JPS62217494A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPS62217494A
JPS62217494A JP61058218A JP5821886A JPS62217494A JP S62217494 A JPS62217494 A JP S62217494A JP 61058218 A JP61058218 A JP 61058218A JP 5821886 A JP5821886 A JP 5821886A JP S62217494 A JPS62217494 A JP S62217494A
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JP
Japan
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flip
flop
memory device
semiconductor memory
transistors
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JP61058218A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoichiro Kawashima
将一郎 川嶋
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Abstract

PURPOSE:To disuse a power feed line and to improve the degree of integration of a semiconductor memory device by connecting word lines, transfer gates, and flip-flops. CONSTITUTION:A semiconductor memory device 1 consists of plural word lines 2, plural couples of bit lines 3 and 4, and plural memory cells 5, and the cells 5 each consist of a flip-flop 51, and transfer gates Q52 and Q53. The lines 2, the gates of the transfer gates Q52 and Q53, and power terminals 51a and 51b of the flip-flops 51 are connected, and the sources S of the transfer gates Q52 and Q53 are connected to the lines 3. When no cell 5 is selected, the flip-flop 51 operates with electric power supplied from the line 2 and when a cell 5 is selected, the flip-flop 51 operates by being powered on through the line 3. Thus, there is no special feed line required, so the degree of integration of the device 1 is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 本発明は複数のワード線と、複数対のビット線と、該各
ワード線と該多対のビット線とに接続された複数のメモ
リセルと、を有する半導体記憶装置であって、前記メモ
リセルは一対の一導電形のトランジスタを備えたフリッ
プフロップと該フリップフロップのトランジスタと反対
導電形のトランジスタよりなる一対のトランスファゲー
トとを具備し、前記ワード線が前記トランスファゲート
のゲート並びに前記フリップフロップの電源端子に接続
されるように構成することにより、電源給電線を不要と
して半導体記1、a装置の集積度を向上させることを可
能とする。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] The present invention includes a plurality of word lines, a plurality of pairs of bit lines, and a plurality of memory cells connected to each of the word lines and the multiple pairs of bit lines. The memory cell includes a pair of flip-flops each having a transistor of one conductivity type, and a pair of transfer gates each including a transistor of the opposite conductivity type to the transistor of the flip-flop, is connected to the gate of the transfer gate and the power supply terminal of the flip-flop, thereby making it possible to eliminate the need for a power supply line and improve the degree of integration of the semiconductor device 1.a.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は半導体記憶装置に関し、特に、複数のワード線
と、複数のビット線と、該各ワード線と該多対のビット
線とに接続された複数のメモリセルとを有する半導体記
憶装置に関する。
The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device having a plurality of word lines, a plurality of bit lines, and a plurality of memory cells connected to each word line and the multiple pairs of bit lines.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第2図は従来の半導体記憶装置の一例を示す回路図であ
る。
FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device.

従来の半導体記憶装置11は、複数のり−1綿12と、
複数対のビット線13および14と、これら各ワード線
12と多対のピッ1−線13および14とに接続された
複数のメモリセル15とを有する。また、各メモリセル
15は、フリップフロップ151 と、n型Mis)ラ
ンジスタよりなる一対のトランスファゲートQ、5□お
よびQ、、、とで構成されている。
The conventional semiconductor memory device 11 includes a plurality of glue-1 cotton 12,
It has a plurality of pairs of bit lines 13 and 14 and a plurality of memory cells 15 connected to each of these word lines 12 and multiple pairs of pin 1-lines 13 and 14. Further, each memory cell 15 is composed of a flip-flop 151 and a pair of transfer gates Q, 5□ and Q, . . . each consisting of an n-type Mis) transistor.

フリップフロップ151 は、交差接続された一対のn
型MTSトランジスタQ、6.、およびQ、9.□と、
該トランジスタQ、7..およびQISI2の各ドレイ
ンと電源給電線16との間にそれぞれ設けられた一対の
抵抗素子RIS+3およびRIS+4とで構成されてい
る。このフリップフロップ151 は電源電圧■、。
The flip-flop 151 has a pair of cross-connected n
Type MTS transistor Q, 6. , and Q, 9. □ and
The transistor Q, 7. .. and a pair of resistance elements RIS+3 and RIS+4 provided between each drain of QISI2 and the power supply line 16, respectively. This flip-flop 151 has a power supply voltage of ■.

が与えられている電源給電線1Gにフリップフロップ1
51 の電源端子151aおよび152aで接続され、
これにより電源の供給を受けて記憶データを保持するよ
うになされている。そして、例えば、フリップフロップ
151に記憶されているデータを読出す場合は、ワード
線12に高レベル信男を与えて2つのトランスフアゲ−
)Q152およびQ、53のゲートを開く。そして、一
対のビット綿13および14に印加された読出し時電圧
により、フリップフロップ15】 におけるトランジス
タQ Hs 1 +およびQ8,1□の電位状態は各ト
ランスファゲートQ1,2およびQ、5.をjm過して
一対のビット線13および14に現われる。このビット
線I3および+4の電位状態は、さらに外部に設けられ
た読出し増幅器(図示しない)で増幅され出力として取
出されることになる。
Flip-flop 1 is connected to the power supply line 1G which is given
51 are connected by power terminals 151a and 152a,
This allows it to receive power and hold stored data. For example, when reading data stored in the flip-flop 151, a high level signal is applied to the word line 12 and two transfer gates are connected.
) Open the gates of Q152 and Q,53. Then, the potential state of the transistors Q Hs 1 + and Q8,1□ in the flip-flop 15 is changed to the respective transfer gates Q1, 2 and Q, 5 . jm and appears on a pair of bit lines 13 and 14. The potential states of bit lines I3 and +4 are further amplified by an external read amplifier (not shown) and taken out as an output.

以上において、フリップフロップ151の電源は常に電
源給電線16から供給されている。
In the above, the power to the flip-flop 151 is always supplied from the power supply line 16.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

」一連したように、従来の半導体記憶装置11は複数の
ワード線12と、複数対のビット線13および14と、
複数のメモリセル15と、を具備しく4) ているが、さらに該各メモリセル15のフリップフロッ
プ15】に電源を供給するための電源給電線16を設け
なければならない。
'', the conventional semiconductor memory device 11 includes a plurality of word lines 12, a plurality of pairs of bit lines 13 and 14,
4) A plurality of memory cells 15 are provided, but a power supply line 16 must be further provided for supplying power to the flip-flops 15 of each memory cell 15.

ところで、半導体記憶装置の集積度を向−卜させるため
には素子および配線の数を少なくする方が有利であるが
、従来の半導体記憶装置11は電源給電線16を必要と
しているために、集積度の向上に対する障害となってい
る。
Incidentally, in order to improve the degree of integration of a semiconductor memory device, it is advantageous to reduce the number of elements and wiring, but since the conventional semiconductor memory device 11 requires a power supply line 16, it is difficult to integrate it. This has become an impediment to improving the level of performance.

本発明は上述した問題点に鑑み、一対の一導電形のトラ
ンジスタを備えたフリップフロップと、該フリップフロ
ップのトランジスタと反対導電形のトランジスタよりな
る一対のトランスファゲートとを具備するメモリセルを
使用し、ワード線を前記トランスファゲートのゲート並
びに前記フリップフロップの電源端子に接続することに
より、電源給電線を不要として半導体記憶装置の集積度
を向上させることを目的とする。
In view of the above-mentioned problems, the present invention uses a memory cell comprising a flip-flop having a pair of transistors of one conductivity type, and a pair of transfer gates comprising a transistor of the opposite conductivity type to the transistors of the flip-flop. The present invention aims to improve the degree of integration of a semiconductor memory device by connecting a word line to the gate of the transfer gate and the power supply terminal of the flip-flop, thereby eliminating the need for a power supply line.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明によれば、複数のワード線2と、複数対のビット
線3および4と、該各ワード綿2と該多対のビット線3
および4とに接続された複数のメモリセル5と、を有す
る半導体記1.a装置1であって、前記各メモリセル5
は、交差接続された一対の一導電形のトランジスタQ5
目およびQ512を備えたフリップフロップ51と、該
フリップフロップ51のトランジスタQ511およびQ
l、2と前記ビット線3および4とに接続され、該フリ
ップフロップ51のトランジスタQ、11およびQ5□
とは反対導電形のトランジスタよりなる一対のトランス
ファゲートQ5□およびQ6.と、を具備し、前記ワー
ド線2が前記トランスファゲートC15zおよびQ53
のゲート並びに前記フリップフロップ51の電源端子5
1aおよび51bに接続されている半導体記憶装置1が
提供される。
According to the present invention, a plurality of word lines 2, a plurality of pairs of bit lines 3 and 4, each word line 2 and the multiple pairs of bit lines 3,
and a plurality of memory cells 5 connected to the semiconductor device 1. a device 1, in which each of the memory cells 5
is a pair of cross-connected transistors Q5 of one conductivity type.
A flip-flop 51 with an eye and a transistor Q512, and transistors Q511 and Q of the flip-flop 51.
transistors Q, 11 and Q5□ of the flip-flop 51 are connected to the bit lines 3 and 4 and the bit lines 3 and 4;
A pair of transfer gates Q5□ and Q6. and the word line 2 is connected to the transfer gates C15z and Q53.
gate and the power supply terminal 5 of the flip-flop 51
A semiconductor memory device 1 is provided which is connected to 1a and 51b.

〔作 用〕[For production]

上述の構成を有する本発明の半導体記憶装置によれば、
成るメモリセルが選択されていないときはワード線から
前記メモリセルのフリップフロンプに電源が供給され、
また、前記メモリセルが選択されているときはリード状
態電圧にある一対のビット線からトランスファゲートを
1lll シー(前記フリップフロップに電源が供給さ
れ、前記フリップフロップの記憶データは保持される。
According to the semiconductor memory device of the present invention having the above configuration,
When a memory cell consisting of the following memory cells is not selected, power is supplied from the word line to the flip-flop of the memory cell;
Further, when the memory cell is selected, the transfer gate is connected to the transfer gate from the pair of bit lines at the read state voltage (power is supplied to the flip-flop, and the data stored in the flip-flop is held).

そのため、電源給電線が不要となり半導体記憶装置の集
積度を向上させることができる。
Therefore, a power supply line is not required, and the degree of integration of the semiconductor memory device can be improved.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照して本発明に係る半導体記憶装置の実
施例を説明する。
Embodiments of a semiconductor memory device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を示す
回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.

半導体記憶装置1は、複数のワード線2と、複数対のビ
ット線3および4と、これら各ワード線2と多対のビッ
ト線3および4とに接続された複数のメモリセル5とを
有する。
The semiconductor memory device 1 includes a plurality of word lines 2, a plurality of pairs of bit lines 3 and 4, and a plurality of memory cells 5 connected to each word line 2 and the multiple pairs of bit lines 3 and 4. .

各メモリセル5は、フリップフロップ51と、p型MT
S)ランジスタよりなる一対のトランスファゲートQ5
□およびQ53とで構成されている。
Each memory cell 5 includes a flip-flop 51 and a p-type MT.
S) A pair of transfer gates Q5 consisting of transistors
□ and Q53.

フリップフロップ51は、交差接続された一対のn型M
IS)ランジスタQ511およびQ51□と、該トラン
ジスタQ51.およびQ5.、の各F’ l/インとワ
ード線2との間にそれぞれ設けられた一対の抵抗素子R
513およびR5I4 とで構成されている。
The flip-flop 51 includes a pair of cross-connected n-type M
IS) transistors Q511 and Q51□ and the transistors Q51. and Q5. , a pair of resistance elements R provided between each F'l/in of , and the word line 2.
513 and R5I4.

抵抗素子R113の一端はフリップフロップ5Iの電源
端子51aでワード線2に接続され、また、抵抗素子R
313の他端はトランスフアゲ−)Qszのドレイン、
トランジスタQ511 のドレインおよびトランジスタ
QsI2のゲートに共通接続されている。同様に抵抗素
子R5,4の一端はフリップフロップ51の電源端子5
1bでワード線2に接続され、また、抵抗素子R614
の他端はトランスファゲートQS3のトレイン、トラン
ジスタQSI2のドレインおよびトランジスタQ511
のゲートに共通接続されている。ここで、トランジスタ
05目およびQ5I□のソースにはそれぞれ低レベルの
電圧VS3が印加されている。
One end of the resistance element R113 is connected to the word line 2 through the power supply terminal 51a of the flip-flop 5I, and the resistance element R113
The other end of 313 is the drain of transfer gate) Qsz,
It is commonly connected to the drain of transistor Q511 and the gate of transistor QsI2. Similarly, one end of the resistive element R5, 4 is connected to the power supply terminal 5 of the flip-flop 51.
1b to word line 2, and resistor element R614
The other end is the train of transfer gate QS3, the drain of transistor QSI2, and the transistor Q511.
are commonly connected to the gates. Here, a low level voltage VS3 is applied to the sources of transistor 05 and Q5I□, respectively.

トランスファゲートQ、2のゲートはワード線2に接続
され、またトランスファゲートQ5□のソースはビット
線3に接続されてお幻、同様に、トランスファゲートQ
5□のゲートはワード線2に接続され、またトランスフ
ァゲートQS3のソースはビット線4に接続されている
The gate of transfer gate Q,2 is connected to word line 2, and the source of transfer gate Q5□ is connected to bit line 3.Similarly, transfer gate Q
The gate of 5□ is connected to the word line 2, and the source of the transfer gate QS3 is connected to the bit line 4.

次に、上述した半導体装置の動作について説明する。Next, the operation of the above-described semiconductor device will be explained.

まず、メモリセル15が選択されていないとき、ワード
線2には電源電圧VDDと等しい高レベルの信号が印加
されトランスファゲートQ、2およびQS3はカットオ
フの状態となるが、フリップフロップ51にはワード線
2から電源が供給されることになる。すなわち、ワード
線2に印加された電源電圧VDn(高レベル信号)は、
ワード線2に電源端子51aで接続された抵抗素子R1
1I3およびワード線2に電源端子51bで接続された
抵抗素子R5I4を介して2つのトランジスタQ、、、
およびQ、12に供給される。メモリセル15が選択さ
れていないとき、ワード線2から供給される電源により
、フリップフロップ51はその記憶データが保持される
First, when the memory cell 15 is not selected, a high-level signal equal to the power supply voltage VDD is applied to the word line 2, and the transfer gates Q, 2, and QS3 are in a cutoff state, but the flip-flop 51 is in a cut-off state. Power will be supplied from word line 2. That is, the power supply voltage VDn (high level signal) applied to the word line 2 is
Resistance element R1 connected to word line 2 through power supply terminal 51a
1I3 and word line 2 through a resistive element R5I4 connected to the power supply terminal 51b, two transistors Q,
and Q, 12. When the memory cell 15 is not selected, the flip-flop 51 retains its stored data by the power supplied from the word line 2.

次に、メモリセル15が選択されているとき、ワード線
2には電圧VS3の低レベルの信号が印加されトランス
ファゲートQ5□およびQ5.はオンの状態となる。こ
のとき、フリップフロップ51はワード線2から電源の
供給を受けることができなくなるが、このメモリセル1
5が選択されているときはトランスファゲートQ5□お
よびQ53がオンの状態となっており、一対のビット線
3および4に印加されている電圧がトランジスタQ、1
1およびQ51□に与えられる。すなわち、一対のビッ
ト綿3および4に印加された読出し時電圧は、ビット線
3に接続されたトランスファゲートQ、2およびビット
線3に接続されたトランスファゲートQ、3を介して2
つのトランジスタQ5□およびQ5.。に供給される。
Next, when the memory cell 15 is selected, a low level signal of the voltage VS3 is applied to the word line 2, and the transfer gates Q5□ and Q5. is in the on state. At this time, the flip-flop 51 cannot receive power from the word line 2, but the memory cell 1
5 is selected, transfer gates Q5□ and Q53 are on, and the voltage applied to the pair of bit lines 3 and 4 is applied to the transistors Q and 1.
1 and Q51□. That is, the read voltage applied to the pair of bit lines 3 and 4 is applied to the bit lines 3 and 4 through the transfer gate Q, 2 connected to the bit line 3 and the transfer gate Q, 3 connected to the bit line 3.
two transistors Q5□ and Q5. . supplied to

メモリセル15が選択されているとき、一対のビット線
3および4から供給される電源により、フリップフロッ
プ51はその記憶データが保持される。
When the memory cell 15 is selected, the flip-flop 51 retains its stored data by power supplied from the pair of bit lines 3 and 4.

上述の実施例において、メモリセル5のトランスファゲ
ートQS2およびQSIをp型MISトランンジスタQ
、1.およびQ、1□をn型Mis)ランジスタとして
説明したが、メモリセル5のトランスファゲートQ、2
およびQS3をn型MISトランジスタとし、また、フ
リップフロップ51のトランジスタQ5□およびQ5,
2をp型MISI−ランジスタとすることもできる。・
二のとき、フロップ”フロップ51のp型MTS)ラン
ジスタQSI! ’および051□′のドレインには電
源電圧VD、を供給すると共に、ワード線2はメモリセ
ルが選択されたときに電源電圧VDD(高レベル信号)
が印加されるように構成する必要がある。
In the above embodiment, the transfer gates QS2 and QSI of the memory cell 5 are connected to the p-type MIS transistor Q.
, 1. Although the transfer gates Q, 2 and Q, 1□ of the memory cell 5 have been described as n-type Mis) transistors,
and QS3 are n-type MIS transistors, and transistors Q5□ and Q5 of the flip-flop 51,
2 can also be a p-type MISI-transistor.・
2, the power supply voltage VD is supplied to the drains of the p-type MTS transistors QSI! high level signal)
must be configured so that it is applied.

また、従来より知られているように、フリップフロップ
51の抵抗素子R513およびR5,4は抵抗素子(例
えば、高抵抗多結晶シリコン抵抗)とせず、トランジス
タ(例えば、デプリーション型MIS)ランジスタ)を
使用することができるのはいうまでもない。
Furthermore, as is conventionally known, the resistive elements R513 and R5,4 of the flip-flop 51 are not resistive elements (for example, high-resistance polycrystalline silicon resistors), but are transistors (for example, depletion type MIS transistors). It goes without saying that you can.

(発明の効果〕 以上、詳述したように、本発明に係る半導体記他装置は
、一対の一導電形のトランジスタを備えたフリップフロ
ップと、該フリップフロップのトランジスタと反対導電
形のトランジスタよりなる一対のトランスファゲートと
を具備するメモリセルを使用し、ワード線を前記トラン
スファゲートのゲート並びに前記フリップフロップの電
源端子に接続することにより、電源給電線を不要として
半導体記憶装置の集積度を向上させることができる。
(Effects of the Invention) As described above in detail, the semiconductor memory device according to the present invention includes a flip-flop including a pair of transistors of one conductivity type, and a transistor of the opposite conductivity type to the transistor of the flip-flop. By using a memory cell having a pair of transfer gates and connecting a word line to the gate of the transfer gate and the power supply terminal of the flip-flop, the degree of integration of the semiconductor memory device is improved by eliminating the need for a power supply line. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る半導体記憶装置の一実施例を示す
回路図、 第2図は従来の半導体記憶装置の一例を示す回路図であ
る。 1・・・半導体記憶装置、 2・・・ワード線、 3.4・・・ビット綿、 5・・・メモリセル、 51・・・フリップフロップ、 Q5□、Q5.・・・トランスファゲート、Q5.、、
Q、、。・・・トランジスタ、Rs+1. Rs+a・
・・抵抗素子。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an example of a conventional semiconductor memory device. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Semiconductor memory device, 2...Word line, 3.4...Bit cotton, 5...Memory cell, 51...Flip-flop, Q5□, Q5. ...Transfer Gate, Q5. ,,
Q... ...transistor, Rs+1. Rs+a・
...Resistance element.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、複数のワード線と、複数対のビット線と、該各ワー
ド線と該各対のビット線とに接続された複数のメモリセ
ルと、を有する半導体記憶装置であって、 前記各メモリセルは、 交差接続された一対の一導電形のトランジスタを備えた
フリップフロップと、 該フリップフロップのトランジスタと前記ビット線とに
接続され、該フリップフロップのトランジスタとは反対
導電形のトランジスタよりなる一対のトランスファゲー
トと、を具備し、 前記ワード線が前記トランスファゲートのゲート並びに
前記フリップフロップの電源端子に接続されている半導
体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A semiconductor memory device having a plurality of word lines, a plurality of pairs of bit lines, and a plurality of memory cells connected to each word line and each pair of bit lines. Each of the memory cells includes: a flip-flop including a pair of cross-connected transistors of one conductivity type; the transistors of the flip-flop are connected to the bit line, and the transistors of the flip-flop are of an opposite conductivity type; a pair of transfer gates made of transistors, wherein the word line is connected to a gate of the transfer gate and a power supply terminal of the flip-flop.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011512609A (en) * 2008-02-18 2011-04-21 コミッサリア ア レネルジー アトミーク エ オ ゼネルジ ザルタナテイヴ SRAM memory cell comprising a double gate transistor provided with means for improving the write margin
JP2013257937A (en) * 2006-11-17 2013-12-26 Freescale Semiconductor Inc Two-port sram performing improved write operation, and operation method thereof

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