JPS6222242A - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6222242A JPS6222242A JP60161174A JP16117485A JPS6222242A JP S6222242 A JPS6222242 A JP S6222242A JP 60161174 A JP60161174 A JP 60161174A JP 16117485 A JP16117485 A JP 16117485A JP S6222242 A JPS6222242 A JP S6222242A
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- Japan
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- magnetic recording
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は高分子フィルム基板上に強磁性合金層が被着形
成されてなる垂直磁気記録媒体の製造方法に関するもの
でおる。
成されてなる垂直磁気記録媒体の製造方法に関するもの
でおる。
近年、磁気記録媒体の媒体面に垂直な方向の残留磁化を
利用して高密度な記録を行なう垂直磁気記録方式が注目
されている。
利用して高密度な記録を行なう垂直磁気記録方式が注目
されている。
この垂直磁気記録のための垂直磁気記録媒体の代表的な
ものとしては、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する
ｃｏ−ｃｒ系合金層をスパッタリングにより形成して磁
性層とするものが知られている。
ものとしては、膜面に垂直な方向に磁化容易軸を有する
ｃｏ−ｃｒ系合金層をスパッタリングにより形成して磁
性層とするものが知られている。
次に垂直磁気記録媒体の１例を第２図により説明すると
、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、芳香族ポ
リアミド等の耐熱性高分子フィルムからなる基板■と、
この基板■の少くとも１方の表面にＣｏ−Ｃｒ系合金層
などからなる磁性層■を形成し、この磁性層■上に保護
膜■及び潤滑層に）を順に設けることにより垂直記録媒
体を完成している。この垂直記録媒体は磁気テープやフ
ロッピーディスクへの使用が考えられている。
、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、芳香族ポ
リアミド等の耐熱性高分子フィルムからなる基板■と、
この基板■の少くとも１方の表面にＣｏ−Ｃｒ系合金層
などからなる磁性層■を形成し、この磁性層■上に保護
膜■及び潤滑層に）を順に設けることにより垂直記録媒
体を完成している。この垂直記録媒体は磁気テープやフ
ロッピーディスクへの使用が考えられている。
ところで磁性層としてのＣｏ−Ｃｒ合金層はアルゴン雰
囲気中で通常のコンベンショナル・スパッタリング法あ
るいはマグネトロン・スパッタリング法で形成される。
囲気中で通常のコンベンショナル・スパッタリング法あ
るいはマグネトロン・スパッタリング法で形成される。
そして形成されたＧｏ−Ｃｒ系合金層はＣ軸に”配向さ
れた柱状構成でおり、磁気特性は主としてＣｏ−Ｃｒ系
合金層の組成によって決まる飽和磁化）Ｉｓの他に膜面
に垂直な磁気異方性エネルギーＫｕが大きく、膜面に垂
直方向の保磁力ＨＣ工が大きく高密度記録が可能となる
条件を揃えている。
れた柱状構成でおり、磁気特性は主としてＣｏ−Ｃｒ系
合金層の組成によって決まる飽和磁化）Ｉｓの他に膜面
に垂直な磁気異方性エネルギーＫｕが大きく、膜面に垂
直方向の保磁力ＨＣ工が大きく高密度記録が可能となる
条件を揃えている。
しかるに上述した製造方法によって所望の磁気特性を有
するｃｏ−ｃｒ系合金層を形成する場合、基板である高
分子フィルムを真空中で８０℃乃至２００°Ｃに加熱す
る必要がある。このため、より耐熱性のポリイミドフィ
ルムや芳香族ポリアミドフィルムの方がポリエステルフ
ィルムより成膜上取り扱いは容易でオリゴマーの表面析
出などの問題点もない。
するｃｏ−ｃｒ系合金層を形成する場合、基板である高
分子フィルムを真空中で８０℃乃至２００°Ｃに加熱す
る必要がある。このため、より耐熱性のポリイミドフィ
ルムや芳香族ポリアミドフィルムの方がポリエステルフ
ィルムより成膜上取り扱いは容易でオリゴマーの表面析
出などの問題点もない。
しかし、ポリイミドフィルムや芳香族ポリアミドフィル
ムのように流延法で成膜し、加熱処理によって溶媒を除
去する工程が必要なフィルムにおいては溶媒が残留する
という問題がある。
ムのように流延法で成膜し、加熱処理によって溶媒を除
去する工程が必要なフィルムにおいては溶媒が残留する
という問題がある。
有機溶媒の具体例として、Ｎ、Ｎ”−ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル、ホスホル
アミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチル尿
素、テトラメチレンスルホン、フェノール、モノハロゲ
ン化フェノール、モノハロゲン化クレゾール、クレゾー
ル、キシレン等が挙げられる。
ミド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチル、ホスホル
アミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチル尿
素、テトラメチレンスルホン、フェノール、モノハロゲ
ン化フェノール、モノハロゲン化クレゾール、クレゾー
ル、キシレン等が挙げられる。
このため、耐熱性の優れたポリイミドフィルムや芳香族
ポリアミドフィルムを基板として真空中で加熱し、強磁
性合金層を形成する場合、これらフィルム中に含有され
た溶媒が基板表面へにじみ出し、強磁性合金層の付着強
度が低下するという問題点がある。この付着強度の低下
は、磁気ヘッドによる同一トラック上での走行試験にお
いて、強磁性合金層の基板からのはがれやすさを伴なう
ため、垂直磁気記録媒体の寿命、゛信頼性という観点か
ら致命的な問題点である。
ポリアミドフィルムを基板として真空中で加熱し、強磁
性合金層を形成する場合、これらフィルム中に含有され
た溶媒が基板表面へにじみ出し、強磁性合金層の付着強
度が低下するという問題点がある。この付着強度の低下
は、磁気ヘッドによる同一トラック上での走行試験にお
いて、強磁性合金層の基板からのはがれやすさを伴なう
ため、垂直磁気記録媒体の寿命、゛信頼性という観点か
ら致命的な問題点である。
上記のような問題点は、スパッタリングや蒸着の前工程
として行なわれる加熱脱ガス処理のような通常の基板の
表面処理では解決できない。
として行なわれる加熱脱ガス処理のような通常の基板の
表面処理では解決できない。
例えば特開昭５９−１２９９５６号公報には、光磁気記
録媒体のアクリル樹脂基板をｉｏ−４ｒｏｒｒ以下の真
空下で７０〜８５°Ｃで１時間以上熱処理することによ
り、アクリル樹脂基板の表面の脱ガスを行ない、基板上
に形成される磁性層の磁気特性を向上させるということ
が記載されている。しかしながら、光磁気記録媒体では
、ヘッドと非接触で使用されるため、垂直磁気記録媒体
のようにヘッドと接触状態で使用させるものとは異なり
、基板と磁性層との付着強度は問題とはならない。
録媒体のアクリル樹脂基板をｉｏ−４ｒｏｒｒ以下の真
空下で７０〜８５°Ｃで１時間以上熱処理することによ
り、アクリル樹脂基板の表面の脱ガスを行ない、基板上
に形成される磁性層の磁気特性を向上させるということ
が記載されている。しかしながら、光磁気記録媒体では
、ヘッドと非接触で使用されるため、垂直磁気記録媒体
のようにヘッドと接触状態で使用させるものとは異なり
、基板と磁性層との付着強度は問題とはならない。
これに対して、ポリイミドフィルム、芳香族ポリアミド
フィルム等の膜中に残留している溶媒が主にＮ、Ｎ”−
ジメチルアセトアミド（沸点１６５℃［７６０ｍｍＨｇ
］ ６３℃［１２ｍＨ（］］）の場合、１０−４Ｔｏｒ
ｒよりもよい真空下で１００℃、１時間程度の脱ガス処
理を行なってもフィルム全体の残存溶媒量はほとんど変
らない。そのため、強磁性合金層の付着強度も改善され
ず、フィルム中の残存溶媒によると考えられている磁気
ヘッド走行経過に伴なう基板フィルムと磁性層との間の
球状部分はくりの数も軽減されない。この原因は、残存
溶媒とポリマー分子が相互作用していて溶媒がフィルム
から蒸発しにくくなっているためである。実際に上記溶
媒の場合、大気中での熱天秤装置評価結果では、２６０
℃以上でないと試料フィルムの重量変化は観測されない
。
フィルム等の膜中に残留している溶媒が主にＮ、Ｎ”−
ジメチルアセトアミド（沸点１６５℃［７６０ｍｍＨｇ
］ ６３℃［１２ｍＨ（］］）の場合、１０−４Ｔｏｒ
ｒよりもよい真空下で１００℃、１時間程度の脱ガス処
理を行なってもフィルム全体の残存溶媒量はほとんど変
らない。そのため、強磁性合金層の付着強度も改善され
ず、フィルム中の残存溶媒によると考えられている磁気
ヘッド走行経過に伴なう基板フィルムと磁性層との間の
球状部分はくりの数も軽減されない。この原因は、残存
溶媒とポリマー分子が相互作用していて溶媒がフィルム
から蒸発しにくくなっているためである。実際に上記溶
媒の場合、大気中での熱天秤装置評価結果では、２６０
℃以上でないと試料フィルムの重量変化は観測されない
。
また、表面だけでなくフィルム全体の残存溶媒量の減少
は、上記磁気ヘッド走行による球状部分はくりに加えて
、強磁性合金層及び保護膜形成時の温度上昇に伴なう残
存溶媒のフィルム内部からフィルムと強磁性合金層との
界面への熱拡散による付着強度の低下等から重要である
。
は、上記磁気ヘッド走行による球状部分はくりに加えて
、強磁性合金層及び保護膜形成時の温度上昇に伴なう残
存溶媒のフィルム内部からフィルムと強磁性合金層との
界面への熱拡散による付着強度の低下等から重要である
。
〔発明の目的〕
本発明は、上述の諸問題点に鑑みてなされたものであり
、長寿命、かつ高信頼性の垂直磁気記録媒体を得る製造
方法を提供するものである。
、長寿命、かつ高信頼性の垂直磁気記録媒体を得る製造
方法を提供するものである。
本発明は、高分子フィルム基板中に残存する溶媒量を０
．７重量％以下とするように基板を加熱する工程と、こ
の工程の後、基板上に強磁性合金層を形成する工程とを
有する垂直磁気記録媒体の製造方法である。
．７重量％以下とするように基板を加熱する工程と、こ
の工程の後、基板上に強磁性合金層を形成する工程とを
有する垂直磁気記録媒体の製造方法である。
以下本発明を完成するに至った実験について説明する。
即ち、まず残存溶媒量の異なるポリイミドフィルムの基
板上に強磁性合金層としてｃｏ−ｃｒ膜をアルゴン雰囲
気中でスパッタリング法で５０００人形成し、Ｃ０−Ｃ
ｒ１（の基板への付着強度を評価した。
板上に強磁性合金層としてｃｏ−ｃｒ膜をアルゴン雰囲
気中でスパッタリング法で５０００人形成し、Ｃ０−Ｃ
ｒ１（の基板への付着強度を評価した。
このフィルム中の残存溶媒量の測定方法としては、ガス
クロマトグラフィ法、溶媒抽出法、熱天秤法等があるが
一番簡便である熱天秤法によって残存溶媒量の蒸発に伴
なう重量変化から求めた。
クロマトグラフィ法、溶媒抽出法、熱天秤法等があるが
一番簡便である熱天秤法によって残存溶媒量の蒸発に伴
なう重量変化から求めた。
この場合、Ｃｏ−Ｃｒ膜の形成は条件を一定とし、かつ
ポリイミドフィルムは厚さおよび表面性などの同一なも
のを用い、残存溶媒量だけを変化したものを使用した。
ポリイミドフィルムは厚さおよび表面性などの同一なも
のを用い、残存溶媒量だけを変化したものを使用した。
この条件により作製した垂直磁気記録媒体については、
まずＣｏ−Ｃｒ膜とポリイミドフィルムとの間の付着強
度を次のような方法で評価した。即ち、格子状に切り目
をいれたｃｏ−ｃｒ膜に付着力が６ Ｋｇ ／ ｃｒＡ
の接着テープをｃｏ−ｃｒ膜の表面に均一に接着し、一
定速度、一定方向へ引きはがし、ポリイミドフィルム上
に残存しているＣｏ−Ｃｒ膜の面積量を求めることによ
って相対付着強度を評価した。
まずＣｏ−Ｃｒ膜とポリイミドフィルムとの間の付着強
度を次のような方法で評価した。即ち、格子状に切り目
をいれたｃｏ−ｃｒ膜に付着力が６ Ｋｇ ／ ｃｒＡ
の接着テープをｃｏ−ｃｒ膜の表面に均一に接着し、一
定速度、一定方向へ引きはがし、ポリイミドフィルム上
に残存しているＣｏ−Ｃｒ膜の面積量を求めることによ
って相対付着強度を評価した。
その結果、残存溶媒１ｊ０．７ｗｔ％以下のポリイミド
フィルムではＣｏ−Ｃｒ膜のはがれが起きなかったが、
１．０重量％以上のポリイミドフィルムでは３０乃至８
０％程度のはがれが生じた。この結果からＣｏ−Ｃｒ膜
の相対付着強度が残存溶媒量０．７重量％を越すと著し
く低下することがわかった。
フィルムではＣｏ−Ｃｒ膜のはがれが起きなかったが、
１．０重量％以上のポリイミドフィルムでは３０乃至８
０％程度のはがれが生じた。この結果からＣｏ−Ｃｒ膜
の相対付着強度が残存溶媒量０．７重量％を越すと著し
く低下することがわかった。
次に、ｃｏ−ｃｒ膜とポリイミドフィルムとの付着強度
と関連があると思われる耐久性寿命の変化を調べた。こ
の評価はＣｏ−Ｃｒ膜上にＡｕｚＯ３保護膜を２００人
程度形成し、更にフロロカーボンを潤滑層として塗布し
た垂直磁気記録媒体をＷｉ気ヘッドを用いて同一トラッ
ク上を走行させ、寿命にいいたるまでの走行回数を測定
することによって行なった。第１図にポリイミドフィル
ムの残存溶媒量と走行回数の結果、得られた曲線■を示
す。この測定結果はサンプル数をそれぞれ１０個とした
時の平均値である。この曲線■は付着強度試験とよく対
応している。
と関連があると思われる耐久性寿命の変化を調べた。こ
の評価はＣｏ−Ｃｒ膜上にＡｕｚＯ３保護膜を２００人
程度形成し、更にフロロカーボンを潤滑層として塗布し
た垂直磁気記録媒体をＷｉ気ヘッドを用いて同一トラッ
ク上を走行させ、寿命にいいたるまでの走行回数を測定
することによって行なった。第１図にポリイミドフィル
ムの残存溶媒量と走行回数の結果、得られた曲線■を示
す。この測定結果はサンプル数をそれぞれ１０個とした
時の平均値である。この曲線■は付着強度試験とよく対
応している。
この場合、残存溶媒量の多いポリイミドフィルム上に形
成したＣｏ−Ｃｒ膜の方が局部的なはがれが起き易いた
めか、ドロップアウトの増加速度が非常に速くなるとい
う傾向にある。
成したＣｏ−Ｃｒ膜の方が局部的なはがれが起き易いた
めか、ドロップアウトの増加速度が非常に速くなるとい
う傾向にある。
また、フィルム基体の内部からＣｏ−Ｃｒ膜との界面へ
の溶媒の熱拡散による付着強度低下の調査した。結果を
第３図に示す。これは保護膜形成時の温度上昇に伴なう
溶媒の熱拡散によるフィルムとＣｏ−Ｃｒ膜の付着強度
への影響を調べる上で重要である。基板温度が高い方が
媒体のカール、保護膜の膜質等の観点から望ましい。第
３図は０．３重量％と１．２６重重量の残存溶媒量のポ
リイミドフィルムにＣｏ−Ｃｒ膜を形成し、各温度であ
る時間加熱したのちの相対付着強度低下率を示したもの
である。ここで、相対付着強度の低下率とは、加熱処理
する前の相対付着強度を１００％とした場合の相対付着
強度を示している。残存溶媒量が０．３重量％のもので
は２００℃、２時間の加熱処理後も相対付着強度に変化
はみられない。しかしながら１．２６重量％のものでは
、１５０℃の温度では５０分以上、１７５°Ｃでは１０
分以上、２００℃では７分以上で相対付着強度の著しい
低下がおきる。このことは、フィルムとＣｏ−Ｃｒ膜と
の界面まで拡散してきた溶媒が薄い層を形成し、付着強
度をざらに下げるものと考えられる。
の溶媒の熱拡散による付着強度低下の調査した。結果を
第３図に示す。これは保護膜形成時の温度上昇に伴なう
溶媒の熱拡散によるフィルムとＣｏ−Ｃｒ膜の付着強度
への影響を調べる上で重要である。基板温度が高い方が
媒体のカール、保護膜の膜質等の観点から望ましい。第
３図は０．３重量％と１．２６重重量の残存溶媒量のポ
リイミドフィルムにＣｏ−Ｃｒ膜を形成し、各温度であ
る時間加熱したのちの相対付着強度低下率を示したもの
である。ここで、相対付着強度の低下率とは、加熱処理
する前の相対付着強度を１００％とした場合の相対付着
強度を示している。残存溶媒量が０．３重量％のもので
は２００℃、２時間の加熱処理後も相対付着強度に変化
はみられない。しかしながら１．２６重量％のものでは
、１５０℃の温度では５０分以上、１７５°Ｃでは１０
分以上、２００℃では７分以上で相対付着強度の著しい
低下がおきる。このことは、フィルムとＣｏ−Ｃｒ膜と
の界面まで拡散してきた溶媒が薄い層を形成し、付着強
度をざらに下げるものと考えられる。
以上の結果からｃｏ−ｃｒなとの強磁性合金層をスパッ
タリング法などで高分子フィルム基板上に形成して磁気
媒体を作成する場合、高分子フィルム基板中の残存溶媒
量が０．７重量％以下のものを用いることが必要であり
、そうすることによって垂直磁気記録媒体の耐久性寿命
が飛躍的に改善される。
タリング法などで高分子フィルム基板上に形成して磁気
媒体を作成する場合、高分子フィルム基板中の残存溶媒
量が０．７重量％以下のものを用いることが必要であり
、そうすることによって垂直磁気記録媒体の耐久性寿命
が飛躍的に改善される。
また以上の理由により使用する高分子フィルム基板中の
残存溶媒量を０．７重量％以下にしなければならない。
残存溶媒量を０．７重量％以下にしなければならない。
もし、最初から残存溶媒の少ないフィルムの入手が難し
い場合は、大気中または真空中での加熱前処理をして０
．７重量％以下にしてから、強磁性合金層を形成しなけ
ればならない。
い場合は、大気中または真空中での加熱前処理をして０
．７重量％以下にしてから、強磁性合金層を形成しなけ
ればならない。
以下に高分子フィルム基板中の残存溶媒量を減少させる
加熱処理条件の例について説明する。加熱処理条件の決
定には、特に大気中処理の場合において、熱天秤装置に
よる溶媒蒸発に伴なう重量変化測定が有効である。当然
残存している溶媒の種類によって処理温度を変える必要
がおる。そこで処理温度は熱天秤測定結果の重量変化が
始まる温度以上に設定し、処理時間に伴なって残存溶媒
量を調べ処理時間を決定するとよい。ただし、真空装置
内で行なう場合は温度は上記よりも当然低くてもよい。
加熱処理条件の例について説明する。加熱処理条件の決
定には、特に大気中処理の場合において、熱天秤装置に
よる溶媒蒸発に伴なう重量変化測定が有効である。当然
残存している溶媒の種類によって処理温度を変える必要
がおる。そこで処理温度は熱天秤測定結果の重量変化が
始まる温度以上に設定し、処理時間に伴なって残存溶媒
量を調べ処理時間を決定するとよい。ただし、真空装置
内で行なう場合は温度は上記よりも当然低くてもよい。
例えばＮ、Ｎ′−ジメチルアセトアミドが主にポリイミ
ドフィルム中に残留している場合、熱天秤の測定結果に
よると毎分１５℃の昇温速度で２６０℃程度から重量変
化がはじまり、３６０℃程度で終了する。この結果に基
づいて種々の条件の実験を行ない処理法を決定した。
ドフィルム中に残留している場合、熱天秤の測定結果に
よると毎分１５℃の昇温速度で２６０℃程度から重量変
化がはじまり、３６０℃程度で終了する。この結果に基
づいて種々の条件の実験を行ない処理法を決定した。
従って、ポリインドフィルムを例にとれば、大気中では
２６０℃以上に加熱するとか好ましい。また真空度１０
−５Ｔｏｒｒでは２２０℃以上に加熱することが好まし
い。なお、加熱温度の上限は、高分子フィルムの分解温
度によって制限される。一般的に、高分子フィルム基板
中の残存溶媒量を減少させる加熱する処理は、大気中で
行なうのが、処理設備を容易に構成でき実用的である。
２６０℃以上に加熱するとか好ましい。また真空度１０
−５Ｔｏｒｒでは２２０℃以上に加熱することが好まし
い。なお、加熱温度の上限は、高分子フィルムの分解温
度によって制限される。一般的に、高分子フィルム基板
中の残存溶媒量を減少させる加熱する処理は、大気中で
行なうのが、処理設備を容易に構成でき実用的である。
実施例１
残存溶媒量が１．３重量％、厚ざ７５凱のポリイミドフ
ィルムを、大気中で３２０℃、１時間加熱処理を施した
。この結果、残存溶媒量は０．３重量％でめった。第２
図に示すように、このポリイミドフィルムを基体（ト）
として、両面に磁性層■としてＣｏ−Ｃｒ合金層を直流
マグネトロンスパッタリングにより厚さ０．５ＪＪＩＩ
Ｉ、保護層■としてＡＪ２２０３をスパッタリングによ
り厚さ２００人、また潤滑層（へ）としてフロロカーボ
ンを２００Å以下の厚さにスピン塗布して垂直磁気記録
媒体を作成した。
ィルムを、大気中で３２０℃、１時間加熱処理を施した
。この結果、残存溶媒量は０．３重量％でめった。第２
図に示すように、このポリイミドフィルムを基体（ト）
として、両面に磁性層■としてＣｏ−Ｃｒ合金層を直流
マグネトロンスパッタリングにより厚さ０．５ＪＪＩＩ
Ｉ、保護層■としてＡＪ２２０３をスパッタリングによ
り厚さ２００人、また潤滑層（へ）としてフロロカーボ
ンを２００Å以下の厚さにスピン塗布して垂直磁気記録
媒体を作成した。
この垂直磁気記録媒体は寿命試験を行なったところ、１
０００万パス以上の寿命特性が得られた。
０００万パス以上の寿命特性が得られた。
実施例２
残存溶媒量が１．３重量％、厚さ７５即のポリイミドフ
ィルムを、真空度１０−５丁ｏｒｒ、 ２５０℃１３
０分間熱処理を施した。この結果、残存溶媒量は、上述
実施例と同様に０．３重量％であった。以下上述の実施
例と同様にして垂直磁気記録媒体を作成した。この垂直
磁気記録媒体は、１０００万パス以上の寿命特性が得ら
れた。
ィルムを、真空度１０−５丁ｏｒｒ、 ２５０℃１３
０分間熱処理を施した。この結果、残存溶媒量は、上述
実施例と同様に０．３重量％であった。以下上述の実施
例と同様にして垂直磁気記録媒体を作成した。この垂直
磁気記録媒体は、１０００万パス以上の寿命特性が得ら
れた。
実施例３
残存溶媒量が２重量％、厚さ５０−の芳香族ポリアミド
フィルムを、大気中３００℃，２０分間熱処理を施した
。この残存溶媒量は０．５重量％であった。
フィルムを、大気中３００℃，２０分間熱処理を施した
。この残存溶媒量は０．５重量％であった。
以下上述の実施例と同様にして垂直磁気記録媒体を作成
した。この垂直磁気記録媒体も、１ｏｏｏ万パス以上の
寿命特性が得られた。
した。この垂直磁気記録媒体も、１ｏｏｏ万パス以上の
寿命特性が得られた。
また実施例では強磁性合金層がＣｏ−Ｃｒ膜単層の場合
について述べたが、これに限定されるものではなく Ｃ
ｏ−Ｃｒ膜下にＦｅ−旧合金を基とするパーマロイ等の
軟磁性層を裏打ちした場合にも本発明が適用されるのは
勿論である。またＣｏ−Ｃｒ合金のみでなく、Ｃｏを基
とする他の強磁性合金層などをスパッタリング或は蒸着
法によって磁性層を形成する場合にもそのまま適用でき
る。
について述べたが、これに限定されるものではなく Ｃ
ｏ−Ｃｒ膜下にＦｅ−旧合金を基とするパーマロイ等の
軟磁性層を裏打ちした場合にも本発明が適用されるのは
勿論である。またＣｏ−Ｃｒ合金のみでなく、Ｃｏを基
とする他の強磁性合金層などをスパッタリング或は蒸着
法によって磁性層を形成する場合にもそのまま適用でき
る。
（発明の効果〕
上述のように本発明によれば高分子フィルムの残存溶媒
量を０．７重量％以下にすることにより磁性層の付着強
度を上げることにより高野命、高信頼性の垂直磁気記録
媒体を提供することができる。
量を０．７重量％以下にすることにより磁性層の付着強
度を上げることにより高野命、高信頼性の垂直磁気記録
媒体を提供することができる。
第１図は本発明の垂直磁気記録媒体のフィルムの残存溶
媒量と走行回数の関係を示す図、第２図は垂直磁気記録
媒体の断面図、第３図は加熱処理によるＣｏ−Ｃｒ膜の
相対付着強度低下率を示す図である。 １・・・基体 ２・・・磁、性層３・・・保護
膜 ４・・・潤滑層代理人 弁理士 則 近 憲
佑 同 大胡典夫 残奇溶：＠３ｋ （ｗｔ％） 第１図 第２図 第３図
媒量と走行回数の関係を示す図、第２図は垂直磁気記録
媒体の断面図、第３図は加熱処理によるＣｏ−Ｃｒ膜の
相対付着強度低下率を示す図である。 １・・・基体 ２・・・磁、性層３・・・保護
膜 ４・・・潤滑層代理人 弁理士 則 近 憲
佑 同 大胡典夫 残奇溶：＠３ｋ （ｗｔ％） 第１図 第２図 第３図
Claims (2)
- （１）残存溶媒を含有する高分子フィルムからなる基板
を加熱して前記基板中に残存する前記溶媒を０．７重量
％以下にする第１の工程と、この工程の後前記基板上に
強磁性合金からなる磁性層を形成する第２の工程とを有
する垂直磁気記録媒体の製造方法。 - （２）前記高分子フィルムがポリイミドフィルムでなり
、且つ前記第１の工程は大気中で前記基板を２６０℃以
上に加熱する工程を含むことを特徴とする特許請求の範
囲第１項記載の垂直磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16117485A JPH0648521B2 (ja) | 1985-07-23 | 1985-07-23 | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
| KR1019850008243A KR890004258B1 (ko) | 1984-11-14 | 1985-11-05 | 수직자기기록 매체 및 그 제조방법 |
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6226637A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-04 | Akai Electric Co Ltd | パ−マロイ薄膜軟磁性層を有する垂直磁気記録媒体の作製方法 |
| JPH0887737A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-04-02 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-07-23 JP JP16117485A patent/JPH0648521B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6226637A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-04 | Akai Electric Co Ltd | パ−マロイ薄膜軟磁性層を有する垂直磁気記録媒体の作製方法 |
| JPH0664735B2 (ja) * | 1985-07-26 | 1994-08-22 | 赤井電機株式会社 | パ−マロイ薄膜軟磁性層を有する垂直磁気記録媒体の作製方法 |
| JPH0887737A (ja) * | 1994-09-14 | 1996-04-02 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| JPH0648521B2 (ja) | 1994-06-22 |
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