JPS62223776A - ホログラム記録方法 - Google Patents

ホログラム記録方法

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JPS62223776A
JPS62223776A JP6660086A JP6660086A JPS62223776A JP S62223776 A JPS62223776 A JP S62223776A JP 6660086 A JP6660086 A JP 6660086A JP 6660086 A JP6660086 A JP 6660086A JP S62223776 A JPS62223776 A JP S62223776A
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JP
Japan
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light
wave
hologram recording
wavelength
light beam
Prior art date
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Application number
JP6660086A
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English (en)
Inventor
Haruhiko Koizumi
晴彦 小泉
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明を以下の順序で説明する。
A 産業上の利用分野 B 発明の概要 C従来の技術 D 発明が解決しようとする問題点 E 問題点を解決するための手段 F作用 G 実施例 G−1ホログラム記録方法(第1図) G−2再生方法(第2図、第3図) G−3変形例 H発明の効果 A 産業上の利用分野 本発明は、複数の物体像をそれぞれホログラムとして同
一の記録媒体に多重化して記録するホログラム記録方法
に関する。
B 発明の概要 本発明は、複数の物体像をそれぞれホログラムとして同
一の記録媒体に多重化して記録するホログラム記録方法
において、可干渉光源から放出された、互いに波長の異
なる複数の光波成分を有する光ビームを、参照波となる
べき第1の光ビームと、物体波を形成すべき第2の光ビ
ームとに分割するとともに、上記第2の光ビームから、
それぞれ光透過性物体を透過して物体波となる、互いに
波長の異なる光波成分の複数の光ビームを得、上記第1
の光ビームおよび上記複数の光ビームを、それぞれ上記
複数の光ビームのそれぞれを構成する光波成分で光化学
反応を生じる複数のホログラム記録層が積層合体された
ホログラム記録板に照射して、それぞれの光透過性物体
の像を、対応する波長の光波成分で光化学反応を生じる
、対応するホログラム記録層に、それぞれホログラムと
して記録することによって、再生時にゴースト像を生じ
ることなく、それぞれの光透過性物体の像を正しく確実
に再生できるようにしたものである。
C従来の技術 半導体素子の製造に際してのパターン形成工程における
露光処理としては、従来一般的に、フォトレジストが塗
布された半導体ウェーハにガラスマスクを密着させて光
を照射する方法が採られている。しかし、半導体ウェー
ハとガラスマスクの間にゴミや埃があると、素子のピン
ホールの原因となるばかりか、ガラスマスクに傷を付け
るおそれがある。また、ガラスマスク上にゴミや埃があ
ると、これがそのまま露光されて、その直下のウェーハ
領域が不良になってしまう。そのため、ガラスマスクを
密着させないで露光を行う方法も考えられているが、一
般に光源にはインコヒーレント光源を用いるので、光の
回り込みや回折によってパターンの微細化に制約がある
ところで、像の記録再生技術の一つとして、ホログラフ
ィがある。ホログラフィは、像情報を含んだ光波である
物体波に参照波と呼ばれる光波を加えて物体波の振幅と
位相を干渉縞として記録し、その記録された干渉縞であ
るホログラムに記録時の参照波゛と同様の再生波を照射
して像を再生するもので、ホログラムには物体−の各点
の情報が広い範囲にわたってばらまかれて記録される。
従って、ホログラムのある部分に傷があり、あるいはゴ
ミや埃が付着していても、再生像の画質が全体的に幾分
劣化するだけで、再生像の一部が欠けてしまうことはな
い。
従って・ホログラフィをリソグラフィに応用し、例えば
、その像がホログラムとして記録されるべき物体を半導
体ウェーハに形成すべきパターンのものにし、その再生
像をフォトレジストが塗布された半導体ウェーハ上に現
出させて露光を行うときは、従来の露光方法における上
述のような不都合を生じることがない。
しかも、ホログラフィによれば、同一の物体または異な
る物体の複数の像を、同一の記録媒体に多重化して記録
し、異なる位置に同時にまたは順次再生することが可能
である。従って、上述のようにホログラフィにおける像
の再生を半導体素子の製造に際してのパターン形成工程
における露光処理に用いるときは、1枚のホログラム記
録板によって、複数の半導体ウェーハに対して同一のパ
ターンまたは異なるパターンの露光を同時に行うことや
、一つの半導体ウェーハに対して異なるパターンの露光
を順次行うことが可能になる。
D 発明が解決しようとする問題点 しかし、複数の物体像をそれぞれホログラムとして同一
の記録媒体に多重化して記録する場合、再生時にゴース
ト像が発生して希望する物体像を正しく再生できないこ
とがある。例えば、一つの物体からの同一の物体波に対
して、この物体波と同一波長の、この物体波に対する角
度を互いに異にする複数の参照波を順次または同時に干
渉させれば、同一の物体の複数の像を同一の記録媒体に
多重化して記録することができ、同一の参照波に対して
、この参照波と同一波長の、この参照波に対する角度を
互いに異にする、異なる物体からの複数の物体波を順次
または同時に干渉させれば、異なる物体の複数の像を同
一の記録媒体に多重化して記録することができるが、同
一の物体波に対して複数の参照波を同時に干渉させる場
合、または同一の参照波に対して複数の物体波を同時に
干渉させる場合には、参照波同士または物体波同士が互
いに干渉し合い、再生時にゴースト像が発生して希望す
る物体像を正しく再生できなくなる。
かかる点に鑑み、本発明は、再生時にゴースト像を生じ
ることなく希望する物体像を正しく確実に再生できる状
態で、複数の物体像をそれぞれホログラムとして同一の
記録媒体に多重化して記録することができるようにした
ものである。
E 問題点を解決するための手段 本発明においては、可干渉光源から放出された、互いに
波長の異なる複数の光波成分を有する光ビームを、参照
波となるべき第1の光ビームと、物体波を形成すべき第
2の光ビームとに分割するとともに、上記第2の光ビー
ムから、それぞれ光透過性物体を透過して物体波となる
、互いに波長の異なる光波成分の複数の光ビームを得、
上記第1の光ビームおよび上記複数の光ビームを、それ
ぞれ上記複数の光ビームのそれぞれを構成する光波成分
で光化学反応を生じる複数のホログラム記録層が積層合
体されたホログラム記録板に照射する。
F作用 上記のように構成された本発明に係るホログラム記録方
法によれば、それぞれの光透過性物体の像は、対応する
波長の光波成分で光化学反応を生じる、対応するホログ
ラム記録層に、それぞれホログラムとして記録される。
従って、再生時、記録時における参照波と同様の、互い
に波長の異なる複数の光波成分を有する再生波を、それ
ぞれのホログラム記録層にホログラムが記録されたホロ
グラム記録板に照射することによって、再生波のそれぞ
れの波長の光波成分は、対応するホログラム記録層から
、これに記録されたホログラムのみを再生し、ゴースト
像が発生することなく、それぞれの光透過性物体の像が
正しく分離されて確実に再生される。
G 実施例 G−1ホログラム記録方法(第1図) 第1図は本発明に係るホログラム記録方法の一例で、5
個の光透過性物体の像を同一のホログラム記録板の5個
のホログラム記録層に記録する場合である。
光源として、波長λ1.λ2.λ3.λ4.λ、の光波
成分を有する可干渉光を放出する可干渉光源10、具体
的にはレーザ光源が設けられる。
可干渉光源10から放出された光ビームLiの光路上に
はシャッター20が設けられ、シャッター20が開かれ
ると、光ビームLiがビーム・スプリッタ30に入射す
る。ビーム・スプリッタ30において、光ビームLiは
、ビーム・スプリッタ30を透過する光ビームLoと、
ビーム・スプリッタ30で反射して偏向する光ビームL
aに部分される。光ビームLOおよびLaは、それぞれ
光ビームLiと同様に波長λ1.λ2.λ3.λ4、λ
5の光波成分を含む。ビーム・スプリッタ30で反射し
た光ビームLaは、ダイクロインク・ミラー31に入射
して、ダイクロイック・ミラー31を透過する波長λ2
.λ3.λ4.λ5の光波成分を有する光ビームLbと
、ダイクロイック・ミラー31で反射して偏向する波長
λ1の光波成分の光ビームL1に分けられる。ダイクロ
イック・ミラー31を透過した光ビームLbは、ダイク
ロイック・ミラー32に入射して、ダイクロイック・ミ
ラー32を゛透過する波長λ3.λ4.λ、の光波成分
を有する光ビームLcと、ダイクロイック・ミラー32
で反射して偏向する波長λ2の光波成分の光ビームL2
に分けられる。ダイクロイック・ミラー32を透過した
光ビームLcは、ダイクロイック・ミラー33に入射し
て、ダイクロイック・ミラー33を透過する波長λ4.
λ5の光波成分を有する光ビームLdと、ダイクロイッ
ク・ミラー33で反射して偏向する波長λ、の光波成分
の光ビームL3に分けられる。ダイクロイック・ミラー
33を透過した光ビームLdは、ダイクロイック・ミラ
ー34に入射して、グイクロインク・ミラー34を透過
する波長λ、の光波成分の光ビームLeと、グイクロイ
ック・ミラー34で反射して偏向する波長λ4の光波成
分の光ビームL4に分けられる。ダイクロインク・ミラ
ー34を透過した光ビームLeは、ミラー35で反射し
て偏向し、波長λ、の光波成分の光ビームL5となる。
波長ハ、λ2.λ3.4.λ、の光波成分λ を有する光ビームLOの光路上にはレンズ系40が配さ
れ、光ビームLoはレンズ系40により太い光束にされ
て、参照波ROとされる。もちろん、参照波ROは波長
λ1.λ2.λ3.λ4.λ5の光波成分を有する。こ
の参照波ROの光路上に、参照波Roの光軸に垂直に、
ホログラム記録板50が配され、参照波ROがホログラ
ム記録板50に入射する。
ホログラム記録板50は、光学的に透明な基板50B上
に、波長λ、の光波成分が強く照射されると光化学反応
を生じ、その反応を生じた領域が波長λ1の光波成分を
吸収するホログラム記録層51と、波長λ2の光波成分
が強く照射されると光化学反応を生じ、その反応を生じ
た領域が波長λ2の光波成分を吸収するホログラム記録
層52と、波長λ3の光波成分が強く照射されると光化
学反応を生じ、その反応を生じた領域が波長λ3の光波
成分を吸収するホログラム記録層53と、波長、の光波
成分が強く照射されると光化学反応を生じ、その反応を
生じた領域が波長λ4の光波成分を吸収するホログラム
記録層54と、波長λ、の光波成分が強く照射されると
光化学反応を生じ、その反応を生じた領域が波長λ5の
光波成分を吸収するホログラム記録層55が、積層され
たものである。これらホログラム記録層51,52゜5
3.54.55は、フォトクロミック材料またはフォト
ケミカル・ホール・バーニング材料から形成される。
一方、波長λ1.λ2.λ3.λ4.λ、の光波成分の
光ビームLL、L2.L3.L4.L5の光路上には、
それぞれ、レンズ系41,42゜43.44.45およ
び光透過性物体61.62゜63.64.65が順次配
され、光ビームLL。
L2.L3.L4.L5は、それぞれ、レンズ系41.
42.43,44.45により太い光束にされた後、光
透過性物体61,62,63,64゜65を透過するこ
とにより、波長λ1.λ2.λ3、λ4.λ、の光波成
分の物体波01,02゜03、 04,05とされる。
光透過性物体61゜62.63,64.65は、例えば
半導体素子の製造に際しての異なるパターン形成工程に
おける異なる霧光パターンのもので、それぞれホログラ
ム記録板50のホログラム記録層51,52,53.5
4.55から等しい距離の位置に配される。
もっとも、光透過性物体61,62,63,64゜65
とホログラム記録層51,52,53,54゜55との
間のIDIは、ホログラム記録層51,52.53,5
4.55の厚みに比べて十分大きくされるので、光透過
性物体61.62.63,64.65は、それぞれホロ
グラム記録板50の例えばホログラム記録層51から等
しい距離の位置に配されてもよい。
そして、物体波01,02,03,04,05がホログ
ラム記録板50に入射する。物体波01゜02.03.
04,05の参照波Roに対する角度、すなわちホログ
ラム記録板50への入射角は、それぞれθ1.θ、+θ
2.θ1 +θ2+θ3゜θ、+θ2+θ、+θ4.θ
、+θ2+θ、+θ4+θ5である。
かくして、ホログラム記録板50上において、参照波R
o中の波長λ1の光波成分と波長λ、の光波成分の物体
波O1が、参照波Ro中の波長λ2の光波成分と波長λ
2の光波成分の物体波02が、参照波Ro中の波長λ3
の光波成分と波長λ3の光波成分の物体波03が、参照
波Ro中の波長λ4の光波成分と波長λ4の光波成分の
物体波04が、参照波Ro中の波長λ、の光波成分と波
長λ、の光波成分の物体波05が、それぞれ互いに干渉
し合い、ホログラム記録板50に、光透過性物体61,
62;  63,64.65の像の波長λ1.λ2.λ
1.λ4.λ、の光波成分による干渉縞が形成される。
ここで、ホログラム記録板50のホログラム記録層51
,52,53,54゜55が、それぞれ波長λ1.λ2
.λ8.λ4゜λ、の光波成分で光化学反応を生じ、そ
の反応を生じた領域が、それぞれ波長λ1.λ2.λ3
゜λ4.λ5の光波成分を吸収するので、光透過性物体
61,62,63,64.65の像の波長λ1、λ2.
λ1.λ4.λ、の光波成分による干渉縞は、それぞれ
ホログラム記録層51,52゜53.54.55に記録
されて、他のホログラム記録層には記録されず、その際
、ホログラム記録層51,52.53,54.55にお
いて、干渉縞の明るい部分では光化学反応が瞬時に進行
し、暗い部分では光化学反応は進行しない。そして、適
当な露光時間の後にシャッター20が閉じられる。かく
して、ホログラム記録板50のホログラム記録層51,
52.53,54.55に、それぞれ光透過性物体61
,62,63,64.65の像がホログラムとして記録
される。
G−2再生方法(第2図、第3図) 第2図は、第1図のホログラム記録方法によって、それ
ぞれのホログラム記録層に物体像が記録されたホログラ
ム記録板から、それぞれの物体像を分離して再生する方
法の一例を示す。
第1図のホログラム記録方法における参照波ROに関す
る光学系と同様の光学系により得られる、第1図のホロ
グラム記録方法における参照波ROと同様に波長λ1.
λ2.λ8.λ4.λ、の光波成分を有する光ビームが
、再生波Lpとして、上述のように光透過性物体61.
62,63.64.65の像がそれぞれホログラム記録
層51゜52.53,54.55にホログラムとして記
録されたホログラム記録板50rに、垂直に入射させら
れる。ホログラム記録板50rは、記録時におけるホロ
グラム記録板50の位置に相当する位置に配される。
これにより、再生波t、p中の波長λ1.λ2゜λ3.
λ4.λ、の光波成分は、それぞれホログラム記録層5
1,52.53,54.55に記録された、それぞれ波
長λ1.λ2.λ5.λ4゜λ、の光波成分を吸収する
干渉縞にのみ吸収されて、それぞれホログラム記録層5
1.52,53゜54.55から、これに記録された、
それぞれ光透過性物体61,62.63.64.65の
像の干渉縞のみを再生し、ホログラム記録板50rに関
して再生波Lpの進行方向側の、再生波t、pの光軸に
対して記録時における波長λ1.λ2.λ1.λ4.λ
、の光波成分の物体波01.02゜03、04,05の
参照波ROに対する角度θ。
、θ、+θ2.θ、+θ2+θ3.θ、+02+θ3+
θ4.θ1 +02+θ3+θ4+θ5の方向の、ホロ
グラム記録層51,52.53,54゜55から記録時
における光透過性物体61,62゜63.64.65と
ホログラム記録層51,52゜53.54.55との間
の距離の位置p、、p。
、P3.P、、PSに、光透過性物体61,62゜63
.64.65の実像が再生され、ホログラム記録板50
rに関して再生波t、pの進行方向と反対側の、再生波
Lpの光軸に対してθ1.θ1+θ2.θ、+θ2+θ
1.θ、+θ2+θ3+θ4、θ1 +02+θ3+θ
4+θ、の角度の方向の、ホログラム記録J’!i51
,52,53,54゜55から記録時における光透過性
物体61,62゜63.64.65とホログラム記録層
51,52゜53.54.55との間の距離の位置Q+
 、Q2、Q3 、Q4.Q、に、光透過性物体61,
62゜63.64.65の虚像が再生される。この場合
、ホログラム記録層51,52,53,54.55は有
限の厚みを有するので、ホログラム記録層51.52,
53,54.55に記録された干渉縞は、それぞれ3次
元回折格子として作用し、波長選択性が優れたものとな
る。
第3図は、第1図のホログラム記録方法によって、それ
ぞれのホログラム記録層に物体像が記録されたホログラ
ム記録板から、それぞれの物体像を分離して再生する方
法の他の例を示す。
再生用の露光装置80は、照射筒81の一端に波長λ1
.λ2.λ1.λ4.λ5の光波成分を有する可干渉光
を放出する可干渉光源82が取り付けられ、他端に上述
のようにそれぞれのホログラム記録層51,52,53
,54.55に光透適性物体61,62,63,64.
65の像がそれぞれホログラムとして記録されたホログ
ラム記録板50rが取り付けられる。可干渉光源82か
ら放出された光ビームLgの光路上にはシャッター83
およびレンズ系84が順次配され、シャッター83が開
かれると、光ビームLgはレンズ系84により太い光束
にされて、照射光UOとしてホログラム記録板50rに
入射し、第2図の例と同様にホログラム記録層51,5
2.53.54゜55に記録された光透過性物体61,
62,63゜64.65の像を再生する。この露光装置
80は、例えばマイクロ・コンピュータにより制御され
て、照射筒81がホログラム記録板50rの中心COを
支点として矢印85で示すように紙面に沿う方向に上述
の角度θ1.θ2.θ1.θ4.θ、ずつ間欠的に回転
し、それぞれの停止位置においてシャッター83が一定
時間開くようにされる。
そして、照射筒81と対向して試料載置台90が配され
、その上に表面にフォトレジストが塗布された半導体ウ
ェーハ100が載置され、照射筒81と試料載置台90
の間にアパーチャ111を有する光選択板110が配さ
れ、光選択板110と試料載置台90の間にハーフ・ミ
ラー120が配されて、照射筒81のいずれの停止位置
においても、ホログラム記録層51.52,53,54
゜55から光透過性物体61,62,63.64゜65
の像を再生する、それぞれの回折再生波のうちの、ある
波長λnの一つの回折再生波Unのみが光選択板110
のアパーチャ111を通過しハーフ・ミラー120を透
過して半導体ウェーハ100上に到達し、波長λnの両
隣りの波長λi。
λjの回折再生波Ui、Ujなどは光選択板110に遮
られて、ある一つの光透過性物体の像のみが半導体ウェ
ーハ100上に再生されるように、される。
これにより、ホログラム記録板50rを取り換えること
なく、簡単なスイッチ操作だけで、同一の半導体ウェー
ハ100に対して、半導体素子の製造に際しての一連の
パターン形成工程における各種パターンの露光を順次行
うことができる。
G−3変形例 なお、第1図の例は光透過性物体61,62゜63.6
4.65の像が同時に記録される場合であるが、レンズ
系40,41.42,43.44゜45の手前にシャッ
ターがそれぞれ設けられて、例えば、最初にレンズ系4
0の手前のシャッターとレンズ系410手前のシャッタ
ーが、次にレンズ系40の手前のシャッターとレンズ系
42の手前のシャッターが、次にレンズ系40の手前の
シャッターとレンズ系43の手前のシャッターが、次に
レンズ系40の手前のシャッターとレンズ系44の手前
のシャッターが、最後にレンズ系40の手前のシャッタ
ーとレンズ系45の手前のシャッターが、それぞれ適当
な時間開かれることによって、光透過性物体61. 6
2. 63. 64. 65の像が順次記録されるよう
にしてもよい。
H発明の効果 本発明によれば、複数の物体像をそれぞれホログラムと
して、再生時にゴースト像を生じることなく、それぞれ
の物体像を正しく確実に再生できる状態で、同一の記録
媒体に多重化して記録することができる。しかも、記録
時および再生時における光学系が著しく簡単になり、光
学部品の複雑な位置調整なども必要としない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係るホログラム記録方法の一例を示す
図、第2図および第3図はそれぞれ第1図の方法によっ
て複数の物体像が記録されたホログラム記録板からそれ
ぞれの物体像を分離して再生する方法の一例を示す図で
ある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 可干渉光源から放出された、互いに波長の異なる複数の
    光波成分を有する光ビームを、参照波となるべき第1の
    光ビームと、物体波を形成すべき第2の光ビームとに分
    割するとともに、上記第2の光ビームから、それぞれ光
    透過性物体を透過して物体波となる、互いに波長の異な
    る光波成分の複数の光ビームを得、 上記第1の光ビームおよび上記複数の光ビームを、それ
    ぞれ上記複数の光ビームのそれぞれを構成する光波成分
    で光化学反応を生じる複数のホログラム記録層が積層合
    体されたホログラム記録板に照射する ホログラム記録方法。
JP6660086A 1986-03-25 1986-03-25 ホログラム記録方法 Pending JPS62223776A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011232510A (ja) * 2010-04-27 2011-11-17 Dainippon Printing Co Ltd ホログラム製造方法および露光装置

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JPS5032815A (ja) * 1973-07-24 1975-03-29

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