JPS62223610A - 膜厚測定方法 - Google Patents
膜厚測定方法Info
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- JPS62223610A JPS62223610A JP6815786A JP6815786A JPS62223610A JP S62223610 A JPS62223610 A JP S62223610A JP 6815786 A JP6815786 A JP 6815786A JP 6815786 A JP6815786 A JP 6815786A JP S62223610 A JPS62223610 A JP S62223610A
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 10
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 claims description 3
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 abstract description 28
- 239000010959 steel Substances 0.000 abstract description 28
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- SYHGEUNFJIGTRX-UHFFFAOYSA-N methylenedioxypyrovalerone Chemical compound C=1C=C2OCOC2=CC=1C(=O)C(CCC)N1CCCC1 SYHGEUNFJIGTRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、鋼材等の表面に形成された有t8H分の厚み
を赤外線を用いて測定する方法に関する。
を赤外線を用いて測定する方法に関する。
鋼板は、一般に腐食しやすいが、その表面に有機膜を塗
装したものは耐蝕性が要求される用途への適用が可能と
なる。
装したものは耐蝕性が要求される用途への適用が可能と
なる。
しかし、有機膜が厚いもめを溶接を行う用途へ適用した
場合には溶接不良となり易く、また薄いものを耐蝕性が
要求される用途へ使用した場合には耐蝕性不良を生ずる
ことがある。
場合には溶接不良となり易く、また薄いものを耐蝕性が
要求される用途へ使用した場合には耐蝕性不良を生ずる
ことがある。
このため、有#m膜厚は適当な厚みとする必要があり、
斯かる有機膜付き鋼板の製造過程において膜厚をオンラ
イン測定し、その測定値に基づいて膜厚を調整している
。
斯かる有機膜付き鋼板の製造過程において膜厚をオンラ
イン測定し、その測定値に基づいて膜厚を調整している
。
上記オンライン測定としては、有機膜に含まれる有機物
によりこれに照射する赤外線の或る波長域にてその一部
が有#R膜に吸収されるという赤外線吸収現象を利用し
た赤外線膜厚計にて測定する方法がある。この方法は、
上記現象が生じる波長(λ1)と生じない波長(λ2)
の2つの波長の赤外線を有機膜へ照射してその反射赤外
線c以下反射光という)のエネルギーを夫々検出し、そ
の検出値の比を求めてその件に基づき膜厚を測定する方
法である。
によりこれに照射する赤外線の或る波長域にてその一部
が有#R膜に吸収されるという赤外線吸収現象を利用し
た赤外線膜厚計にて測定する方法がある。この方法は、
上記現象が生じる波長(λ1)と生じない波長(λ2)
の2つの波長の赤外線を有機膜へ照射してその反射赤外
線c以下反射光という)のエネルギーを夫々検出し、そ
の検出値の比を求めてその件に基づき膜厚を測定する方
法である。
これを詳述すると、照射する赤外線(以下照射光という
)のエネルギーIn(λ)と反射光のエネルギー■(λ
)/ Io(λ)は、波長λとの間において、第6図に
示すような関係にあると仮定し、上記波長λ1における
反射光のエネルギー1(λ1)は、ランベルト・ヘール
の法則より、有機膜による吸収率を示す項(下記e ”
−2k t )とそれ以外の原因による減衰率(U)と
の積を照射光のエネルギー値Io(λI)に乗じた下記
(1)式にて表わされ、また波長λ2における反射光の
エネルギーI(λ2)は、有t8!膜による吸収以外の
原因による減衰率を照射光のエネルギー値■。(λ2)
に乗じた下記(2)式にて夫々表わされる。
)のエネルギーIn(λ)と反射光のエネルギー■(λ
)/ Io(λ)は、波長λとの間において、第6図に
示すような関係にあると仮定し、上記波長λ1における
反射光のエネルギー1(λ1)は、ランベルト・ヘール
の法則より、有機膜による吸収率を示す項(下記e ”
−2k t )とそれ以外の原因による減衰率(U)と
の積を照射光のエネルギー値Io(λI)に乗じた下記
(1)式にて表わされ、また波長λ2における反射光の
エネルギーI(λ2)は、有t8!膜による吸収以外の
原因による減衰率を照射光のエネルギー値■。(λ2)
に乗じた下記(2)式にて夫々表わされる。
I(λ+ ) −To(λ、)XU(λ、 ) ×e
−2kj・・・fil ■(λ2 ) = To(λ2)XU(λ2 ) −
(21但し、Xa(λI):波長λ1の照射光のエネル
ギー1o(λ2) 二波長λ2の照射光のエネルギーU
(λ1):赤外線吸収以外による波長λ1の光エネルギ
ー減衰率 U(λ2):赤外線吸収以外による波長λ2の光エネル
ギー減衰率 に:測定対象の有機膜固有の赤 外線吸収率 t:測定対象の有機膜の厚み そして、上記U(λ2)は下記(3)式にて近似的に表
わされるので、 (2)式右辺中のU(λ2)を(3)式右辺に置換する
ことにより、上記fil式のI(λ霞と置換後の■(λ
2)との比S、(r(λI) / T (λ2))が定
まる。
−2kj・・・fil ■(λ2 ) = To(λ2)XU(λ2 ) −
(21但し、Xa(λI):波長λ1の照射光のエネル
ギー1o(λ2) 二波長λ2の照射光のエネルギーU
(λ1):赤外線吸収以外による波長λ1の光エネルギ
ー減衰率 U(λ2):赤外線吸収以外による波長λ2の光エネル
ギー減衰率 に:測定対象の有機膜固有の赤 外線吸収率 t:測定対象の有機膜の厚み そして、上記U(λ2)は下記(3)式にて近似的に表
わされるので、 (2)式右辺中のU(λ2)を(3)式右辺に置換する
ことにより、上記fil式のI(λ霞と置換後の■(λ
2)との比S、(r(λI) / T (λ2))が定
まる。
・・・(4)
1(λr )、I(λ2)を代入して膜厚tを算出して
いる。
いる。
上述の様に、従来技術においては、上記(4)式の右辺
第2項の分母中に含まれるU(λ1)は実測とに、膜厚
を算出している。
第2項の分母中に含まれるU(λ1)は実測とに、膜厚
を算出している。
している時の■(λ)/■o(λ)とλの関係を示す。
一方、実測した!(λ)/ To(λ)とλの関係を第
7図に示す、第7図より鋼板の反射率、表面性状値であ
る。このため従来技術では、鋼板上の数μ−の膜厚測定
において、十分な測定精度が得られなかった。
7図に示す、第7図より鋼板の反射率、表面性状値であ
る。このため従来技術では、鋼板上の数μ−の膜厚測定
において、十分な測定精度が得られなかった。
c問題点を解決するための手段〕
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、後に
説明する測定原理に基づいて3波長を定めて測定するこ
とにより、鋼板の反射率、鋼板の表面粗さ等の影響を受
けずに膜厚を高精度で測定し得る膜厚測定方法を提供す
ることを目的とする。
説明する測定原理に基づいて3波長を定めて測定するこ
とにより、鋼板の反射率、鋼板の表面粗さ等の影響を受
けずに膜厚を高精度で測定し得る膜厚測定方法を提供す
ることを目的とする。
本発明に係る膜厚測定方法は、金属材の表面上に形成さ
れた有機膜へ赤外線を照射してその反射光のエネルギー
を検出し、或る波長で有機膜による赤外線吸収が生じて
照射光のエネルギーに対する検出エネルギーの値が有機
膜の厚みに対応して変化することを利用して有機膜の厚
みを測定する方法において、前記赤外線吸収が生じる波
長のエネルギー及び該波長よりも長い波長と短い波長夫
々のエネルギーを検出し、赤外線吸収が生じる波長での
照射光のエネルギーに対する検出値と、長・短2波長夫
々での照射光のエネルギーに対する検出値とにより有機
膜の厚みを算出することを特徴とする 〔発明の原理〕 まず、本発明の測定原理につき説明する。第1図は有機
膜2付き鋼板1の有機膜2に向けて、赤外線吸収のある
波長λ1及びそれがない2波長λ2゜λ3の赤外線を照
射し、夫々の反射光のエネルギーを図示しない検出器に
て検出している状態を示す模式図である。
れた有機膜へ赤外線を照射してその反射光のエネルギー
を検出し、或る波長で有機膜による赤外線吸収が生じて
照射光のエネルギーに対する検出エネルギーの値が有機
膜の厚みに対応して変化することを利用して有機膜の厚
みを測定する方法において、前記赤外線吸収が生じる波
長のエネルギー及び該波長よりも長い波長と短い波長夫
々のエネルギーを検出し、赤外線吸収が生じる波長での
照射光のエネルギーに対する検出値と、長・短2波長夫
々での照射光のエネルギーに対する検出値とにより有機
膜の厚みを算出することを特徴とする 〔発明の原理〕 まず、本発明の測定原理につき説明する。第1図は有機
膜2付き鋼板1の有機膜2に向けて、赤外線吸収のある
波長λ1及びそれがない2波長λ2゜λ3の赤外線を照
射し、夫々の反射光のエネルギーを図示しない検出器に
て検出している状態を示す模式図である。
波長λ1.λ2及びλ3における反射光のエネルギーI
(λl)、r(λ2)及びr(λ3)は、前同様ランベ
ルト・ベールの法則より下記(1)、 (2)、 (5
1式にて夫々表わされる。
(λl)、r(λ2)及びr(λ3)は、前同様ランベ
ルト・ベールの法則より下記(1)、 (2)、 (5
1式にて夫々表わされる。
■(λr ) −Io(λ、)XU(λ1) x e
−”t−(1)I(λ2 ) −In(λ2 ) X
U (λ2) ・(2)■(λ3 ) = L)(
λ3)XU(λ3) −(51但し、Io(λ3)
:波長λ3の照射光のエネルギーUn(λ3):赤外線
吸収以外による波長λ3の光のエネルギー減衰率 これら(11,(21,+51式より下記(6)式が成
り立つ。
−”t−(1)I(λ2 ) −In(λ2 ) X
U (λ2) ・(2)■(λ3 ) = L)(
λ3)XU(λ3) −(51但し、Io(λ3)
:波長λ3の照射光のエネルギーUn(λ3):赤外線
吸収以外による波長λ3の光のエネルギー減衰率 これら(11,(21,+51式より下記(6)式が成
り立つ。
2×!(λ1)/ to(λ1)
■(λ2)/−10(λ2)+I(λ3)/ Io(λ
3)U(λ2)+U(λ3) そして、上記U(λ3)は(3)式の場合と同様に下記
(7)式にて近似的に表わされるので、(6)式右辺分
母のU(λ2)+U(λコ)は下記(8)式となる。
3)U(λ2)+U(λ3) そして、上記U(λ3)は(3)式の場合と同様に下記
(7)式にて近似的に表わされるので、(6)式右辺分
母のU(λ2)+U(λコ)は下記(8)式となる。
× (λ3+λ2−2λ、)+20(λ1) ・・・
(8)ここで、λ2+λ3−2×λ1・・・(9)とな
るよう3波長λ1.λ2.λ3を選定すると、(6)式
は下記01式として表わされる。
(8)ここで、λ2+λ3−2×λ1・・・(9)とな
るよう3波長λ1.λ2.λ3を選定すると、(6)式
は下記01式として表わされる。
■(λ2)/10(λ2)+1(λ3)/IO(λ3)
・・・αω 従って、3波長λ1.λ2及びλ3を上記(9)式を満
足するように選定してその波長の照射光及び反射光のエ
ネルギーを測定することにより、上記01式に基づき鋼
板の反射率、鋼板の表面粗さ等に影響を受けずに膜厚t
を測定することが可能となる。
・・・αω 従って、3波長λ1.λ2及びλ3を上記(9)式を満
足するように選定してその波長の照射光及び反射光のエ
ネルギーを測定することにより、上記01式に基づき鋼
板の反射率、鋼板の表面粗さ等に影響を受けずに膜厚t
を測定することが可能となる。
以下本発明を図面に基づき具体的に説明する。
第2図は本発明の実施状態を示す模式図であり、図中1
は有機膜1bが鋼板1aの表面上に形成された膜付鋼板
1を示す。
は有機膜1bが鋼板1aの表面上に形成された膜付鋼板
1を示す。
膜付鋼板lには光源2から発せられた赤外線Aがチョッ
パ3を経て凹面#144へ照射され、これにて反射され
た赤外線A(以下これを光という)が回転セクタ5にて
後述するように通過・反射を選択せられてその通過光が
有機膜16上に照射されるようになっている。
パ3を経て凹面#144へ照射され、これにて反射され
た赤外線A(以下これを光という)が回転セクタ5にて
後述するように通過・反射を選択せられてその通過光が
有機膜16上に照射されるようになっている。
回転セクタ5は第3図にその平面図を示す如く、円盤状
のものからそれを円周方向に4等分するうちの対向する
2直角部分を切欠き、残った羽根部5b、5b等に金メ
ッキを施したものであり、その軸心を中心として回転す
る。赤外線Aの光路は回転セクタ5の切欠部5aの回転
域に位置するようになっており、光路上にその切欠部5
aが位置するときには赤外線Aは通過し、光路上に羽根
部5bが位置するときには赤外線Aは反射される。
のものからそれを円周方向に4等分するうちの対向する
2直角部分を切欠き、残った羽根部5b、5b等に金メ
ッキを施したものであり、その軸心を中心として回転す
る。赤外線Aの光路は回転セクタ5の切欠部5aの回転
域に位置するようになっており、光路上にその切欠部5
aが位置するときには赤外線Aは通過し、光路上に羽根
部5bが位置するときには赤外線Aは反射される。
切欠部5aを通過して有機III!1bに照射した光A
は回転セクタ5を通過するときの切欠部5aと対向する
もう一方の切欠部5aが光Aの光路上に位置するために
この切欠部5aを通過して凹面鏡7にて反射され、反射
された光Aは2/3透過1/3反射ミラー8へ照射され
てこれにて反射された光Aは干渉フィルタ9を経て光強
度検出器10にて光強度が検出される。
は回転セクタ5を通過するときの切欠部5aと対向する
もう一方の切欠部5aが光Aの光路上に位置するために
この切欠部5aを通過して凹面鏡7にて反射され、反射
された光Aは2/3透過1/3反射ミラー8へ照射され
てこれにて反射された光Aは干渉フィルタ9を経て光強
度検出器10にて光強度が検出される。
ミラー8を透過した光Aはハーフミラ−11へ照射され
てこれにて半分透過、半分反射され、反射された光Aは
干渉フィルタ12を通過して光強度検出器13にて光強
度が検出される。ハーフミラ−11を透過した光は干渉
フィルタ14を通過して光強度検出器15にて光強度が
検出される。
てこれにて半分透過、半分反射され、反射された光Aは
干渉フィルタ12を通過して光強度検出器13にて光強
度が検出される。ハーフミラ−11を透過した光は干渉
フィルタ14を通過して光強度検出器15にて光強度が
検出される。
上記3つの干渉フィルタ9.12.14は前記(9)式
を満足する波長λ1.λ2.λ3を取出せるものを使用
し、各光強度検出器10.13.15にて検出された光
強度■(λI )、I(λ2)、I(λ3)は夫々膜厚
演算器16へ与えられる。
を満足する波長λ1.λ2.λ3を取出せるものを使用
し、各光強度検出器10.13.15にて検出された光
強度■(λI )、I(λ2)、I(λ3)は夫々膜厚
演算器16へ与えられる。
一方、回転セクタ5の羽根部5bにて反射された反射光
Bは、膜付鋼板1の有機膜と同一材質の有機膜が所定の
厚で形成された参照板6の有機膜側へ照射され、その反
射光Bは回転セクタ5にて反射されたときの羽根部5b
と対向するもう一方の羽根部5bが反射光の光路上に位
置するためにこの羽根部5bにて再び反射される。反射
された光は凹面鏡7へ照射された後、前同様3つに分割
されて各光強度検出器10.13.15にて参照板6に
ついての光強度Ir(λI)、 Ir(λ2)、Ir(
λ3)が検出され、検出された信号は膜厚演算器16へ
与えられる。
Bは、膜付鋼板1の有機膜と同一材質の有機膜が所定の
厚で形成された参照板6の有機膜側へ照射され、その反
射光Bは回転セクタ5にて反射されたときの羽根部5b
と対向するもう一方の羽根部5bが反射光の光路上に位
置するためにこの羽根部5bにて再び反射される。反射
された光は凹面鏡7へ照射された後、前同様3つに分割
されて各光強度検出器10.13.15にて参照板6に
ついての光強度Ir(λI)、 Ir(λ2)、Ir(
λ3)が検出され、検出された信号は膜厚演算器16へ
与えられる。
膜厚演算器16には下記(11)、(12)式が設定さ
れており、膜付鋼板1の有機膜1bへ光Aが照射された
ときの光強度検出器10.13.15からの入力信号1
(λr )、I(λ2 )、I(λ3)と、参照板6へ
光Bが照射されたときの光強度検出器10’、13.1
5からの入力信号1r (λr )、 Ir(λ:+)
、Ir(λ3)と、下記(11)式とに基づきαを測定
し、このαと下記(12)式とに基づき膜付鋼板1の有
機膜厚みtを算出する。
れており、膜付鋼板1の有機膜1bへ光Aが照射された
ときの光強度検出器10.13.15からの入力信号1
(λr )、I(λ2 )、I(λ3)と、参照板6へ
光Bが照射されたときの光強度検出器10’、13.1
5からの入力信号1r (λr )、 Ir(λ:+)
、Ir(λ3)と、下記(11)式とに基づきαを測定
し、このαと下記(12)式とに基づき膜付鋼板1の有
機膜厚みtを算出する。
■(λ+)/Io(λ1)
It(λ2)/TO(λz)+Ir(λr)/10(λ
3)但し、tr:参照板6の有機膜の厚み 斯かル(11)、 (12)式は、(発明の原理)(7
)01式にて膜厚みを測定する場合よりも更に測定精度
を高めるべ(、光源が発する光レベルの経時変化、光強
度検出器の温度変化による影響を除去する目的で設定さ
れており、(11)式は測定対象の膜付鋼板1を測定す
るときのαω式の値と、参照板6を測定するときのαω
式の値との比であり、(12)式はこの比α(−e−2
xt 7 e−2kt勺の対数をとって整理した式であ
る。なお本発明は前記αω式を用いてもよい。
3)但し、tr:参照板6の有機膜の厚み 斯かル(11)、 (12)式は、(発明の原理)(7
)01式にて膜厚みを測定する場合よりも更に測定精度
を高めるべ(、光源が発する光レベルの経時変化、光強
度検出器の温度変化による影響を除去する目的で設定さ
れており、(11)式は測定対象の膜付鋼板1を測定す
るときのαω式の値と、参照板6を測定するときのαω
式の値との比であり、(12)式はこの比α(−e−2
xt 7 e−2kt勺の対数をとって整理した式であ
る。なお本発明は前記αω式を用いてもよい。
このように構成された装置による本発明の膜厚測定方法
を以下に説明する。
を以下に説明する。
上記3つの波長λ1.λ2.λ3をすべて含む範囲の光
を光源2にて発生せしめ、これを膜付鋼板1と参照板6
とに照射し、夫々の反射光をミラー8.11にて3つに
分割する。そして、干渉フィルタ9.12.14が前述
の如(3つに分割された光から夫々波長λ7.λ2.λ
3を取出し得るので、光強度検出器10.13.15は
膜付鋼板1からの反射光についての波長λ、l λ2I
λ3夫々の光のエネルギー■(λ+ )、I(λ2)
、I(λ3)、及び参照板6からの反射光についての波
長λ1.λ2.λ3夫々の光エネルギー1r(λ+)、
Ir(λ2)、[r(λ3)を検出し、膜厚演算器16
はこれら6つの値と上記(11) 、 (12)式と
に基づき膜付鋼板1に形成された有機1111bの膜厚
tを算出する。
を光源2にて発生せしめ、これを膜付鋼板1と参照板6
とに照射し、夫々の反射光をミラー8.11にて3つに
分割する。そして、干渉フィルタ9.12.14が前述
の如(3つに分割された光から夫々波長λ7.λ2.λ
3を取出し得るので、光強度検出器10.13.15は
膜付鋼板1からの反射光についての波長λ、l λ2I
λ3夫々の光のエネルギー■(λ+ )、I(λ2)
、I(λ3)、及び参照板6からの反射光についての波
長λ1.λ2.λ3夫々の光エネルギー1r(λ+)、
Ir(λ2)、[r(λ3)を検出し、膜厚演算器16
はこれら6つの値と上記(11) 、 (12)式と
に基づき膜付鋼板1に形成された有機1111bの膜厚
tを算出する。
第4図は、膜厚を種々変更した膜付鋼板の115!厚と
01式より求めた2ktとの関係をまとめたグラフであ
り、図中白丸は測定値を示す。なお、比較のために同一
の膜付鋼板を三波長方式の従来法に基づき(4)式によ
り求めた2ktと膜厚の関係を第5図に示す。これら両
図より理解される如く、従来では膜厚測定誤差が0.7
μmあったが、本発明によリソれを0.3μmに減少さ
せることが可能となった。
01式より求めた2ktとの関係をまとめたグラフであ
り、図中白丸は測定値を示す。なお、比較のために同一
の膜付鋼板を三波長方式の従来法に基づき(4)式によ
り求めた2ktと膜厚の関係を第5図に示す。これら両
図より理解される如く、従来では膜厚測定誤差が0.7
μmあったが、本発明によリソれを0.3μmに減少さ
せることが可能となった。
なお、上記実施例では(9)式を満足する3波長λ1゜
λ2.λ3を定めているが、本発明はこれに限らず3長
波λ1.λ2.λ3が下記(13)式満足するように定
めてもよいことは勿論である。
λ2.λ3を定めているが、本発明はこれに限らず3長
波λ1.λ2.λ3が下記(13)式満足するように定
めてもよいことは勿論である。
λ2+λ3ζ2λ1 ・・・(13)また、
上記実施例ではOa1式により膜厚を測定しているが、
本発明はこれに限らず上記(11) 、 (12)式に
より膜厚を測定しても精度よい測定が行えるのは勿論で
ある。
上記実施例ではOa1式により膜厚を測定しているが、
本発明はこれに限らず上記(11) 、 (12)式に
より膜厚を測定しても精度よい測定が行えるのは勿論で
ある。
更に、本発明は鋼板上の有機膜厚だけでなく、金属材一
般の表面上に形成された有機膜厚をも測定できるのは勿
論である。
般の表面上に形成された有機膜厚をも測定できるのは勿
論である。
以上詳述した如く、本発明による場合は金属材の反射率
、金属材の表面粗さ等の影響を受けずに有機膜厚を測定
できるので、測定値が正確であり、更に参照板の有機膜
についての光エネルギーをも用いる場合には光源が発す
る光エネルギーの経時変化、光強度検出器の温度変化が
生じても正確に有機膜厚を測定できる。また、膜付金属
材を製造する工程のオンライン測定に本発明を通用した
場合は、この測定値を膜厚請訓のために与えることによ
り、膜厚を所望値にコントロールでき、このため溶接不
良、耐蝕性不良となることがなく、歩留りを向上できる
等、本発明は優れた効果を奏する。
、金属材の表面粗さ等の影響を受けずに有機膜厚を測定
できるので、測定値が正確であり、更に参照板の有機膜
についての光エネルギーをも用いる場合には光源が発す
る光エネルギーの経時変化、光強度検出器の温度変化が
生じても正確に有機膜厚を測定できる。また、膜付金属
材を製造する工程のオンライン測定に本発明を通用した
場合は、この測定値を膜厚請訓のために与えることによ
り、膜厚を所望値にコントロールでき、このため溶接不
良、耐蝕性不良となることがなく、歩留りを向上できる
等、本発明は優れた効果を奏する。
第1図は本発明の詳細な説明図、第2図は本発明の実施
状態を示す模式図、第3図は本発明に用いる回転セクタ
例の平面図、第4図は本発明方法による測定の場合の測
定精度を示すグラフ、第5図は従来法による測定の場合
の測定精度を示すグラフ、第6図、第7図は従来技術の
内容説明図である。 1・・・膜付鋼板 9.12.14・・・干渉フィル
タ16・・・膜厚演算器 特 許 出願人 住友金属工業株式会社代理人 弁理士
河 野 登 夫La(入1)I(λ1) j町 、 、
6項4 3 図 ! 第 2 図 暎!!−cμm) 第 4団 喚厚(層重 第 5 図 反灸 第 6 図 人 (μ−) 第 7 図
状態を示す模式図、第3図は本発明に用いる回転セクタ
例の平面図、第4図は本発明方法による測定の場合の測
定精度を示すグラフ、第5図は従来法による測定の場合
の測定精度を示すグラフ、第6図、第7図は従来技術の
内容説明図である。 1・・・膜付鋼板 9.12.14・・・干渉フィル
タ16・・・膜厚演算器 特 許 出願人 住友金属工業株式会社代理人 弁理士
河 野 登 夫La(入1)I(λ1) j町 、 、
6項4 3 図 ! 第 2 図 暎!!−cμm) 第 4団 喚厚(層重 第 5 図 反灸 第 6 図 人 (μ−) 第 7 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、金属材の表面上に形成された有機膜へ赤外線を照射
してその反射光のエネルギーを検出し、或る波長で有機
膜による赤外線吸収が生じて照射光のエネルギーに対す
る検出エネルギーの値が有機膜の厚みに対応して変化す
ることを利用して有機膜の厚みを測定する方法において
、 前記赤外線吸収が生じる波長のエネルギー 及び該波長よりも長い波長と短い波長夫々のエネルギー
を検出し、赤外線吸収が生じる波長での照射光のエネル
ギーに対する検出値と、長・短2波長夫々での照射光の
エネルギーに対する検出値とにより有機膜の厚みを算出
することを特徴とする膜厚測定方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6815786A JPS62223610A (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 膜厚測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6815786A JPS62223610A (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 膜厚測定方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62223610A true JPS62223610A (ja) | 1987-10-01 |
Family
ID=13365636
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6815786A Pending JPS62223610A (ja) | 1986-03-25 | 1986-03-25 | 膜厚測定方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62223610A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001092820A1 (de) * | 2000-05-26 | 2001-12-06 | Infralytic Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der dicke von transparenten organischen schichten |
-
1986
- 1986-03-25 JP JP6815786A patent/JPS62223610A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001092820A1 (de) * | 2000-05-26 | 2001-12-06 | Infralytic Gmbh | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der dicke von transparenten organischen schichten |
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