JPS62226441A - 情報記録媒体 - Google Patents
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- JPS62226441A JPS62226441A JP61069071A JP6907186A JPS62226441A JP S62226441 A JPS62226441 A JP S62226441A JP 61069071 A JP61069071 A JP 61069071A JP 6907186 A JP6907186 A JP 6907186A JP S62226441 A JPS62226441 A JP S62226441A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[発明の分野]
本発明は、高エネルギー密度のレーザービームな用いて
情報の、!2き込みおよび/または読み取りができる情
報記録媒体に関するものである。
情報の、!2き込みおよび/または読み取りができる情
報記録媒体に関するものである。
[発明の技術的1′?景]
近年において、レーザー先竿の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大官5B−コンピュータ用ディスク・
メモリーとして使用されうるちのである。
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画
像ファイルおよび大官5B−コンピュータ用ディスク・
メモリーとして使用されうるちのである。
光ディスクは、基本構造としてプラスチラフ、ガラス笠
からなる円盤状の透IJI基板と、このにに設けられた
Bi、Sn、In、Te等の金属または半金属からなる
記録層とを有する。なお、記録層が設けられる側の基板
表面には通常、基板のt面性の改h、記録層との接着力
の向にあるいは光ディスクの感度の向」二などの点から
、高分子物質からなるド塗層または中間層か設けられて
いる。
からなる円盤状の透IJI基板と、このにに設けられた
Bi、Sn、In、Te等の金属または半金属からなる
記録層とを有する。なお、記録層が設けられる側の基板
表面には通常、基板のt面性の改h、記録層との接着力
の向にあるいは光ディスクの感度の向」二などの点から
、高分子物質からなるド塗層または中間層か設けられて
いる。
光ディスクへの情報の、1;き込みは、たとえばレーザ
ービームなこの先ディスクに照射することにより行なわ
れ、記録層の照射部分かその光を吸収して局所的に温度
に昇する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてそ
の光学的特性を変えることにより情報か記録される。光
ディスクからの情報の読み取りもまた。レーザービーム
な光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録
層の光学的特性の変化に応した反射光または透過光を検
出することにより情報か再生される。
ービームなこの先ディスクに照射することにより行なわ
れ、記録層の照射部分かその光を吸収して局所的に温度
に昇する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてそ
の光学的特性を変えることにより情報か記録される。光
ディスクからの情報の読み取りもまた。レーザービーム
な光ディスクに照射することなどにより行なわれ、記録
層の光学的特性の変化に応した反射光または透過光を検
出することにより情報か再生される。
また、最近では記録層を保護するためのディスク構造と
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を1;シけ、この二枚のノ、(板を記録層か
内側に位置し、かつ空間を形成するようにリング状内側
スペーサとリンク状外側スペーサとを介して接合してな
るエアーサンドイッチ構造か提案されている。このよう
な構造を有する光ディスつては、記録層は直接外気に接
することがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレ
ーザー光で行なわれるために、一般に記録層が物理的ま
たは化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃
か付着して情報の記録、再生の障害となることかない。
して、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一枚の基板
上に記録層を1;シけ、この二枚のノ、(板を記録層か
内側に位置し、かつ空間を形成するようにリング状内側
スペーサとリンク状外側スペーサとを介して接合してな
るエアーサンドイッチ構造か提案されている。このよう
な構造を有する光ディスつては、記録層は直接外気に接
することがなく、情報の記録、再生は基板を透過するレ
ーザー光で行なわれるために、一般に記録層が物理的ま
たは化学的な損傷を受けたり、あるいはその表面に塵埃
か付着して情報の記録、再生の障害となることかない。
情報記録媒体は、前述のように種々の分野において非常
に利用価値か高いものであるが、その記録感度は少しで
も高いものであることか望まれている。また、記録され
た情報をできる限り高い精度で読み取ることかできるも
のであることか91まれている。
に利用価値か高いものであるが、その記録感度は少しで
も高いものであることか望まれている。また、記録され
た情報をできる限り高い精度で読み取ることかできるも
のであることか91まれている。
従来より、記録感度を向1−させる1−1的であるいは
読取精度を高める11的て、情報記録媒体の記録層とし
て金属性薄層とPbo、金属弗化物またはIn−Ge−
3系力ルコゲン化合物などからなる非金属薄層との積層
(特公昭59−34519号−公?Ilり、金金属Ge
Sとの混合物からなる層(特公昭58−33120号・
公報)あるいは金属とMgF2等の金属弗化物およびM
o 02等の金属酸化物との混合物からなる層(特公
昭58−153191;公+lj )などが知られてい
る。
読取精度を高める11的て、情報記録媒体の記録層とし
て金属性薄層とPbo、金属弗化物またはIn−Ge−
3系力ルコゲン化合物などからなる非金属薄層との積層
(特公昭59−34519号−公?Ilり、金金属Ge
Sとの混合物からなる層(特公昭58−33120号・
公報)あるいは金属とMgF2等の金属弗化物およびM
o 02等の金属酸化物との混合物からなる層(特公
昭58−153191;公+lj )などが知られてい
る。
しかしながら、このような記録層ては情報の記録層にレ
ーザー光を照射しても記録層上にビットか充分に形成さ
れない場合かある。これは、レーザー光の出力自体は記
録層を融解するのに充分であるにもかかわらず、融解し
た記録層材料にピットが開きに<<、材料がそのまま回
じ位置て固化することによる。このために、レーザー光
の出力を上げる必要かあり、記録媒体の感度は充分高い
とは言い難かった。また、このような未形成のあるいは
不完全など・ントの存在は情報の読み取り時に誤差を生
じる原因となり、問題を生ずる。
ーザー光を照射しても記録層上にビットか充分に形成さ
れない場合かある。これは、レーザー光の出力自体は記
録層を融解するのに充分であるにもかかわらず、融解し
た記録層材料にピットが開きに<<、材料がそのまま回
じ位置て固化することによる。このために、レーザー光
の出力を上げる必要かあり、記録媒体の感度は充分高い
とは言い難かった。また、このような未形成のあるいは
不完全など・ントの存在は情報の読み取り時に誤差を生
じる原因となり、問題を生ずる。
なお、このような問題を解消することを目的として、本
出願人は既に、記録層がInと、金属硫化物、金属弗化
物および金属酸化物から選ばれる少なくとも一種の金属
化合物とを含有し、更に表面張力がその融点から融点+
300″Cの温度範囲において5 Q Q dyn/
cm以上の金属を含有する記録媒体、さらにはこの金
属の濃度が支持体に最も近い部分の記録層中において他
の部分における濃度より高い記録媒体について、既に特
許出願している(特願昭60−114733号)。この
記録媒体によれば、従来の記録媒体に比較して、低いレ
ーザー出力てC/NLt(キャリアーとノイズの出力レ
ベルの比)を高め、かつ読取誤差(ピットエラーレート
)を少なくすることかてきる。
出願人は既に、記録層がInと、金属硫化物、金属弗化
物および金属酸化物から選ばれる少なくとも一種の金属
化合物とを含有し、更に表面張力がその融点から融点+
300″Cの温度範囲において5 Q Q dyn/
cm以上の金属を含有する記録媒体、さらにはこの金
属の濃度が支持体に最も近い部分の記録層中において他
の部分における濃度より高い記録媒体について、既に特
許出願している(特願昭60−114733号)。この
記録媒体によれば、従来の記録媒体に比較して、低いレ
ーザー出力てC/NLt(キャリアーとノイズの出力レ
ベルの比)を高め、かつ読取誤差(ピットエラーレート
)を少なくすることかてきる。
[9:、川の1−1的]
本発明は、読取誤差か低減した情報記録媒体を提供する
ことをそのII的とするものである。
ことをそのII的とするものである。
また、未発IIは、記録感度の高い情報記録媒体を提供
することもそのt1的とするものである。
することもそのt1的とするものである。
さらに、未発11は、温度、湿度等の過酷な環境条件ド
に長期間保存したのちも高感度てかつ読取誤差が低減し
た情報記録媒体を提供することもそのII的とするもの
である。
に長期間保存したのちも高感度てかつ読取誤差が低減し
た情報記録媒体を提供することもそのII的とするもの
である。
[発明の安旨]
本発明は、ノ、(板りに、高分子−物質からなる中間層
を介してレーザーによる情報の1りき込みおよび/また
は読み取りが可flな記録層が設けられてなる情報記録
媒体において、該記録層の中間層に接する側に、融点と
融点より300℃高い温度の範囲内において600 d
yt+ /cm以上の表m1張力を右する金属が不連続
な班点状に含有されていることを特徴とする情報記録媒
体を提供するものである。
を介してレーザーによる情報の1りき込みおよび/また
は読み取りが可flな記録層が設けられてなる情報記録
媒体において、該記録層の中間層に接する側に、融点と
融点より300℃高い温度の範囲内において600 d
yt+ /cm以上の表m1張力を右する金属が不連続
な班点状に含有されていることを特徴とする情報記録媒
体を提供するものである。
[発明の効果]
未発III者は情報記録媒体について更に研究を重ねた
結果、特定の表面張力を有する金属か基板側で不連続な
班点状に含有されてなる記録層を、基板上に直接設けな
いで高分子物質からなる中間層を介して設けることによ
り、記録媒体の感度を更に高め、かつ読取誤差を低減す
ることができることを見い出し1本発明に到達したもの
である。
結果、特定の表面張力を有する金属か基板側で不連続な
班点状に含有されてなる記録層を、基板上に直接設けな
いで高分子物質からなる中間層を介して設けることによ
り、記録媒体の感度を更に高め、かつ読取誤差を低減す
ることができることを見い出し1本発明に到達したもの
である。
すなわち、本発明においては記録層の基板側部分に、融
点と融点より300°C高い温度の範囲内て表面張力か
600 dyn/ c■以上である金属が不連続な班
点状に存在しているために、該金属の高い表面張力によ
って、レーザー光の出力を−Lげることなく形状の良好
なピットを記録層に容易に形成することができる。
点と融点より300°C高い温度の範囲内て表面張力か
600 dyn/ c■以上である金属が不連続な班
点状に存在しているために、該金属の高い表面張力によ
って、レーザー光の出力を−Lげることなく形状の良好
なピットを記録層に容易に形成することができる。
また、この表面張力の高い金属は班点状に不連続に存在
しているために、連続層として面方向にf:行に積層さ
れて存在するよりも、更には他の記録層材料と混合状態
で記録層中に存在するよりも、レーザー光の照射による
熱エネルギーか面方向へ拡散することによる熱損失を大
幅に低減することかてきる。さらに、記録層に接して設
けられた中間層の断熱特性との相乗的な作用によって、
低いレーザー出力て高いC/N比を得ることかできる。
しているために、連続層として面方向にf:行に積層さ
れて存在するよりも、更には他の記録層材料と混合状態
で記録層中に存在するよりも、レーザー光の照射による
熱エネルギーか面方向へ拡散することによる熱損失を大
幅に低減することかてきる。さらに、記録層に接して設
けられた中間層の断熱特性との相乗的な作用によって、
低いレーザー出力て高いC/N比を得ることかできる。
従って、情報記録媒体の感度を従来よりも高めることか
てきる。また、情報の読取時におけるピットエラーレー
ト(BER)を顕著に低減することかできる。
てきる。また、情報の読取時におけるピットエラーレー
ト(BER)を顕著に低減することかできる。
さらに1本発明の情報記録媒体によれば、温度、湿度な
どの過酷な環境条袢下で長期間保存された場合であって
も、高感度を維持することかでき、かつ読取誤差が少な
い。すなわち、耐久性に3いて非常に優れたものである
。
どの過酷な環境条袢下で長期間保存された場合であって
も、高感度を維持することかでき、かつ読取誤差が少な
い。すなわち、耐久性に3いて非常に優れたものである
。
これらの利点に加えて情報記録媒体の製造時において、
I−記表面張力の高い金属の不連続性(斑点の大きさ、
間隔)を任意にA整することかでき、これにより所望と
する記録媒体の特性に応じて記録層全体の構造を調等す
ることが”T IFとなる。また、読み取りの際にレー
ザー光の反射率を調節するのも容易となる。
I−記表面張力の高い金属の不連続性(斑点の大きさ、
間隔)を任意にA整することかでき、これにより所望と
する記録媒体の特性に応じて記録層全体の構造を調等す
ることが”T IFとなる。また、読み取りの際にレー
ザー光の反射率を調節するのも容易となる。
[発明の詳細な記述]
未発IJIの情報記録媒体は、たとえば以下のような方
法により製造することかてきる。
法により製造することかてきる。
未発IJIにおいて使用する基板は、従来の情報記録媒
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することかてきる。ノ、(板の光学的特性、f面性、
加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの
点から、基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガ
ラス;セルキャストポリメチルメタクリレート、射出成
形ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:
エボキシ樹脂:およびポリカーボネートを挙げることが
できる。これらのうちです1■安定性、透明性および1
−、面性などの点から、!lfましいものはボリメチル
メタクリレート、ポリカーボネート、エポキシ樹脂およ
びガラスである。
体の基板として用いられている各種の材料から任意に選
択することかてきる。ノ、(板の光学的特性、f面性、
加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストなどの
点から、基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガ
ラス;セルキャストポリメチルメタクリレート、射出成
形ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩
化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂:
エボキシ樹脂:およびポリカーボネートを挙げることが
できる。これらのうちです1■安定性、透明性および1
−、面性などの点から、!lfましいものはボリメチル
メタクリレート、ポリカーボネート、エポキシ樹脂およ
びガラスである。
記録層が設けられる側の基板表面には、モ面性の、3
、;r、接着力の向」二および記録層の変質の防止の[
1的て、下塗層が設けられていてもよい。下塗層の材料
としては、たとえば、ポリメチルメタクリレート、アク
リル酸・メタクリル酸共重合体、ニトロセルロース、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高
分子物質ニジランカップリング剤などの右Ja物質;お
よび無機酸化物(Si02、A免205等)、無機弗化
物(MgF2)などの無機物質を挙げることができる。
、;r、接着力の向」二および記録層の変質の防止の[
1的て、下塗層が設けられていてもよい。下塗層の材料
としては、たとえば、ポリメチルメタクリレート、アク
リル酸・メタクリル酸共重合体、ニトロセルロース、ポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高
分子物質ニジランカップリング剤などの右Ja物質;お
よび無機酸化物(Si02、A免205等)、無機弗化
物(MgF2)などの無機物質を挙げることができる。
基板材料かガラスの場合、基板からMfiするアルカリ
金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層
へのS影響を防IFするためには、スチレン・無水マレ
イン酸共重合体などの親木性基および/または無水マレ
イン#基を有するポリマーかうなる下塗層が設けられて
いるのが望ましい。
金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層
へのS影響を防IFするためには、スチレン・無水マレ
イン酸共重合体などの親木性基および/または無水マレ
イン#基を有するポリマーかうなる下塗層が設けられて
いるのが望ましい。
ド塗層は、たとえばL記物質を適当な溶剤に溶解または
分散うだのち、この塗布液をスピンコード、ディップコ
ート、エクストルージョンコートなどのf’k Ai法
により基板表面に塗布することにより形成することかて
きる。
分散うだのち、この塗布液をスピンコード、ディップコ
ート、エクストルージョンコートなどのf’k Ai法
により基板表面に塗布することにより形成することかて
きる。
また、基板(または下塗層)北には、トラッキング用溝
またはアドレス信C; Tの情報を表わす凹凸の形成の
目的で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグル
ーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジ
エステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの
少なくとも一種の千ツマ−(またはオリゴマー)と光重
合開始剤との混合物を用いることかできる。
またはアドレス信C; Tの情報を表わす凹凸の形成の
目的で、プレグルーブ層が設けられてもよい。プレグル
ーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエステル、ジ
エステル、トリエステルおよびテトラエステルのうちの
少なくとも一種の千ツマ−(またはオリゴマー)と光重
合開始剤との混合物を用いることかできる。
プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型(ス
タンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗41液層上
に基板を載せたのち、ノ、(板または母型を介して紫外
線の照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着さ
せる。次いで、基板を母型から剥離することにより、プ
レグルーブ層の設けられた基板か得られる。プレグルー
ブ層の層厚は、一般に0,05〜loO#Lmの範囲内
であり、好ましくはO,1〜50ILmの範囲内である
。また、基板材料かプラスチックの場合、射出成形ある
いは押出成形等により直41i基板上にプレグルーブを
設けてもよい。
タンバ−)上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗41液層上
に基板を載せたのち、ノ、(板または母型を介して紫外
線の照射により液層を硬化させて基板と液相とを固着さ
せる。次いで、基板を母型から剥離することにより、プ
レグルーブ層の設けられた基板か得られる。プレグルー
ブ層の層厚は、一般に0,05〜loO#Lmの範囲内
であり、好ましくはO,1〜50ILmの範囲内である
。また、基板材料かプラスチックの場合、射出成形ある
いは押出成形等により直41i基板上にプレグルーブを
設けてもよい。
次に、)S板(またはド塗層もしくはプレグルーブ層)
」二、もしくはノ、(板に直接プレグルーブが設けられ
た場合は該プレグルーブ上には、高分子物質からなる中
間層が設けられる。
」二、もしくはノ、(板に直接プレグルーブが設けられ
た場合は該プレグルーブ上には、高分子物質からなる中
間層が設けられる。
高分子¥S質の例としては、アイオノマー樹脂、イブサ
ン樹脂、アクリロニトリル・アクリル酸・スチレン樹脂
、アクリロニトリル・スチレン樹脂、エポキシ樹脂、塩
化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、キシレン樹脂、シ
リコーン樹脂1右油樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、ブチ
ラール樹脂。
ン樹脂、アクリロニトリル・アクリル酸・スチレン樹脂
、アクリロニトリル・スチレン樹脂、エポキシ樹脂、塩
化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、キシレン樹脂、シ
リコーン樹脂1右油樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、ブチ
ラール樹脂。
塩素化ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルエーテル、ポリビニルトルエン、ポリエステル、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、セルロース
誘導体(酢酸セルロース、ニトロセルロース等)および
ポリヒドロキシスチレン等のポリマーを挙げることかで
きる。これらのうちで好ましいのは塩素化ポリオレフィ
ンである。
ニルエーテル、ポリビニルトルエン、ポリエステル、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリウレタン、セルロース
誘導体(酢酸セルロース、ニトロセルロース等)および
ポリヒドロキシスチレン等のポリマーを挙げることかで
きる。これらのうちで好ましいのは塩素化ポリオレフィ
ンである。
上記塩素化ポリオレフィンは一般に塩素化率か30%以
上のものであり、好ましくは50%以上、特に好ましく
は50〜70%の範囲内の塩素化率を有するものである
。また、熱安定性及び溶解性の面から、これらの114
2化ポリオレフインのうちでも塩素化ポリエチレンおよ
び塩素化ポリプロピレンか特に好ましい。
上のものであり、好ましくは50%以上、特に好ましく
は50〜70%の範囲内の塩素化率を有するものである
。また、熱安定性及び溶解性の面から、これらの114
2化ポリオレフインのうちでも塩素化ポリエチレンおよ
び塩素化ポリプロピレンか特に好ましい。
中間層は、上記高分子物質を溶剤に溶解して塗布液を調
製し、次いでこの塗布液を基板上に塗布することにより
設けることができる。
製し、次いでこの塗布液を基板上に塗布することにより
設けることができる。
高分子物質を溶解するための溶剤としては、トルエン、
キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルヅアセテ
ート、メチルエチルケトン、l。
キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルヅアセテ
ート、メチルエチルケトン、l。
2−ジクロルエタン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、エ
チルエーテル、ジオキサンなどを挙げることかできる。
ヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、エ
チルエーテル、ジオキサンなどを挙げることかできる。
これらの塗、/Ii液中には、さらに11f塑剤、滑剤
なと各種の添加剤を目的に応じて添加することも可を彪
である。
なと各種の添加剤を目的に応じて添加することも可を彪
である。
q 4i方法としては、スプレー法、スピンコードV:
、ディップ法、ロールコート法、プレートコート法、ド
クターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることか
できる。
、ディップ法、ロールコート法、プレートコート法、ド
クターロール法、スクリーン印刷法などを挙げることか
できる。
基板表面(またはド塗層)に塗布して塗膜を形成したの
ち乾燥することにより、基板(または下塗層)上に高分
子物質からなる中間層を形成することがてきる。中間層
の層厚は、100〜300λの範囲内にあることか好ま
しい。
ち乾燥することにより、基板(または下塗層)上に高分
子物質からなる中間層を形成することがてきる。中間層
の層厚は、100〜300λの範囲内にあることか好ま
しい。
次に、高分子物質からなる中間層ヒには本発明の特徴的
な要件である記録層が設けられる。
な要件である記録層が設けられる。
記録層の材料としては、まず、融点と融点より300°
C高い温度の範囲内て表面張力が600dyτ1/c1
1以北である金属が用いられる。
C高い温度の範囲内て表面張力が600dyτ1/c1
1以北である金属が用いられる。
融点と融点より300″C高い温度の範囲内で表面張力
が600 dyn / Ca1以上である金属の例とし
ては、Ag、An、Co、Cu、Ga、Mo、Ni
、 Si 、 V、 Au、 Be、 Cr、
Fe 、Mn、Nb、Pd、T iおよびZnを
挙げることができる。
が600 dyn / Ca1以上である金属の例とし
ては、Ag、An、Co、Cu、Ga、Mo、Ni
、 Si 、 V、 Au、 Be、 Cr、
Fe 、Mn、Nb、Pd、T iおよびZnを
挙げることができる。
これらの表面張力か高い金属は一般に0.1〜30玉量
%の範囲内て記録層に含有され、好ましくは1〜15重
量%の範囲内である。
%の範囲内て記録層に含有され、好ましくは1〜15重
量%の範囲内である。
−1−、記金属と組み合わせて用いられる記録層の材料
としては、In、Te、Sn、Pb、Biなどの低融立
会ffE;CrS、Cr25.Cr253゜MoS2、
MnS、FeS、FeS2、CoS、Co253、Ni
S、Ni 2S、PbS、Cu2S、Ag2S、ZnS
、In2S3.In252、Ge5z (0,5<X≦
2.0)、SnS。
としては、In、Te、Sn、Pb、Biなどの低融立
会ffE;CrS、Cr25.Cr253゜MoS2、
MnS、FeS、FeS2、CoS、Co253、Ni
S、Ni 2S、PbS、Cu2S、Ag2S、ZnS
、In2S3.In252、Ge5z (0,5<X≦
2.0)、SnS。
5nS2、As2S3.5b2s、、Bi25zなどの
金属硫化物;MgF2.CaF2、RhF、などの金属
弗化物およびMoO2,In2O、In2O3、Ge0
1pboなどの金属酸化物を挙げることかできる。好ま
しくは、低融点金属と金[E化物、金属弗化物および金
属酸化物のうらの少なくとも一種の金属化合物との混合
物である。
金属硫化物;MgF2.CaF2、RhF、などの金属
弗化物およびMoO2,In2O、In2O3、Ge0
1pboなどの金属酸化物を挙げることかできる。好ま
しくは、低融点金属と金[E化物、金属弗化物および金
属酸化物のうらの少なくとも一種の金属化合物との混合
物である。
特に好ましくは、表面張力か高い金属がAuであって、
記録層材料がAu、InおよびGeSからなるM」合せ
の場合である。
記録層材料がAu、InおよびGeSからなるM」合せ
の場合である。
記録層中における低融点金属の含有h1は一般に30〜
80屯111%、好ましくは50〜80重呈%の範囲内
である。また、金kA硫化物、金属弗化物および金属酸
化物などの金属化合物の含有量は一般ニl O〜50
’Rj+′X%、好マシくは20〜40重:1」%の範
囲内である。
80屯111%、好ましくは50〜80重呈%の範囲内
である。また、金kA硫化物、金属弗化物および金属酸
化物などの金属化合物の含有量は一般ニl O〜50
’Rj+′X%、好マシくは20〜40重:1」%の範
囲内である。
たたし、未発11において上記表面張力が高い金属は、
中間層に接する側において不連続な班点状に含有されて
いる必要かある。
中間層に接する側において不連続な班点状に含有されて
いる必要かある。
例えば1表面張力か高い金属は第1図および第2図に示
すように、中間層2に最も近い部分の記録層3中に斑点
4の形態で不連続的に存在する。
すように、中間層2に最も近い部分の記録層3中に斑点
4の形態で不連続的に存在する。
なお、第1図は、順に基板l、高分子物質からなる中間
層2.記録層3が積層されてなる未発IJる。また、第
2[′Aは、記録層を中間層に最も近い部分において面
方向に平行に切断した場合に、切断面における1懐表面
張力が高い金属4の点在の例を示すモ面図である。
層2.記録層3が積層されてなる未発IJる。また、第
2[′Aは、記録層を中間層に最も近い部分において面
方向に平行に切断した場合に、切断面における1懐表面
張力が高い金属4の点在の例を示すモ面図である。
北記表面張力か高い金属を班点状に含有させる場合には
、そのf均直径が10〜500Xの範囲内にあり、点と
点との平均間隔か50〜too。
、そのf均直径が10〜500Xの範囲内にあり、点と
点との平均間隔か50〜too。
又の範囲内にあることか好ましい。
記録層は、上記材料な蒸着、スパッタリング、イオンブ
レーティングなどの方法により基板にに形成される。上
記表面張力か高い金属の斑点の大きさおよびその間隔等
の制御は、たとえば蒸着工程中で基板温度、真空度およ
び金属蒸着速度等を変化させることにより行うことかで
きる。
レーティングなどの方法により基板にに形成される。上
記表面張力か高い金属の斑点の大きさおよびその間隔等
の制御は、たとえば蒸着工程中で基板温度、真空度およ
び金属蒸着速度等を変化させることにより行うことかで
きる。
記録層は重層または重層でもよいが、その層厚は光情報
記録に要求される光学C度の点から一般に500〜15
00Xの範囲である。
記録に要求される光学C度の点から一般に500〜15
00Xの範囲である。
上記表面張力が高い金属か記録層の中間層に接する側に
、不連続な班点状で存在することによ在するよりも、更
には他の記録層材料と混合状態で記録層中に存在するよ
りも、レーザービームの照射による熟エネルギーの面方
向への熱拡散による損失を大幅に低減することかでき、
レーザー光によって情報の記録を行なう際にピットか形
成されやすくなる。
、不連続な班点状で存在することによ在するよりも、更
には他の記録層材料と混合状態で記録層中に存在するよ
りも、レーザービームの照射による熟エネルギーの面方
向への熱拡散による損失を大幅に低減することかでき、
レーザー光によって情報の記録を行なう際にピットか形
成されやすくなる。
従って、レーザー光の出力を小さくすることかでき、記
録感度を向ヒさせることができる。また、形状の良好な
ピットを形成することかできるから、情報の読取の際に
読取誤差を低減することかできる。
録感度を向ヒさせることができる。また、形状の良好な
ピットを形成することかできるから、情報の読取の際に
読取誤差を低減することかできる。
さらに本発明において上記記録層は高分子物質からなる
中間層を介して基板上に設けられているため、レーザー
ビームの照射による熟エネルギーが記録層からノ、(板
子への熱伝導によって損失するのを、軽減することが+
N(能である。特に、高分子物質としてJ′!!素化ポ
リオレフィンを用いた場合には、被照射部分から通常ガ
スが発生するためにピットの形成か一層容易となり、し
たかうてピットエラーレートをさらに低減することがて
き、かつ記録層の記録感度をWJ著に向トさせることか
できる。
中間層を介して基板上に設けられているため、レーザー
ビームの照射による熟エネルギーが記録層からノ、(板
子への熱伝導によって損失するのを、軽減することが+
N(能である。特に、高分子物質としてJ′!!素化ポ
リオレフィンを用いた場合には、被照射部分から通常ガ
スが発生するためにピットの形成か一層容易となり、し
たかうてピットエラーレートをさらに低減することがて
き、かつ記録層の記録感度をWJ著に向トさせることか
できる。
なお、基板の記録層か設けられる側とは反対側の表面に
は耐傷性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質;
熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂などの高分子物質からなる
薄膜が真空蒸着、スパッタリングまたは塗布等の方法に
より設けられていてもよい。
は耐傷性、防湿性などを高めるために、たとえば二酸化
ケイ素、酸化スズ、弗化マグネシウムなどの無機物質;
熱可塑性樹脂、光硬化型樹脂などの高分子物質からなる
薄膜が真空蒸着、スパッタリングまたは塗布等の方法に
より設けられていてもよい。
このようにして基板、高分子物質からなる中間層、およ
び記録層がこの順序で積層された基本構成からなる情報
記録媒体を製造することかてきる。
び記録層がこの順序で積層された基本構成からなる情報
記録媒体を製造することかてきる。
なお、貼り合わせタイプの記録媒体においては、L記構
成を有する二枚の〕^板を接着剤茅な用いて接合するこ
とにより製造することができる。
成を有する二枚の〕^板を接着剤茅な用いて接合するこ
とにより製造することができる。
また、エアーサンドイッチタイプの記録媒体においては
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方が上記構成
を有する基板を、リング状の外側スペーサと内側スペー
サとを介して接合することにより製造することかできる
。
、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方が上記構成
を有する基板を、リング状の外側スペーサと内側スペー
サとを介して接合することにより製造することかできる
。
次に本発明の実施例および比較例を記載する。
[実施例1]
円盤状ポリカーボネート基板(外PI::130mm、
内1)I:15y1m、厚さ: 1.2mm)而に、F
記組成の塗布液をスピンコード法により塗/11シたの
ち、乾燥させて乾燥膜厚か150又の塩素化ポリエチレ
ン層を設けた。
内1)I:15y1m、厚さ: 1.2mm)而に、F
記組成の塗布液をスピンコード法により塗/11シたの
ち、乾燥させて乾燥膜厚か150又の塩素化ポリエチレ
ン層を設けた。
塗布液組成(毛!i【部)
塩素化ポリエチレン 0.2部−+c2
I+4−y c交ア÷1− 3/=1.7、 n=200 メチルエチルケトン 10部シクロヘ
キサン 100部次いで、このJ′
i!、に化ポリエチレン層−Lに、Auを基板温度90
℃、蒸着速度IK/秒、真空度10−6Lorrの条件
下で乎均直径100X、点と点のf均量v#A300X
となるように班点状に蒸着させた。
I+4−y c交ア÷1− 3/=1.7、 n=200 メチルエチルケトン 10部シクロヘ
キサン 100部次いで、このJ′
i!、に化ポリエチレン層−Lに、Auを基板温度90
℃、蒸着速度IK/秒、真空度10−6Lorrの条件
下で乎均直径100X、点と点のf均量v#A300X
となるように班点状に蒸着させた。
Au なIlr 古」PL″ ノ1オス fit
−L= Ik :ビ II T−−< IL
”t L’A I−に更にInおよびGeSを共蒸着
させて、Au、InおよびGeSからなる記録層を12
00Xの層厚て形成した(第1図参照)。この時、Au
、InおよびGeSの記録層における−1.1合はそれ
ぞれ重量比で5%、65%および30%であった。
−L= Ik :ビ II T−−< IL
”t L’A I−に更にInおよびGeSを共蒸着
させて、Au、InおよびGeSからなる記録層を12
00Xの層厚て形成した(第1図参照)。この時、Au
、InおよびGeSの記録層における−1.1合はそれ
ぞれ重量比で5%、65%および30%であった。
このようにして、順に基板、塩素化ポリエチレン層およ
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。
[比較例1]
実施例1の方法と同様の操作を行なうことにより、基板
上に塩素化ポリエチレン層を設けた。
上に塩素化ポリエチレン層を設けた。
次いで、この塩素化ポリエチレン層上に、Auを基板温
度20℃、蒸着速度6又/秒、真空度10−5Lorr
の条件下で蒸着させてAuからなる層を設けた。
度20℃、蒸着速度6又/秒、真空度10−5Lorr
の条件下で蒸着させてAuからなる層を設けた。
次に、このAuの連続層上にInおよびGeSを共蒸着
させてInとGeSの混合層を設け、記録層を二層の積
層とした。この際に、Au、InおよびGeSの記録層
における割合がそれぞれ重量比で5%、65%および3
0%であり、記録層の成層厚か1200^となるように
した。
させてInとGeSの混合層を設け、記録層を二層の積
層とした。この際に、Au、InおよびGeSの記録層
における割合がそれぞれ重量比で5%、65%および3
0%であり、記録層の成層厚か1200^となるように
した。
このようにして、順に基板、塩素化ポリエチレン層およ
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。
び記録層からなる情報記録媒体を製造した。
[情報記録媒体の評価]
(1)感度試験
得られたそれぞれの情報記録媒体について、(a)製造
時、 (b)温度60°C1湿度90%RHの恒温恒湿槽中て
30目間放置後、 において、5m/秒の線速で二値情報の記録を行ない、
キャリアーとノイズの出力レベルの比(C/ N lt
)か最大となるレーザー出力およびその時のC/N比
を測定した。
時、 (b)温度60°C1湿度90%RHの恒温恒湿槽中て
30目間放置後、 において、5m/秒の線速で二値情報の記録を行ない、
キャリアーとノイズの出力レベルの比(C/ N lt
)か最大となるレーザー出力およびその時のC/N比
を測定した。
(2)読取誤差試験
情fυか記録された情報記録媒体について、L記(a)
および(b)において、ナカミチ・ディスク(Naka
micbi −Disk) 3f価装210MS−1
000を使用して、再生信号中のエラー信号の割合すな
わちピットエラーレート(BER)を測定した。測定は
、7mWの出力で記録された記録奴体について、スペク
トルアナライザーによりハンl〜Ill 10KHzの
条件で測定した。
および(b)において、ナカミチ・ディスク(Naka
micbi −Disk) 3f価装210MS−1
000を使用して、再生信号中のエラー信号の割合すな
わちピットエラーレート(BER)を測定した。測定は
、7mWの出力で記録された記録奴体について、スペク
トルアナライザーによりハンl〜Ill 10KHzの
条件で測定した。
得られた結果をまとめて第1表に示す。
第1表
−(mW) (dB) 製造時 3011後実施
例1 7 50 10−510−’比較例1
8 50 to−210−’第1表に示され
た結果から明らかなように、本発明の情報記録媒体(実
施例1)は低い記録パワーで高いC/N比が得られ、記
録感度が優れていた。また、BERの値か極めて小さく
、読取誤差が低減した。また、60℃、湿度90%RH
の条件下で3011間放置後もBERの値がほとんど変
化せず、耐久性が特に優れていた。
例1 7 50 10−510−’比較例1
8 50 to−210−’第1表に示され
た結果から明らかなように、本発明の情報記録媒体(実
施例1)は低い記録パワーで高いC/N比が得られ、記
録感度が優れていた。また、BERの値か極めて小さく
、読取誤差が低減した。また、60℃、湿度90%RH
の条件下で3011間放置後もBERの値がほとんど変
化せず、耐久性が特に優れていた。
一方、比較のための情報記録媒体(比較例1)は高い記
録パワーを必要とし、記録感度か劣っていた。さらに、
BERの値か大きく、読取精度か低かった。また経時で
のBERの値が増大しており、耐久性か劣っていた。
録パワーを必要とし、記録感度か劣っていた。さらに、
BERの値か大きく、読取精度か低かった。また経時で
のBERの値が増大しており、耐久性か劣っていた。
第1図は、本発明の情報記録媒体の構成例を示す部分断
面図である。 第2図は、記録層中に班点状に含有された表面張力か高
い金属の分4j状態の例を示すモ面図である。 l二基板、2:中間層、3:記録層、 4:表面張力か高い金属
面図である。 第2図は、記録層中に班点状に含有された表面張力か高
い金属の分4j状態の例を示すモ面図である。 l二基板、2:中間層、3:記録層、 4:表面張力か高い金属
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1。基板上に、高分子物質からなる中間層を介してレー
ザーによる情報の、書き込みおよび/または読み取りが
可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体において、
該記録層の中間層に接する側に、融点と融点より300
℃高い温度の範囲内において600dyn/cm以上の
表面張力を有する金属が不連続な班点状に含有されてい
ることを特徴とする情報記録媒体。 2。上記班点状に含有された金属の平均直径が10〜5
00Åの範囲内にあり、点と点との平均間隔が50〜1
000Åの範囲内にあることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の情報記録媒体。 3。上記金属が、Ag、Al、Co、Cu、Ga、Mo
、Ni、Si、V、Au、Be、Cr、Fe、Mn、N
b、Pd、TiおよびZnからなる群より選ばれる少な
くとも一種の金属であることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の情報記録媒体。 4。上記金属が、記録層中に0.1〜30重量%の範囲
内で含有されていることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の情報記録媒体。 5。上記記録層がさらに、低融点金属と、金属硫化物、
金属弗化物および金属酸化物から選ばれる少なくとも一
種の金属化合物とを含有することを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の情報記録媒体。 6。上記記録層が、Au、InおよびGeSの混合物か
らなることを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の情
報記録媒体。 7。上記高分子物質からなる中間層が、塩素化ポリオレ
フィン層であることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の情報記録媒体。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61069071A JPS62226441A (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 情報記録媒体 |
EP87101938A EP0237783A3 (en) | 1986-02-12 | 1987-02-12 | Information recording medium |
US07/013,814 US4788097A (en) | 1986-02-12 | 1987-02-12 | Information recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61069071A JPS62226441A (ja) | 1986-03-26 | 1986-03-26 | 情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62226441A true JPS62226441A (ja) | 1987-10-05 |
Family
ID=13391977
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61069071A Pending JPS62226441A (ja) | 1986-02-12 | 1986-03-26 | 情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62226441A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01149239A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学式情報記録媒体 |
-
1986
- 1986-03-26 JP JP61069071A patent/JPS62226441A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01149239A (ja) * | 1987-12-04 | 1989-06-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学式情報記録媒体 |
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