2及びR^3は同一若しくは異なつて低級アルキル
基を示すか、又は一方が低級アルキル基で他方が▲数式
、化学式、表等があります▼基若しくは ▲数式、化学式、表等があります▼基を示す。] で表わされる1,3−ジオキソラン誘導体の重合禁止剤
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7443086A JPS62230780A (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | 1,3―ジオキソラン誘導体の重合抑制剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7443086A JPS62230780A (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | 1,3―ジオキソラン誘導体の重合抑制剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62230780A true JPS62230780A (ja) | 1987-10-09 |
JPH0415817B2 JPH0415817B2 (ja) | 1992-03-19 |
Family
ID=13546988
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7443086A Granted JPS62230780A (ja) | 1986-03-31 | 1986-03-31 | 1,3―ジオキソラン誘導体の重合抑制剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62230780A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52116301A (en) * | 1976-03-24 | 1977-09-29 | Mitsui Toatsu Chemicals | Photoosensitive resin composition for typographic printing |
-
1986
- 1986-03-31 JP JP7443086A patent/JPS62230780A/ja active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS52116301A (en) * | 1976-03-24 | 1977-09-29 | Mitsui Toatsu Chemicals | Photoosensitive resin composition for typographic printing |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0415817B2 (ja) | 1992-03-19 |
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