JPS62223610A - 膜厚測定方法 - Google Patents

膜厚測定方法

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JPS62223610A
JPS62223610A JP6815786A JP6815786A JPS62223610A JP S62223610 A JPS62223610 A JP S62223610A JP 6815786 A JP6815786 A JP 6815786A JP 6815786 A JP6815786 A JP 6815786A JP S62223610 A JPS62223610 A JP S62223610A
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JP
Japan
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film
light
organic film
energy
thickness
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Application number
JP6815786A
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English (en)
Inventor
Tatsuro Honda
達朗 本田
Toshiyuki Yamamoto
俊行 山本
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、鋼材等の表面に形成された有t8H分の厚み
を赤外線を用いて測定する方法に関する。
〔従来技術〕
鋼板は、一般に腐食しやすいが、その表面に有機膜を塗
装したものは耐蝕性が要求される用途への適用が可能と
なる。
しかし、有機膜が厚いもめを溶接を行う用途へ適用した
場合には溶接不良となり易く、また薄いものを耐蝕性が
要求される用途へ使用した場合には耐蝕性不良を生ずる
ことがある。
このため、有#m膜厚は適当な厚みとする必要があり、
斯かる有機膜付き鋼板の製造過程において膜厚をオンラ
イン測定し、その測定値に基づいて膜厚を調整している
上記オンライン測定としては、有機膜に含まれる有機物
によりこれに照射する赤外線の或る波長域にてその一部
が有#R膜に吸収されるという赤外線吸収現象を利用し
た赤外線膜厚計にて測定する方法がある。この方法は、
上記現象が生じる波長(λ1)と生じない波長(λ2)
の2つの波長の赤外線を有機膜へ照射してその反射赤外
線c以下反射光という)のエネルギーを夫々検出し、そ
の検出値の比を求めてその件に基づき膜厚を測定する方
法である。
これを詳述すると、照射する赤外線(以下照射光という
)のエネルギーIn(λ)と反射光のエネルギー■(λ
)/ Io(λ)は、波長λとの間において、第6図に
示すような関係にあると仮定し、上記波長λ1における
反射光のエネルギー1(λ1)は、ランベルト・ヘール
の法則より、有機膜による吸収率を示す項(下記e ”
−2k t )とそれ以外の原因による減衰率(U)と
の積を照射光のエネルギー値Io(λI)に乗じた下記
(1)式にて表わされ、また波長λ2における反射光の
エネルギーI(λ2)は、有t8!膜による吸収以外の
原因による減衰率を照射光のエネルギー値■。(λ2)
に乗じた下記(2)式にて夫々表わされる。
I(λ+ ) −To(λ、)XU(λ、 ) ×e 
−2kj・・・fil ■(λ2 ) = To(λ2)XU(λ2 )  −
(21但し、Xa(λI):波長λ1の照射光のエネル
ギー1o(λ2) 二波長λ2の照射光のエネルギーU
(λ1):赤外線吸収以外による波長λ1の光エネルギ
ー減衰率 U(λ2):赤外線吸収以外による波長λ2の光エネル
ギー減衰率 に:測定対象の有機膜固有の赤 外線吸収率 t:測定対象の有機膜の厚み そして、上記U(λ2)は下記(3)式にて近似的に表
わされるので、 (2)式右辺中のU(λ2)を(3)式右辺に置換する
ことにより、上記fil式のI(λ霞と置換後の■(λ
2)との比S、(r(λI) / T (λ2))が定
まる。
・・・(4) 1(λr )、I(λ2)を代入して膜厚tを算出して
いる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述の様に、従来技術においては、上記(4)式の右辺
第2項の分母中に含まれるU(λ1)は実測とに、膜厚
を算出している。
している時の■(λ)/■o(λ)とλの関係を示す。
一方、実測した!(λ)/ To(λ)とλの関係を第
7図に示す、第7図より鋼板の反射率、表面性状値であ
る。このため従来技術では、鋼板上の数μ−の膜厚測定
において、十分な測定精度が得られなかった。
c問題点を解決するための手段〕 本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、後に
説明する測定原理に基づいて3波長を定めて測定するこ
とにより、鋼板の反射率、鋼板の表面粗さ等の影響を受
けずに膜厚を高精度で測定し得る膜厚測定方法を提供す
ることを目的とする。
本発明に係る膜厚測定方法は、金属材の表面上に形成さ
れた有機膜へ赤外線を照射してその反射光のエネルギー
を検出し、或る波長で有機膜による赤外線吸収が生じて
照射光のエネルギーに対する検出エネルギーの値が有機
膜の厚みに対応して変化することを利用して有機膜の厚
みを測定する方法において、前記赤外線吸収が生じる波
長のエネルギー及び該波長よりも長い波長と短い波長夫
々のエネルギーを検出し、赤外線吸収が生じる波長での
照射光のエネルギーに対する検出値と、長・短2波長夫
々での照射光のエネルギーに対する検出値とにより有機
膜の厚みを算出することを特徴とする 〔発明の原理〕 まず、本発明の測定原理につき説明する。第1図は有機
膜2付き鋼板1の有機膜2に向けて、赤外線吸収のある
波長λ1及びそれがない2波長λ2゜λ3の赤外線を照
射し、夫々の反射光のエネルギーを図示しない検出器に
て検出している状態を示す模式図である。
波長λ1.λ2及びλ3における反射光のエネルギーI
(λl)、r(λ2)及びr(λ3)は、前同様ランベ
ルト・ベールの法則より下記(1)、 (2)、 (5
1式にて夫々表わされる。
■(λr ) −Io(λ、)XU(λ1) x e 
−”t−(1)I(λ2 ) −In(λ2 ) X 
U (λ2)   ・(2)■(λ3 ) = L)(
λ3)XU(λ3)   −(51但し、Io(λ3)
:波長λ3の照射光のエネルギーUn(λ3):赤外線
吸収以外による波長λ3の光のエネルギー減衰率 これら(11,(21,+51式より下記(6)式が成
り立つ。
2×!(λ1)/ to(λ1) ■(λ2)/−10(λ2)+I(λ3)/ Io(λ
3)U(λ2)+U(λ3) そして、上記U(λ3)は(3)式の場合と同様に下記
(7)式にて近似的に表わされるので、(6)式右辺分
母のU(λ2)+U(λコ)は下記(8)式となる。
× (λ3+λ2−2λ、)+20(λ1)  ・・・
(8)ここで、λ2+λ3−2×λ1・・・(9)とな
るよう3波長λ1.λ2.λ3を選定すると、(6)式
は下記01式として表わされる。
■(λ2)/10(λ2)+1(λ3)/IO(λ3)
・・・αω 従って、3波長λ1.λ2及びλ3を上記(9)式を満
足するように選定してその波長の照射光及び反射光のエ
ネルギーを測定することにより、上記01式に基づき鋼
板の反射率、鋼板の表面粗さ等に影響を受けずに膜厚t
を測定することが可能となる。
〔実施例〕
以下本発明を図面に基づき具体的に説明する。
第2図は本発明の実施状態を示す模式図であり、図中1
は有機膜1bが鋼板1aの表面上に形成された膜付鋼板
1を示す。
膜付鋼板lには光源2から発せられた赤外線Aがチョッ
パ3を経て凹面#144へ照射され、これにて反射され
た赤外線A(以下これを光という)が回転セクタ5にて
後述するように通過・反射を選択せられてその通過光が
有機膜16上に照射されるようになっている。
回転セクタ5は第3図にその平面図を示す如く、円盤状
のものからそれを円周方向に4等分するうちの対向する
2直角部分を切欠き、残った羽根部5b、5b等に金メ
ッキを施したものであり、その軸心を中心として回転す
る。赤外線Aの光路は回転セクタ5の切欠部5aの回転
域に位置するようになっており、光路上にその切欠部5
aが位置するときには赤外線Aは通過し、光路上に羽根
部5bが位置するときには赤外線Aは反射される。
切欠部5aを通過して有機III!1bに照射した光A
は回転セクタ5を通過するときの切欠部5aと対向する
もう一方の切欠部5aが光Aの光路上に位置するために
この切欠部5aを通過して凹面鏡7にて反射され、反射
された光Aは2/3透過1/3反射ミラー8へ照射され
てこれにて反射された光Aは干渉フィルタ9を経て光強
度検出器10にて光強度が検出される。
ミラー8を透過した光Aはハーフミラ−11へ照射され
てこれにて半分透過、半分反射され、反射された光Aは
干渉フィルタ12を通過して光強度検出器13にて光強
度が検出される。ハーフミラ−11を透過した光は干渉
フィルタ14を通過して光強度検出器15にて光強度が
検出される。
上記3つの干渉フィルタ9.12.14は前記(9)式
を満足する波長λ1.λ2.λ3を取出せるものを使用
し、各光強度検出器10.13.15にて検出された光
強度■(λI )、I(λ2)、I(λ3)は夫々膜厚
演算器16へ与えられる。
一方、回転セクタ5の羽根部5bにて反射された反射光
Bは、膜付鋼板1の有機膜と同一材質の有機膜が所定の
厚で形成された参照板6の有機膜側へ照射され、その反
射光Bは回転セクタ5にて反射されたときの羽根部5b
と対向するもう一方の羽根部5bが反射光の光路上に位
置するためにこの羽根部5bにて再び反射される。反射
された光は凹面鏡7へ照射された後、前同様3つに分割
されて各光強度検出器10.13.15にて参照板6に
ついての光強度Ir(λI)、 Ir(λ2)、Ir(
λ3)が検出され、検出された信号は膜厚演算器16へ
与えられる。
膜厚演算器16には下記(11)、(12)式が設定さ
れており、膜付鋼板1の有機膜1bへ光Aが照射された
ときの光強度検出器10.13.15からの入力信号1
(λr )、I(λ2 )、I(λ3)と、参照板6へ
光Bが照射されたときの光強度検出器10’、13.1
5からの入力信号1r (λr )、 Ir(λ:+)
、Ir(λ3)と、下記(11)式とに基づきαを測定
し、このαと下記(12)式とに基づき膜付鋼板1の有
機膜厚みtを算出する。
■(λ+)/Io(λ1) It(λ2)/TO(λz)+Ir(λr)/10(λ
3)但し、tr:参照板6の有機膜の厚み 斯かル(11)、 (12)式は、(発明の原理)(7
)01式にて膜厚みを測定する場合よりも更に測定精度
を高めるべ(、光源が発する光レベルの経時変化、光強
度検出器の温度変化による影響を除去する目的で設定さ
れており、(11)式は測定対象の膜付鋼板1を測定す
るときのαω式の値と、参照板6を測定するときのαω
式の値との比であり、(12)式はこの比α(−e−2
xt 7 e−2kt勺の対数をとって整理した式であ
る。なお本発明は前記αω式を用いてもよい。
このように構成された装置による本発明の膜厚測定方法
を以下に説明する。
上記3つの波長λ1.λ2.λ3をすべて含む範囲の光
を光源2にて発生せしめ、これを膜付鋼板1と参照板6
とに照射し、夫々の反射光をミラー8.11にて3つに
分割する。そして、干渉フィルタ9.12.14が前述
の如(3つに分割された光から夫々波長λ7.λ2.λ
3を取出し得るので、光強度検出器10.13.15は
膜付鋼板1からの反射光についての波長λ、l λ2I
 λ3夫々の光のエネルギー■(λ+ )、I(λ2)
、I(λ3)、及び参照板6からの反射光についての波
長λ1.λ2.λ3夫々の光エネルギー1r(λ+)、
Ir(λ2)、[r(λ3)を検出し、膜厚演算器16
はこれら6つの値と上記(11) 、  (12)式と
に基づき膜付鋼板1に形成された有機1111bの膜厚
tを算出する。
第4図は、膜厚を種々変更した膜付鋼板の115!厚と
01式より求めた2ktとの関係をまとめたグラフであ
り、図中白丸は測定値を示す。なお、比較のために同一
の膜付鋼板を三波長方式の従来法に基づき(4)式によ
り求めた2ktと膜厚の関係を第5図に示す。これら両
図より理解される如く、従来では膜厚測定誤差が0.7
μmあったが、本発明によリソれを0.3μmに減少さ
せることが可能となった。
なお、上記実施例では(9)式を満足する3波長λ1゜
λ2.λ3を定めているが、本発明はこれに限らず3長
波λ1.λ2.λ3が下記(13)式満足するように定
めてもよいことは勿論である。
λ2+λ3ζ2λ1      ・・・(13)また、
上記実施例ではOa1式により膜厚を測定しているが、
本発明はこれに限らず上記(11) 、 (12)式に
より膜厚を測定しても精度よい測定が行えるのは勿論で
ある。
更に、本発明は鋼板上の有機膜厚だけでなく、金属材一
般の表面上に形成された有機膜厚をも測定できるのは勿
論である。
〔効果〕
以上詳述した如く、本発明による場合は金属材の反射率
、金属材の表面粗さ等の影響を受けずに有機膜厚を測定
できるので、測定値が正確であり、更に参照板の有機膜
についての光エネルギーをも用いる場合には光源が発す
る光エネルギーの経時変化、光強度検出器の温度変化が
生じても正確に有機膜厚を測定できる。また、膜付金属
材を製造する工程のオンライン測定に本発明を通用した
場合は、この測定値を膜厚請訓のために与えることによ
り、膜厚を所望値にコントロールでき、このため溶接不
良、耐蝕性不良となることがなく、歩留りを向上できる
等、本発明は優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の詳細な説明図、第2図は本発明の実施
状態を示す模式図、第3図は本発明に用いる回転セクタ
例の平面図、第4図は本発明方法による測定の場合の測
定精度を示すグラフ、第5図は従来法による測定の場合
の測定精度を示すグラフ、第6図、第7図は従来技術の
内容説明図である。 1・・・膜付鋼板  9.12.14・・・干渉フィル
タ16・・・膜厚演算器 特 許 出願人 住友金属工業株式会社代理人 弁理士
 河  野  登  夫La(入1)I(λ1) j町  、   、                
                         
6項4 3  図 ! 第 2 図 暎!!−cμm) 第 4団 喚厚(層重 第 5 図 反灸 第 6 図 人  (μ−) 第 7 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、金属材の表面上に形成された有機膜へ赤外線を照射
    してその反射光のエネルギーを検出し、或る波長で有機
    膜による赤外線吸収が生じて照射光のエネルギーに対す
    る検出エネルギーの値が有機膜の厚みに対応して変化す
    ることを利用して有機膜の厚みを測定する方法において
    、 前記赤外線吸収が生じる波長のエネルギー 及び該波長よりも長い波長と短い波長夫々のエネルギー
    を検出し、赤外線吸収が生じる波長での照射光のエネル
    ギーに対する検出値と、長・短2波長夫々での照射光の
    エネルギーに対する検出値とにより有機膜の厚みを算出
    することを特徴とする膜厚測定方法。
JP6815786A 1986-03-25 1986-03-25 膜厚測定方法 Pending JPS62223610A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001092820A1 (de) * 2000-05-26 2001-12-06 Infralytic Gmbh Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der dicke von transparenten organischen schichten

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2001092820A1 (de) * 2000-05-26 2001-12-06 Infralytic Gmbh Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der dicke von transparenten organischen schichten

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