JPS62228794A

JPS62228794A - 防音材を兼ねる真空断熱材

Info

Publication number: JPS62228794A
Application number: JP62067847A
Authority: JP
Inventors: 吉村　正男
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1987-03-24
Filing date: 1987-03-24
Publication date: 1987-10-07

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】従来の断熱材では熱の流れを遮断することを目的とした
充填型断熱材では、ガラス繊維、石綿、気泡プラスチッ
ク、岩綿、鉄線、植物性紙、珪酸カルシウム、膨張ノミ
−ライト、其の他。

反射型では普通はアルミ箔、アルミ板、メッキ板、其の
他等で何れも使用する断熱材の熱伝導率により異なるも
、断熱材としては不十分である。

固体物質として誓えば金属、非鉄金属、非金属、窯業原料、特殊窯業製品、窯
業製品、譬えば陶磁器、硝子、セメント製品、れんが、
耐火物、炭素製品、ゴム、人造石、天然石、木材物質、
譬えば新建材１．繊維物質、透明体物質。

本発明は大気圧の外圧に耐えることが必要条件である、
外圧で真空層に、空気の漏れがないことが必要条件であ
る、その使用によっては、外圧を多く受ける場所に使用
の場合は、真空層の二重壁の厚さを外圧に耐えるように
することが、必要条件である。

本発明の要旨本発明の場合防音材を兼ねる真空断熱材は固体物置で複層の気ＶＢ断熱材を造り、固体物質二重壁
の中間の空気層の空気を抜き、真空度、高真空の１０”
−’　Ｔｏｒｒ以上の誦真空にする、七の真空層内に’
２を体吸着Ｗ貿、吸着剤を内蔵し、常時真空ノーの壁よ
り舛放出される気体ガス分子を吸着、集積して気体ガス
分子ｌ１Ｉ−ｕ少させ、圧力を下げ、低圧力にする、真
空度の性Ｍｉ：　１に＋Ｑｉめて、持続して使用ができ
、常時真空ｋが維持され少なくとも簡真窒（Ｄ　１０−
’　Ｔｏｒｒ以上１で完全に真空度が低圧力て持続され
る、その真空ノー内に全放射を防ぐ反射板は、全域では
最高の高反射率の銀（Ａｇ）薄ｌｌＡを反射板の表面に
超、Ｉ２ｂ真空蒸層する、その波長μｍ０．４００〜１
０１０００ｐでの平均分光反射率９８．０１％の縞反射
牟の銀（Ａｇ）　４腺の尚反射板の六回に、水蒸気単分
子の凝結防止と、高反射力物性５ｒ待たせるため、嶋純
匿ダイヤモンド薄膜を＃増した高反射板を真空ノー内の
全方向に取り付けることにより、ｉＩ達放射と天空放射
を官めた全放射による熱伝導を完全に全反射、完全反射
する、そのＸ！２！層内の全方向に高反射を取り付ける
場合、高反射板は真空ノー内壁と高反射板と高反射板が
互に接触しないように、全問に取り付けなければならな
い、高反射板が接触して−ると、接触を通して熱の伝達
かあり断熱性能が低下する、（必要条件）。

以上の記載のようにすることにより、（１）熱伝導＋（
２）全放射の和が、完全なる断熱の本減を完成した、防
音材Ｊｊｔ兼ねる真！２！防熱材で、高温−の１０００
℃でも、也低鑓匿でも、低温度の一１００℃でも、超高
空でも、超航空ＦＢでも、防Ｍ−１完全断熱ができる、
どの場所でも吠用ができる、どの１所でも、本発明の場
合は、Ａ空断熱に便用する真仝ボングが不必要でおり、
七の厄源も不必要でめる、ｒ度＾真空の１０””’　Ｔ
ｏｒｒ以上の簡真仝にすれは、常時Ａ空ポンプが不必要
であり、その゛区陳も富時不必焚でろる、どの場所でも
使用ができる、（位米の場合は富時Ａ空ボンゾで気体分
子を排気して、七の、４ランスで真空［を決めているの
で、常時真空ポンプが必要であり、そのｔ源も常時会費
である、どの場所でも使用ができな−）。

本発明の用途の要旨本発明の防音材分兼ねる真空断熱材の使用の用途は、本発明の真空断熱材の特に好都合の場合冷暖房と、音響
をさえぎるために、外部の音が内ＩＰはいるのを防ぐの
に用いると好都合である、鉄道本物、車輛、船舶、航空
憬、自動車、乗ｇａ類、等に使用することによシ、冷暖
房と防音材を兼ねる真空層「熱材が最適である。

本発明の防音材を兼ねる真空断熱材の其の他の用途ｔｉ蒐出用機械器具冷暖房、乾燥器、極低温冷蔵庫、熱
交侠器、集熱機器、暖冷房−書、温寥、特殊＠６Ｋ、進
気装品、冷蔵庫、各種類のパイプ、！ｋＩＡ築物、建物
備前の各周囲に本発明の防音材を兼ねる真空断熱材を便
用することにより、高温度の１０００℃でも、憔低温度
でも、低温度の一１００℃でも完全に可熱、防音ができ
る、全空日射、直達日射、を含めた全天日射と、直達放
射、天空放射を含めた全放射等の熱伝導による完全なる
断熱、と全放射による熱伝導を完全に全反射、又は完全
反射する、本発明の防音材を兼ねる高真空断熱材である
。

高反射板を取シ付ける場合真空層内壁と高反射板を取シ付ける場合、接触を通して
熱の伝達を少しでもすくなくするため、取り付は金具（
４）を用いて熱の伝達をすくなくする。

防音材に、防音材を兼ねるＸ空断熱材吸音版、防音室、防音壁、防音装置、其の他の防音材に
使用できる、高温度の１０００℃でも、極低温度でも、
低温度の一１００℃でも、完全に断熱、防音ができる、
超航空用にも使用できる、超高空でも、防音、完全断熱
ができる。

完全なる断熱の本質について完全なる断熱の本質は、（１）熱伝導＋（２）直達放射
、　、天空放射を含めた全放射の和が、完全なる断熱の
本質である。

従来の場合は、完全なる断熱の本質の、真空断熱材は完
成していない。

本発明の場合不発明の防音材を兼ねる真空断熱材は、（１）熱伝導と
（２）直達放射、天空放射を言めた全放射を合わせもつ
、断熱の本質を完成した、防音材を兼ねる完全なる真空
−１熱材である。

本発明は、全仝日射、直達日射を含めた全天日射と、直
達放射、天空放射全宮めた全放射等を、合わせもつ、防
音材を兼ねる完全なるＸ聖断熱材で、高温区の１０００
℃でも、極低温度でも、低温度の一１００℃でも、完全
に断熱、防音ができる、どの場所でも本発明の場合の真
空断熱に使用する真空ポンプが不必要であり、そのｔ諒
も不必要である。１度、高真窒の１０””’　Ｔｏｒｒ
以上の高真仝にすれば、常時７ｃ空ボンゾが不必要であ
り、その電源も２時不必要である、どの場ｔａｒでも使
用ができる、（従来の場合は常時真壁ポンプで気体分子
を排気して、そのバランスで真！２度を決めているので
、菖時真空ポンプが必安であり、その電源も常時会費で
ある、どの場所でも使用ができない。

真空層内に内蔵した気体吸屑物質、吸着剤が気体ガス分
子を吸着（物理吸着と化学吸着、触媒、重＊項目である
）集積して真空層内の圧力を下げる、気体ガス分子を減
少するもので、気体吸着物質、吸着剤が、従来の真空ポ
ンプの役目をする結果的になる、本発明の防音材を兼ね
る完全なる真空断熱材は、どの場所でも使用が可能であ
る。

本発明のＪｌｃ仝断熱材に使用する、高反射力物性のあ
る高反射板について１１項目）全放射を防ぐ高反射板は、超高Ｘ空、＠看法による銀（
Ａｇ　）薄膜を作成することにより、金属では最高の高
反射率、低吸収の薄膜が得られる、波長、可視領域、赤
外領域、のμｍ　０．４００〜１０００　ｐｍまでの平
均分光反射率９８．０１優の高反射率低吸収の薄膜が得
られる。その銀（Ａｇ）薄膜の尚反射板の表面に、水蒸
気単分子の凝結防止と、その表面の酸化防止と、高反射
力物性を持たせるため、６）　光学的に比−のな−１高
反射力物性と最高ａ過率のある、高純匪ダイヤモンド薄
膜の最高透Ａ率の薄膜を蒸着することにより、直達放射
、天９放射を廿めた全放射による熱伝導を完全に全反射
、完全反射する、金属では最高の高反射力物性のある高
反射板である。（重要項目）。

（ロ）ＣｆＩ化チクチタンｉｄｅ）又は、チタン醒スト
ロンチウム（ＳｒＴ１０雪）の薄ｇを超高Ｘ空蒸着する
ことＫより、直達放射、天空放射を富めた全放射による
、熱伝導を完全に全反射、完全反射する、金属では最高
の高反射力物性のある高反射板である。（班豐項目）。

不発明の真空層「熱材の真空層内の全方向に為反射板を
取り付ける場合。（必要条件）真空層内の全方向に高反射板を取り付ける場合、高反射
板は真空層内壁と高反射板と間反射板か互に接触しない
ように、空間に取り付けなければならない、高反射板が
接触していると、接触Ｉｊｒ：通して熱の伝達があり、
吃熱性症が低下する、特に注意することは、高反射板の
捨触の具合および、そのり触を通しての熱の伝達である
。（必要条件）不発明に使用する高反射板は、真空層内
の全方向に高反射板を取り付けであるので完全に全放射
を防ぐことができる（従来の場合は１方向で、全方向で
ない）高反射板の反射量も、金属では最高の高反射力物
性のある銀（Ａｇ）薄膜の完全に全反射、完全反射する
高反射板である。

従来の場合の要旨完全なる断熱の本質について完全なる断熱の本質は、（１）熱伝導＋（２）直達放射
、天空放射５ｒ：言めた全放射の和が、完全なる断熱の
本質である。

従来の場合は、完全なる断熱の不買の、Ａ！２断熱材は
完成していない。

従来の場合（熱体４）従来の場合の熱伝導のみ防止する断熱材従来の場合の熱
伝導のみ防止する断熱材もあるも、完全なる〜ｆ熱は殆
ど不可症である、熱伝導は、気体ＩＩｍ、２１２気虐、
固体ｑ！！Ｊ負、周囲、全仝日射、直通日射、を言めた
全天日射、等からの熱伝導があり、断熱性能が低下し、
従来の場合の熱伝導による完全なる断熱は殆ど不可症で
ある、その使用にあたっては、真空断熱する場合、少な
くともＸ空度は高真空の１０−４Ｔｏｒｒ以上に真空度
を高めなければ真空断熱は不可能である、その高真空の
１０ｉＴｏｒｒ　　以上に真空ｉを昼めれば、真空層壁
より気体ガス分子の再放出があり、真空層の真空度を劣
化しているため、一方では常時真空ポンプで排気して、
そのノ々ランスで、真空度を少なくとも高真空の１０−
’　Ｔｏｒｒ以上に真空ｋを決めている現状である、そ
の関真窒のＩ　Ｆ’　Ｔｏｒｒｌで常時高めなければ断
熱効果が侍らｎないもので、従来の場合の＾空彫ｆ熱は
真空ポンプが必安である、その電源の無い場所では使用
が不可能である。

本発明の場合は、真？！曲熱に使用する真空ポンプは不
必要であり、その電源も不必要である。

従来の場合の反射板従来の場合の全放射による熱体２４ヲ、１１ｔ１１１面
で考える場曾、その側面の反射板の１ＸＦ−面方向（そ
の平面の縦方向、横方向、の全放射の欠陥）のみの反射
板では、全放射による熱伝導を完全に断熱することｔ１
殆と不ｉ工ｈヒである、（本発明の場合は、真空層内の
全方間に尚反射板ｔ−取り付けであるので全反射、光全
反射する。）その、ｌｖ１伝導は、気体層、ｑ気ノー、
固体＋９１Ｊ質、周囲、直達放射、天空放射を廿めた全
放射、等からの熱伝導があり、断熱性能が低下し、従来
の場合の全放射の熱伝導による完全なる断熱は殆ど不可
能である、七の反射板の使用にあたっては％気体層、空
気層で使用中に接触しているため表面の酸化も早く、そ
の反射板の表向に水蒸気単分子層のｏｋ紹し、その表面
が酸化して、反射板の反射率が低下する、放射を防ぐ反
射板の表面の仕上置台が、ｗＴ熱注能にａ当利いてくる
もので、放射を防ぐ反射板の断熱性が低下し、反射率の
低い上に表面が酸化して反射率が低下して放射による断
熱が不ｏＴ＃＋’＠になる。

惑い反射例の１例Ｊ４ｅ窒ノーのＶ−３開に取り付けた反射板でも、使用
中に、その反射板の表面に水蒸気単分子ノ＝の綴帖し、
その表面が酸化して、反射板の反射率が低下する、放射
τ防ぐ反射板の閘ＰＡ性が次第に低下し、全放射による
断熱が不５０ｉ！になる。（反射板の表面の酸化を防止
することが京安項目でるる。）従来の場合の反射板アルミニウム（ＡＩ）の反射板の場合アルミニウム（ＡＩ　）の反射、板の場合、ｔ＆長、可
視領域〜赤外領域の０．４３１ｐｍ〜１．０６０μｍま
での平均反射率ｒｉ７５．４６’ｌの低反射率である、
従来の場合の、メッキでの表向仕上、アルミニウム箔、
＾空蒸着の表面、スペッタリングの表面、イオンプレー
テングの次面、アルミ板の表面仕上等を真空層内で使用
中に、その反射面の表面が水蒸気単分子層の凝結し、そ
の表面が酸化して、反射板の反射率が低下し、全放射に
よるル「熱性能が低下し、全放射によるＮ「熱が不可能
になる。

吸着の実際において、物理成層と化学吸着を明確に区別するのか難しい場合が
往々にしである、（胤子の憔端なｌｅ動は、１区子の共
イｔと区別できなＸ１カ・ら）＠埋吸着ノーが化学吸着
ノーの上に形成され九り、同時に両方の吸着が混合して
起こることがめる、活性炭を実際に応用すると、はとん
どの場合、内形式の吸着が混合して起こることがある。

本発明の名称の省略本発明の、防音材を兼ねる真空断熱材を、以後真空断熱
材と省略する。

真空断熱について真空断熱する場合少なくとも真空度は高真空の１０−’
　Ｔｏｒｒ以上に真空度を高めなければ、真空断熱は不
可能である、その高真空の１０−’　Ｔｏｒｒ以上に真
空度を高めれば、真空層の壁よシ気体ガス分子の再放出
があり、従来の真空断熱の真空層のみの場合（真空ポン
プ無し）真空容器の壁より気体ガス分子の再放出があり
、真空度を劣化し、従来の真空断熱は不可能である。

以下の記述は真空断熱の場合少なくとも、真空度は高真
空１０＝　Ｔｏｒｒ以上に真空度を高めた場合の記述で
ある。

従来の真空断熱の真空層において従来の真空断熱の真空層の場合において、たとえば、真
空容器の壁から吸収ガス分子の放出がある、ガス放出は
壁から長時間にわたって、常時壁から吸収ガス分子が放
出されている、吸収ガス分子放出は、真空容器の壁の鋼
材料の内部に含まれているガス分子のことで、たとえば
、硝子、又は鋼材料などは、製造過程で大量のガス分子
を吸収した鋼材料であるので、真空容器の壁になってか
ら、逆に壁より長時間にわたって、常時壁よシ真空容器
の真空層内に、吸収ガス分子が再放出されている、又吸
収ガス分子の総Ｉ・は吸着ガス分子よりは和尚に多い。

以上のことから壁には気体ガス分子と同じ種類のガス分
子が多数吸着され、吸収されている、ガス分子は一定の
確率で長時間にわたって、真空層内に再放出され再び気
体ガス分子の仲間入りして、真空容器内の真空層の真空
度を劣化している、従って従来の真空断熱の真空Ｉ−は
真空ポンプで排気してバルブを閉じておけば、真空を維
持できるものでは、ない現状である。

従って従来の真空断熱の真空ノーのみの場合（真空ポン
プ無しの場合）では常時壁より再放出気体ガス分子が、
真空層の真空度を劣化している、真空度が少なくとも、
高真空の１０−’　Ｔｏｒｒ以上に常時持続できないの
で、従来の真空断熱の真空層のみの真空断熱は不可能で
ある。

真空というものは、真空ポンプで排気して、・々ルブを
閉しておけば、いつまでも真空が維持できるというもの
ではない、Ｘ空容器の真空ｊ〜の壁から常時吸収ガス分
子の再放出があシ、一方では常時真空インプで排気して
いて、そのバランスで真空度を決めている現状である。

真空断熱の場合は、少なくとも真空度、高真空の１０−
’　Ｔｏｒｒまで真空度を高めなければ、断熱効果が得
られないので、真空断熱は不可能である。

本発明の真空断熱材の真空層について真空容器の真空ノーの檄には気体ガス分子と同じ種類の
ガス分子が多数吸着され、吸収されている、気体ガス分
子は一定の確率で長時間にわたって真空層内に再放出さ
れ再び気体ガス分子の仲間入りして、真空容器内の真空
層の真空度を劣化している。

本発明は真空層内に、気体吸着物質、吸着剤を内蔵して
常時壁から再放出される気体ガス分子を気体吸着物質、
吸着剤が常時その気体ガス分子を吸着、集積して低圧力
にし、完全に真空度が常時持続され少なくとも市真空の
１０−’Ｔｏｒｒ以上まで低圧力で持続される。

常時真空容器の壁から吸着ガス分子、吸収ガス分子が再
放出されて、真空度を劣化しているので、本発明は真空
層内に気体吸着物質、吸着剤を内蔵して、常時気体ガス
分子を吸着、集積して気体ガス分子を減少させて、圧力
を下げて、低圧力にする、真空度の性能を都めて、持続
して使用ができ、常時真空度が維持され少なくとも高真
空の１０””Ｔｏｒｒ以上゛まで、完全にＸ空反が低圧
力で持続される本発明の真空断熱材である。

従来は常ＫＸ空ポンプで、気体ガス分子を排気して、そ
の・々ランスで真空度を決めているが。

本発明は真空層内の気体吸着物質、吸着剤が、その気体
ガス分子を吸着、集積して低圧力にしている、言ひ換へ
れば、両者（真空ポンプと気体吸着物質、吸着剤）は低
圧力に関しては同等の効果がある、従来の真空ポンプの
代わりを、本発明の気体吸着物質、吸着剤がすることに
なる。

従来の真空断熱の真空層のみの（真空ポンプ無しの場合
）場合、真空層の壁より常時再放出されている気体ガス
分子が真空層の真空ｅを劣化している、真空度が少なく
とも＾真空の１０−’　Ｔｏｒｒ以上に常時持続できな
いので、従来の真空層のみの真空断熱は不可能である。

真空断熱する場合は、真空層の真空度を少なくとも話真
空の１０−’　Ｔｏｒｒ以上まで真空度が常時持続でき
なければ、真空断熱は不可能である。

本発明の真を断熱材の真空層は、真空層内に内蔵された
気体吸着物質、吸着剤が（気体吸着物質、吸着剤が、真
空ポンプの役目をする結果的になる）真空層の壁より常
時再放出している気体ガス分子を、気体吸着物質、吸着
剤が常時その気体ガス分子を吸着、集積して気体ガス分
子を減少しているので、低圧力になり真空度が少なくと
も高真空の１０−’　Ｔｏｒｒ以上に常時持続している
ので、本発明の真空断熱材の真空層は真空断熱は可能で
ある。

従来の断熱について断熱の本質Ｆ′ｉ、熱伝導と放射を減すという一飴につ
きる、つまり（１）熱伝導による断熱、（２）放射によ
る断熱ということになる。

従来の場合の放射を防ぐ（断熱）反射板について従来の場合の放射を防ぐ反射板の表面の仕上げ度合が断
熱性能に相当利いてぐる、その反射板の表面を研摩、メ
ッキで表面仕上、アルミニウム箔、真空蒸着の表面、ス
パッタリングの表面、イオンプレーテングの表面、アル
ミ板の表面仕上、等を気体層、空気層内で使用中に１そ
の反射板の表面が水蒸気単分子層の凝結し、その表面が
酸化して、反射板の反射率が低下し、放射による断熱性
能が低下し、放射による断熱か不可能になる。

従来の反射板の研摩表面従来の研摩によって反射板の表面（金属の表面）を仕上
げる場合には、どうしても表面に数１０ｎｎの凹凸が残
るので、光学定数と異る加工層であり、その金属研摩の
まま反射板に使用しても低い反射率である。

従来の反射板の表面に金属の薄膜を蒸着する場合。

従来の反射板の表面に、スパッタリング法、イオンシレ
ーティング法、金属の薄膜蒸着の場合はその共通の問題
は陽極と基板の温度上昇と基板上の薄膜の厚さが不均一
になる、又薄膜組成比が元と変わる可能性がある、薄膜
の形成される速度が大きくできない、ので高い反射率に
ならない。

従来の場合の放射による熱伝導を防ぐ（断熱）反射板に
ついて断熱の本質は熱伝導と放射を減すという一語につきる、
従来の反射板は空気層、固体物質、気体層と周囲から反
射板に対し熱伝導があり、断熱性能が相当に低下してい
る、従来の場合熱伝導による断熱が一切考慮されていな
い。

従来の場合の反射板の表面反射率放射による熱伝導を防ぐ（断熱）場合は、最良の方法は
、反射板の表面を高反射率、低吸収にすれば、放射によ
る熱伝導を完全に全反射、完全反射することができる、
従来の場合の反射板の場合、たとえば、アルミニウム（
ＡＩ）の反射板の場合、波長、可視領域〜赤外領域のα
４３１μｍ−ＬＯ６０μｍ″！！、での平均反射率は７
５．４６％の低反射率であり、放射による断熱性能は相
当に低い、又アルミニウム箔、アルミニウム（ＡＩ）反
射板を気体ノー又は空気層内で使用中に１その反射板の
表面が水蒸気単分子層の凝結し、その表面が酸化して、
反射率が低下し、放射による断熱性能が低下し、放射に
よる断熱が不可能になる。

従来の熱伝導による断熱について放射による断熱２０幅〜５０％の断熱で、効果も低く、
熱伝導による断熱は、気体ｌ−１空気層、固体物質、周
囲からの熱伝導による断熱は一切考慮されていないので
、従来の場合熱伝導による断熱は殆ど不可能に近い。

本発明に使用する放射を防ぐ反射板について反射＆を取
り付ける場合真空層内に反射板をｉｆ１！シ付ける場合、反射板は７
（、生着内壁と反射板と反射板が互に接触しないように
、空間に取ｐ付けなければならない、反射板が接触して
いると、接触を通して熱の伝達があり、断熱性能が低下
する、断熱の本質は熱伝導と放射を減すという一語につ
きる、つまＦ）　（１）熱伝導による断熱、（２）放射
による断熱とに分けられる、特に注意することは、反射
板の接触の具合および、その接触を通して熱の伝達であ
る。

完全なる断熱の本質は、（１）余生日射、直達日射を含
めた全天日射の熱伝導と、＋（２）直達放射、天空放射
を含めた全放射の和が完全なる断熱の本質である。

本発明は、（１）余生日射、直達日射を含めた全天日射
の熱伝導、＋（２）直達放射、天空放射を含めた全放射
等の熱伝導を完全に全反射、完全に反射する真空断熱材
である。

その真空層内に全放射を防ぐ反射板は、金属では最高の
高反射率、低吸収の銀（Ａｇ）その波長μｍ０．４００
〜１０００μｍまでの平均分光反射率９８．０１％の薄
膜を反射板の表面に超高真空蒸着する、その表面に酸化
防止と比類のない高反射力物性と、最高透過率と、電気
的に絶縁体である、ダイヤモンド気相合成薄膜を蒸着し
た高反射板を、真空層内に全方向（全方位角の方向省略
）に取り付ける場合、取υ付は金具（４）を用いて接触
を通して熱の伝達を少しでもすくなくする、全天日射の
熱伝導と全放射等の熱伝導を完全に全反射、完全に反射
する真空断熱材である。

本発明に使用する放射を防ぐ（断熱）反射板について従来の放射による熱伝導を防ぐ（断熱）反射板の表面の
仕上度合と、その表面に水蒸気単分子の凝結し、その表
面が酸化して、放射による断熱性能が低下し、断熱が不
可能になる。

そこで放射による熱伝導を防ぐ、最良の方法は、反射板
の表面を酸化防止した高反射率、低吸収の薄膜を作成す
れば、放射による熱伝導を完全に、全反射、又は完全反
射することができる。

本発明に使用する放射を防ぐ反射板は、超高真空蒸着法
による銀（Ａｇ）薄膜を作成することによシ、金属では
最高の高反射率、低吸収の薄膜が得られる、波長、可視
領域〜赤外領域のμｍ０．４００〜１．０００μｍまで
の平均分光反射率９＆ｏ１％の高反射率、低吸収の薄膜
が得られる。その銀（Ａ＋ｒ）薄膜の反射板の表面に水
蒸気単分子層の凝結防止と、その表面の酸化防止のため
、透明の結晶物質の薄膜を超高真空蒸着する。

銀（Ａｇ　）薄膜は平均分光反射率ｇａｏｔ％の金属で
は最高の高反射率、低吸収の薄膜を超高真空蒸着するこ
とにより、銀（Ａｇ　）薄膜の反射板の表面を酸化防止
し、その銀（Ａｇ）薄膜の反射板の表面が常時変質する
ことなく、高反射率、低吸収の薄膜が持続して、使用が
維持されて、酸化を防止した銀（Ａｇ）反射板として、
放射による熱伝導を完全に全反射、完全反射する、本発
明に使用する酸化を防止した釧（Ａｇ　）薄膜の高反射
板である。

放射による熱伝導に関しては、反射板の表面の仕上の度
合の良否が断熱性能に相当影響する。

本発明の反射板に使用する、超高真空蒸着法は、超高真
空中で急速に蒸着を行うととＫよって、反射率の高い薄
膜が得られる、その反射率は通常同じ金属の表面、同じ
非鉄金属の表面、同じ賃金属の表面、研摩面、真空蒸着
面、スパッタリング法とイオンブレーティング法、等で
作成した薄膜面の反射率よりも、本発明に使用する超高
真空蒸着法が反射率が高い。

本発明の反射板に蒸着する、超高真空蒸着法。

超高真空中（１Ｇ−’Ｔｏｒｒ以上）で蒸着すれば、酸
化、吸着の問題も相当程ｆ：まで回避することができる
、そして微結晶の形、大きさ、配列状態、膜厚、下地の
温度、蒸着速度、残留気体の種類と圧力などによって大
幅に変わる、高反射率、低吸収の金属膜を得るＫは、超
高真空（１Ｇ””　Ｔｏｒｒ以上）Ｋ上げ、蒸着速度を
大きくシ、純度の高い蒸発材料を使う。

本発明に使いる超高真空蒸着法で、反射板の表面に銀（
Ａｇ　）薄膜を作成するととＫよシ平均分光反射率９＆
０１％の高反射率、低吸収の薄膜が得られる、金属では
、超高真空蒸着法による釧（Ａｇ　）薄膜が最高の高反
射率、低吸収の薄膜が得られる。

従来の金属の反射率（％）比較のため記載μｍ　　　　
　　Ａｇ　　　　　　　μｍ　　　　　　ＡＩｏ、３９
５　　　８７．１　　　　　０．４３１　　　７２．３
０．４５０　　　９１．？　　　　　　α４８６　　　
７１８α５０Ｇ　　　　９３．２　　　　　０．５２７
　　　７４４α５５０　　　９４．２　　　　　α５ｇ
９　　　７７．６０．７００　　　９６．１　　　　　
　（ＬａＢ５　　　１１４ＬＱ　Ｏ０９［４１Ｏ６Ｇ　
　　　？　！３平均　　　９ふ１１　　　平均　　　７
＆４６従来の銀（Ａ＋ｒ　）と、アルミニウム（ＡＩ）
反射率の比較。

従来の鋏（Ａｇ　）の反射率の平均は、９ｇ１１％。

従来のアルミニウム（ＡＩ）の反射率の平均は、７５．
４６％である。

平均反射率の比較のため記載従来の場合の銀（Ａｇ）可視領域〜赤外領域の波長０．
３９５μｍ〜１．０ＯＱμｍまでの、平均反射率はｓ：
ｔｔｔ４、百分率、硝子の表面反射損失４係であり、そ
の銀（Ａｇ　）の表面に硝子を蒸着した後の場合は、平
均反射率、８９．１１％である。

従来の場合のアルミニウム（ＡＩ）可視領域〜赤外領域
の０．４３１μｍ〜１．０６０μｍまでの、平均反射率
は７１４６％、そのアルミニウムの表面に硝子を蒸着し
た後の場合は、平均反射率７ｘ、４ａ％であシ、そのア
ルミニウムの表面のみの場合で、平均反射率は７５．４
６％である。（後日表面が酸化する）本発明に用いる超
高真空蒸着して作成した反射板の表面銀（Ａｇ　）薄膜
の分光反射率、波長可視領域〜赤外領域の０．４００〜
ｔｏｏｏμｍまでの平均分光反射率９＆０１％で、金属
では最高の銀（Ａｇ）＊膜の高反射板である。

（１）その表面に酸化防止と、比類のない反射刃物性の
高純度ダイヤモンド薄膜の高透過率の薄膜を蒸着するこ
とにより、放射による熱伝導を完全に、全反射、完全反
射する高純度ダイヤモンドの高反射力物性のある渡銀（
Ａｇ　）薄膜の高反射板である。

（２）その最高の銀（Ａｇ　）薄膜平均分光反射率９＆
Ｏ１％の反射板の表面に、酸化防止と、高反射力物性の
ある透明の結晶物質、（Ｔｉｌｔ　）酸化チタン、又は
（５ｒＴｉＯｓ　）チタン酸ストロンチウム、単結晶が
宝石、（模造ダイヤモンＰ）として利用されている、そ
の薄膜を蒸着することにより、放射による熱伝導を完全
に、全反射、完全反射する、高反射力物性のある渡銀（
Ａｇ　）薄膜の高反射板である。

（３）その最高の銀（Ａｇ）薄膜平均分光反射率９＆０
１％の反射板の表面に、酸化防止と、薄膜の表面反射損
失の少ない、透明のイオン結晶物質、フッ化ナトリウム
（ＮａＦ　）、薄膜の表面反射損失１．６％（百分率）
の薄膜を蒸着する、その蒸着後の平均分光反射率はｇ　
ａｓ　ｏ％であり、完全反射に近い高反射板である、放
射による熱伝導を防ぐ、金属では最高の渡銀（Ａｇ　）
薄膜の高反射板である。

反射板の表面に、超高真空蒸着法における、銀（Ａｇ　
）薄膜と超高真空蒸着法におけるアルミニウム（ＡＩ）
薄膜等の分光反射率の比較のため記載。

下記の超高真空蒸着法は超高真空中（１Ｇ−”Ｔｏｒｒ
以上）で急速に蒸着を行った種種の波長（μｍ）の光が
垂直に投射した場合の分光反射率、百分率（％）である
。

波長ｊａｍα４００　　Ａｇ９４．８　　　Ａｌ９２．
４波長μｍα４５０　　Ａｇ９６．６　　　Ａｌ９２．
２波長ｐｍα５００　λｇ９７．７　　　Ａ１９Ｌ８波
長μｍＱ、５５０　　Ａｇ９７．９　　　人１９Ｌ６波
長μｍＧ、６００　　Ａｇ９＆Ｉ　　　Ａ１９Ｌ１波長
／Ｊｍ０．６５０　　Ａｇ９＆３　　　Ａ１９０．３波
長μｍＯ，７ＯＯＡｇ９＆５　　　Ａ１８９．９波長μ
ｍα７５０　　Ａｇ９＆６　　　人１８＆０波長μｍ０
．８００　　ムｇ９＆６　　　Ａｔ５ａ、ａ波長ｐｍα
８５０　　Ａ［９＆７　　　Ａｌ８５．８波長μｍα９
００　人ｇ９＆７　　　ＡｌＳ＆９波長μｍＧ、９５０
　　Ａｇ９＆８　　　　Ａ１９１．８波長ＡｍＬＯＯＯ
Ａｇ９＆９　　　人１９＆９平均　　９＆０１　９０．
０３銀（Ａｇ）薄膜と、アルミニウム（人１）薄膜の可視領
域〜赤外領域までの（波長μｍα４００〜Ｌ０００μｍ
）分光反射率、平均の比較。

本発明の超高真空蒸着して作成した反射板の表面銀（Ａ
ｇ）薄膜の分光反射率波長０．４００〜１．０００まで
の平均分光反射率９　Ａ０１％である。

超高真空蒸着して作成した反射板の表面アルミニウム（
ＡＩ）薄膜の分光反射率、波長α４０Ｇ〜１．０００ま
での平均ｔ１９０．０３％である。

以上の反射板の表面銀（Ａｔ）’薄膜と反射板の表面ア
ルミニウム（ＡＩ）薄膜等を比較してみると、可視領域
、赤外領域、において（波長μｍ　０．４００〜ＬＯ０
０）反射板の表面銀（Ａｇ　）薄膜平均分光反射率が９
Ａ０１％の、高反射率、低吸収の薄膜が得られることが
よくわかる。

金属では鋏（Ａｇ）薄膜の反射板は、可視領域〜赤外領
域で最高の高反射率、低吸収の薄膜である、その＠　（
Ａｇ　）薄膜の超高真空蒸着の反射板を本発明の反射板
に用いる。

（１）本発明に使用する放射を防ぐ反射板第１実施例反射板にたとえば、超高真空蒸着法による渡銀（Ａｇ）
シた高反射率、低吸収の平均分光反射率１Ｌ０１％の薄
膜を反射板に蒸着し、その表面に酸化防止と、比類のな
い高反射力物性、表面電高硬度をだすため、透明の結晶
物質の薄膜を反射板の表面に、蒸着する、透明の結晶物
質の薄膜は光の透過率の最も良い結晶物質、比類のない
反射刃物性、最高硬度の気相合成ダイヤモンド薄膜を反
射板に蒸着する。

超高真空蒸着法による製鉄（Ａｇ）した高反射率、低吸
収の平均分光反射率９＆０１％の薄膜を反射板に蒸着し
、その表面に酸化防止するため、透明の結晶物質の気相
合成薄膜状の高純度ダイヤモンド合成剤膜を反射板に蒸
着する、光の透過率が全波長の広い領域までの光の透過
率が優れている、このような透過率を示す物質はほかに
ない、ダイヤモンドは新モース硬度１５で最も堅硬な物
質であシ、地球上の固体物質中で最高の硬さで、電気的
に絶縁体であり、むしろその光学的性質にある、比類の
ない反射刃物性があり、本発明の反射板に用いているの
で最適である、資源探査衛星のリモートセーシング装置
のレンズ、としても利用されている。

高純度ダイヤモンド薄膜低圧領域の気相合成ダイヤモンＰ薄膜は清浄な雰囲気中
で結晶を育成することができるため、窒素の含有量の微
量は、高純度ダイヤモンドを合成することが可能である
、気相合成は膜状ダイヤモンドの合成、不純物のドープ
に適した合成法である。

本発明に使用する放射を防ぐ、反射板は超高真空蒸着法
による製鉄（Ａｇ　）薄膜を作成することにより、平均
分光反射率ｇａｏ１ｑｂの金属では最高の高反射率、低
吸収の薄膜が得られる、その製鉄（Ａｇ　）薄膜の反射
板の表面に、酸化防止と、比類のない反射刃物性の高純
度ダイヤモンド薄膜の高透過率の薄膜を蒸着することに
よシ、放射による熱伝導を完全に１全反射、完全反射す
る、高純度ダイヤモンドの高反射力物性のある製鉄（Ａ
ｇ）薄膜の高反射板である。

（２）本発明に使用する放射を防ぐ反射板第２実施例反射板に超高真空蒸着法による製鉄（Ａｇ）薄膜の高反
射率、低吸収の平均分光反射率９＆０１％の薄膜を反射
板に蒸着し、その表面に酸化防止と、高反射力物性、表
面高硬度をだすため、透明の結晶物質の薄膜を反射板の
表面に蒸着する、透明の結晶物質の薄膜は、たとえば、
チタン酸ストロンチウム（５ｒＴｉＯｓ　）光の透過率
０．３９〜６．８１１ｍ、高反射力物性のある製鉄（Ａ
ｇ　）薄膜の反射板である。

透明の結晶物質として（イ）チタン酸ストロンチウム（５ｒＴｉＯｓ　）光の
透過率Ｑ、３９〜６．８μｍ１高反射力物性、表面高硬
度の薄膜を反射板に蒸着する。

（ロ）酸化チタン（ＴＩＯり光の透過率α４３〜７．０
μｍ１高反射力物性、表面高硬度の＊ａを反射板に蒸着
する。

’ｒｉｏｔと５ｒＴｉ０３は高反射力物性、高硬度物性
の応用として、ＴｌＯ２、ルチル単結晶が宝石、（模造
ダイヤモンｒ）として利用されている、又多種類のルチ
ル系人造宝石としても利用されている、同じ＜　、Ｓｒ
ＴｉＯ３は、チタン酸ストロンチウム、人造宝石として
、多種類の人造宝石として利用されている。

本発明に使用する放射を防ぐ、反射板は超高真空蒸着法
による製鉄（Ａｇ）薄膜を作成することにより、平均分
光反射率９＆０１％の金属では最高の高反射率、低吸収
の薄膜が得られる、その製鉄（Ａｇ　）薄膜の反射板の
表面に、酸化防止と、高反射力物性、表面高硬度をたす
ため、透明の結晶物質、Ｔｉｅ、又は５ｉＴｉＯｓの薄
膜を蒸着することＫより、放射による熱伝導を完全に１
全反射、完全反射する、高反射力物性のある製鉄（Ａｇ
　）薄膜の高反射板である。

（３）本発明に使用する放射を防ぐ反射板第３実施例反射板にたとえば、超高真空蒸着法による製鉄（Ａｇ　
）薄膜の平均分光反射率９＆０１％の高反射率、低吸収
の簿膜を反射板に蒸着し、その表面に阪化防止と、薄膜
の表面反射損失の少ない、透明の結晶物質、たとえば、
透明のイオン結晶物質の薄膜を反射板に蒸着する、透明
のイオン結晶物質の薄膜は透明の表面反射損失が少ない
、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）光の透過率、０．１４〜
１５μｍ１薄膜の表面反射損失１．６％（４μｍ）のイ
オン結晶物質。

イオン結晶物質として表面反射損失の少ない、透明のイオン結晶物質は、たと
えば、（イ）フッ化ナトリウム（ＮａＦ）光透過範囲０．１４
〜１５μｍ１薄膜の表面反射損失１．６％（４μｍ）百
分率。

（ロ）フッ化リチウム（ＬｉＦ）０．１１〜９μｍ１　
薄膜表面反射損２２％（４μｍ）。

本発明に使用する超高真空蒸着法での超高真空中で急速
に蒸着した銀（Ａｇ　）薄膜表面の分光反射率、波長、
０．４００　Ａｍ−ＬＯＯＯｐｍの可視領域〜赤外領域
における分光反射率の平均は、９１１０１％（百分率）
であシ、その表面に酸化防止と、薄膜の表面反射損失の
少ない、透明のイオン結晶物質の薄膜を蒸着する、その
反射損失の少ない透明のイオン結晶物質の、たとえば、
フッ化ナトリウム（ＮａＦ）光の透過率、０．１４〜１
５　μｍ１１．　　薄膜の表面反射損失Ｌ６％（百分率
）の薄膜を蒸着する、その蒸着後の平均分光反射率は９
６．５０％で、金属では最高の高反射率の１Ｌ５０％は
完全反射に近いので、放射による熱伝導を完全に防ぐ、
金属では最高の製鉄（Ａｇ）薄膜の高反射板である。

気体吸着物質、吸着剤、について本発明の真空断熱材に用いる気体吸着物質、吸着剤とし
て。

気体吸着物質、吸着剤、として、たとえば。

活性炭、シリカゲル、アルミナゲル、合成ゼオライト、
活性アルξす、混合吸着剤、等を用途によ！ｌ１選択し
て使用する。

各種の、気体吸着物質、吸着剤を記述する。

活性炭活性炭は多彩な機能をもっている、その機能をいくつか
を組み合せて利用すると、新しい用途が開発できる、活
性炭の吸着力を利用する機能に従って用途別に大別する
。

（１）いくつかの成分が混合して多成分から、ある成分
を活性炭によって吸着する。

（２）活性炭の多孔性構造を利用。

（３）有毒ガスの吸着、悪臭の防除。

活性炭との混合吸着剤各種類の気体分子の吸着、乾燥に使用する本の（１）活
性炭とシリカゲルの混合物質（２）活性炭と１部塩化カルシウムを吸着させて、１０
０℃に乾燥して使用すれば、シリカゲルの、３〜４倍の
効力がある。

（３）金属酸化物ゲル同士、又は、シリカゲルの混合物
質。

（４）天然ゼオライトと活性炭の２種類の吸着剤、この
外に３〜４種吸着剤の混合物質。

活性炭の気体分子吸着比較的灰分の少ない、ミクロ孔が発達した高品位活性炭
で、細孔径分布が二分散のものが用いられる、植物質出
発原料たとえば、ヤシから、パームヤシ核などの破砕活
性炭、木炭、素炭、用いる。

気体分子、の吸着、乾燥、脱臭、特殊な気体分子の吸着
、は粒状活性炭による物理吸着のほかに、化学薬品添着
（浸漬）活性炭、金属添着担持活性炭、等の化学吸着し
たものがよい。

活性炭はいくらか表面極性をもっている、活性炭は分子
量の大きい飽和化合物を吸着する傾向が大きい、又気体
分子類のベンゼンなどの炭化水素を吸着するには活性炭
が適している。

各種類の気体分子の吸着、乾燥に使用するもの、シリカ
ゲル、合成ゼオライトは水分に対する親和力が大きいの
で、主として気体分子用に用いる。

合成ゼオライト、活性炭１０対？混合による吸着操作で
、不純物濃度１　ｐｐｍ　（１００万分ｌ）〜１　ｐｐ
ｂ　（ｌｏ億分ｌ）にすることができる。

吸着剤に化学処理を加えて合成したもの天然に産する鉱
物に高度の化学的処理を加えて合成したものは、比較に
ならないはど優れている。

合成ゼオライトの細孔構造は、いわゆるインクぎシト形
空洞を形成し、この空洞内表面で吸着が行なわれる、そ
れに対し吸着剤の細孔構造は、トンネル形又はシリンダ
ー形の孔路を形成しておりこの表面に吸着が行なわれる
。

合成ゼオライトは、脱湿作用および極性効果において、
シリカゲル、アルミナゲル、よりはるかく強力である、
と〈Ｋ関係湿度０〜２０％における脱湿作用が他のもの
に比べて非常に大きく、吸湿強度が大きく、かつ耐熱性
にも優れている、比較的高温度においても気体分子の脱
湿が行なえる唯一の吸着剤である。

合成ゼオライトは、分子ふるい効果、気体分子の包蔵特
性がある、特殊な気体分子を吸着する性質がある（悪臭
除去）気体の分離、放射性廃水の処理、硬水の軟化、等
の特殊な性能をもっている。

気体中の、二酸化炭素、窒素、酸素、アルゴン、エタン
、エチレン、特殊な気体分子の吸着、悪臭、等の各種ガ
ス分子を、合成ゼオライト、の混合による吸着操作で除
去する、不純物濃度１　ｐｐｍ、（１００万分ｌ）〜１
　ｐｐｂ（１ｏ億分ｌ）することができる。

吸着剤と触媒吸着剤と触媒の区別は厳密なものではなく、多くの場合
、多くの吸着剤は触媒性をもち、触媒または触媒担体と
して工業的に広く使用されている。

吸着現象は、固体触媒作用を理解するのに最も重要で、
固体触媒が原料ガス、または、生成ガスと吸着現象とく
に化学吸着によって相互作用するためで、この相互作用
が非常に重要である。

吸着剤と触媒の大きな相違点は、物理吸着と化学吸着に
基づく固体表面上における吸着物質の滞留時間で、吸着
剤の場合比較的微量成分の吸着除去で、吸着物質は固体
表面上に比較的低温度で物理吸着され、比較的長時間、
固体表面上に滞留する、触媒の場合、反応物質は固体表
面上に比較的高温度で化学吸着され、不安定な中間化合
物をつくって化学反応速度を促進するが、反応生成物は
反応温度において固体表面上に比較的短時間滞在して脱
着する。

低温度の零下３０℃以下の場合の吸着剤シリカゲル、ア
ルミナゲル、合成ゼオライト、などの無機質合成吸着剤
を使用する。

【図面の簡単な説明】

下記は防音材を兼ねる真空断熱材の図面である第１図は
、平面図第２図は、Ａ−Ａ横断面図第３図は、Ｂ−Ｂ縦断面図第４図は一取シ付は金具第５図は、１部分の拡大図面第６図は、反射板（小）３、の拡大断面図第７図は、反
射板（犬）２、の拡大断面図１、は、真空層壁２、は、反射板（大）２、表面に銀薄膜を超高真空蒸着
し、その表面にダイヤモンド気相合成薄膜を蒸着する３、は、反射板（小）３、表面に銀薄膜を超高真空蒸着
し、その表面にダイヤモンド気相合成薄膜を蒸着する４、は、取り付は金具５、は、銀薄膜で、反射板の表面に蒸着する６、は、ダ
イヤモンド気相合成薄膜で、銀薄膜の表面に蒸着する。警１図

Claims

【特許請求の範囲】

固体物質で複層の気密断熱材を造り、固体物質二重壁中
間の空気層の空気を抜き、真空にする、気体による熱伝
導が圧力に関係する、圧力の減少は気体の熱伝導を少な
くする真空断熱法である、空気による熱伝導を防ぎ、真
空度の性能を高めるため真空層内に気体吸着物質を入れ
、真空層内に全放射を防ぐため反射板を全方位角の方向
（全方向）に取り付ける、その反射板の表面は、高反射
率、低吸収の銀（Ａｇ）薄膜を超高真空蒸着し、その銀
薄膜の表面に酸化防止と比類のない高反射力物性と高透
過率のある高純度ダイヤモンド気相合成薄膜を蒸着する
ことにより、気体の熱伝導、全放射による熱伝導を防ぐ
もので、完全に全反射する真空断熱法を用いた、固体物
質複層の防音材を兼ねる真空断熱材である。