JPS62211653A - 処理装置 - Google Patents
処理装置Info
- Publication number
- JPS62211653A JPS62211653A JP5575486A JP5575486A JPS62211653A JP S62211653 A JPS62211653 A JP S62211653A JP 5575486 A JP5575486 A JP 5575486A JP 5575486 A JP5575486 A JP 5575486A JP S62211653 A JPS62211653 A JP S62211653A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- tank
- processing
- liquid
- foam
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- Pending
Links
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- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 2
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- 239000007921 spray Substances 0.000 claims 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 claims 1
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Landscapes
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアルカリ溶液を現像液として用いるシャワ一式
現像装置に関するものである。
現像装置に関するものである。
従来、アルカリ溶液を現像液として用いるシャワ一式現
像装置は、第２図に示すように処理部１゜洗浄部２、乾
燥部３を搬送ベルト４に沿って設置し、搬送ベルト４に
より処理部１内に搬入した試料５に、タンク６からポン
プ８で汲み上げた処理液７をノズル９に通して噴射し、
処理液７を回収して再びタンク６内に戻していた。現像
液を複数回使用すると、泡が発生するため、従来は液交
換を頻繁に行うか、或いは発生した泡を全て別のタンク
に回収する方法がとられていた。
像装置は、第２図に示すように処理部１゜洗浄部２、乾
燥部３を搬送ベルト４に沿って設置し、搬送ベルト４に
より処理部１内に搬入した試料５に、タンク６からポン
プ８で汲み上げた処理液７をノズル９に通して噴射し、
処理液７を回収して再びタンク６内に戻していた。現像
液を複数回使用すると、泡が発生するため、従来は液交
換を頻繁に行うか、或いは発生した泡を全て別のタンク
に回収する方法がとられていた。
しかしなから、上述した従来のいずれの方法でも現像液
の使用量の増大、液交換に伴う稼働効率の減少、及び一
部あふれ出した泡による装置制御部品の劣化による装置
故障を引き起こすばかりでなく、作業者の安全性に対し
て問題があった。
の使用量の増大、液交換に伴う稼働効率の減少、及び一
部あふれ出した泡による装置制御部品の劣化による装置
故障を引き起こすばかりでなく、作業者の安全性に対し
て問題があった。
本発明の目的は処理液中に発生した泡を効率よく消滅さ
せるようにした処理装置を提供することにある。
せるようにした処理装置を提供することにある。
本発明はタンク内の処理液をポンプによって汲み上げ、
該処理液をノズルから試料に噴射して該試料を処理し、
再び処理液をタンクに回収する処理部と、試料に付着し
た処理液を洗浄液によって洗い落とす洗浄部と４気体を
試料に噴射して試料を乾燥させる乾燥部と、試料を処理
部から乾燥部まで搬送するベルトとを有し、前記処理部
から処理液を回収するタンク内を多孔板により複数に分
割したことを特徴とする処理装置である。
該処理液をノズルから試料に噴射して該試料を処理し、
再び処理液をタンクに回収する処理部と、試料に付着し
た処理液を洗浄液によって洗い落とす洗浄部と４気体を
試料に噴射して試料を乾燥させる乾燥部と、試料を処理
部から乾燥部まで搬送するベルトとを有し、前記処理部
から処理液を回収するタンク内を多孔板により複数に分
割したことを特徴とする処理装置である。
以下、本発明の一実施例を図により説明する。
第１図において、ノズル９を設置した処理部１と、試料
５に付着した処理液を洗浄液によって洗い落とす洗浄部
２と、気体を試料５に噴射して試料５を乾燥させる乾燥
部３とを搬送ベルト４に沿って順に設置する。
５に付着した処理液を洗浄液によって洗い落とす洗浄部
２と、気体を試料５に噴射して試料５を乾燥させる乾燥
部３とを搬送ベルト４に沿って順に設置する。
処理部１の錐状底部から配管１０を導出し、これをタン
ク６に接続する。タンク６内は多孔板１２゜・・・によ
り左右に複数に分割しである。１３は補助タンクである
。
ク６に接続する。タンク６内は多孔板１２゜・・・によ
り左右に複数に分割しである。１３は補助タンクである
。
実施例において、ノズル９から噴射された現像液７は試
料５を現像させ、現像液７と泡１４の混合液が配管１０
によりタンク６に入る。現像液７は下に沈殿しポンプ８
により再度ノズル９から噴射される。一方、泡１４は多
孔板１２を通過する毎にメツシュにひっかかり破裂し消
滅してゆくものである。
料５を現像させ、現像液７と泡１４の混合液が配管１０
によりタンク６に入る。現像液７は下に沈殿しポンプ８
により再度ノズル９から噴射される。一方、泡１４は多
孔板１２を通過する毎にメツシュにひっかかり破裂し消
滅してゆくものである。
したがって１本発明によれば、泡１４を取り除くために
液交換を行う必要がない。
液交換を行う必要がない。
以上説明したように本発明は効率良く泡を消滅させるこ
とにより、処理液の使用量の削減、稼働率の向上及び安
全性の向上をはかることができる効果がある。
とにより、処理液の使用量の削減、稼働率の向上及び安
全性の向上をはかることができる効果がある。
第１図は本発明の処理装置を示す断面図、第２図は従来
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
Claims (1)
- （１）タンク内の処理液をポンプによって汲み上げ、該
処理液をノズルから試料に噴射して該試料を処理し、再
び処理液をタンクに回収する処理部と、試料に付着した
処理液を洗浄液によって洗い落とす洗浄部と、気体を試
料に噴射して試料を乾燥させる乾燥部と、試料を処理部
から乾燥部まで搬送するベルトとを有し、前記処理部か
ら処理液を回収するタンク内を多孔板により複数に分割
したことを特徴とする処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5575486A JPS62211653A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5575486A JPS62211653A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62211653A true JPS62211653A (ja) | 1987-09-17 |
Family
ID=13007628
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5575486A Pending JPS62211653A (ja) | 1986-03-13 | 1986-03-13 | 処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62211653A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0629209A (ja) * | 1992-04-20 | 1994-02-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フォトレジスト除去方法及びフォトレジスト除去装置 |
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
-
1986
- 1986-03-13 JP JP5575486A patent/JPS62211653A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0629209A (ja) * | 1992-04-20 | 1994-02-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フォトレジスト除去方法及びフォトレジスト除去装置 |
| JPH08108131A (ja) * | 1994-10-12 | 1996-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学反応装置とその運転方法 |
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