JPS62210099A - 含フツ素廃水の処理法 - Google Patents
含フツ素廃水の処理法Info
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- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、フッ素、特にヘキサフルオロケイ耐イオン
としてフッ素を含む廃水の浄化方法に関し、この廃水を
望ましくはアルカリ+I’、 ’CM解し、フッ素イオ
ンをM離せしめ、これにカルシウムイオンを反応さけて
フッ化カルシウムを生成uしぬることにより、効率よく
フッ素除去が行えるJ、うにしたものである。
としてフッ素を含む廃水の浄化方法に関し、この廃水を
望ましくはアルカリ+I’、 ’CM解し、フッ素イオ
ンをM離せしめ、これにカルシウムイオンを反応さけて
フッ化カルシウムを生成uしぬることにより、効率よく
フッ素除去が行えるJ、うにしたものである。
(従来の技術)
近年、環境保全、公害防l[の立場から公共水域へ放流
される廃水中のフッ素淵度は15my/)(ppm)以
下に規制されている。
される廃水中のフッ素淵度は15my/)(ppm)以
下に規制されている。
ところで、フッ素を含む廃水は、ガラスエ揚。
半導体製造工場や表面処理工場などから排出されるが、
例えば半導体製造工場から排出される含フッ素廃水は、
シリコンエツチングなどの廃液を主体とりるため、フッ
素は主にヘキサフルオロケイB (SiF s 2−)
イオンの形で存在している。よって、このような含フッ
素廃水の浄化にあたって(よ、従前のF−イオンとして
フッ素を含む廃水の処理とは異なる方法を採用りる必要
がある。
例えば半導体製造工場から排出される含フッ素廃水は、
シリコンエツチングなどの廃液を主体とりるため、フッ
素は主にヘキサフルオロケイB (SiF s 2−)
イオンの形で存在している。よって、このような含フッ
素廃水の浄化にあたって(よ、従前のF−イオンとして
フッ素を含む廃水の処理とは異なる方法を採用りる必要
がある。
従来、このようなヘキザフルオ口ケイ酸イオンとしての
フッ素を含む廃水は、大過剰の水酸化カルシウム(Ca
(叶)2)を加え、アルカリ側で次式によってフッ化カ
ルシウムとケイ酸カルシウムを生成させて処理されでい
る。
フッ素を含む廃水は、大過剰の水酸化カルシウム(Ca
(叶)2)を加え、アルカリ側で次式によってフッ化カ
ルシウムとケイ酸カルシウムを生成させて処理されでい
る。
tl 2 SjF 6+ 1Ica(叶)2−3CaF
2↓」−CaSjo 3 ↓151120 〔発明が解決しようと覆る問題点〕 しかしながら、この処理方法では、水酸化カルシウムが
大量に必要であり、また反応生成物のスラリーの固形分
も犬りlに発生し、その処理が面倒であるなどの問題点
があった。
2↓」−CaSjo 3 ↓151120 〔発明が解決しようと覆る問題点〕 しかしながら、この処理方法では、水酸化カルシウムが
大量に必要であり、また反応生成物のスラリーの固形分
も犬りlに発生し、その処理が面倒であるなどの問題点
があった。
また、フッ素除去率も不十分で、上記規制値を満たJに
は、さらに二次処理〈高度処理)どしてアルミ:・クム
共沈法やマグネシウム共沈法あるいは吸容法などに付さ
ねばならないなどの問題点もあった。
は、さらに二次処理〈高度処理)どしてアルミ:・クム
共沈法やマグネシウム共沈法あるいは吸容法などに付さ
ねばならないなどの問題点もあった。
そこで、この発明にあっては、へVサフルオロケイ酸イ
オンを含む廃水を電解しフッ素イオンをM離じしめ、こ
れにカルシウムイオンを反応させて匈溶t/Iフッ化カ
ルシウムを生成せしめることにより、上記問題点を解決
Jるようにした。
オンを含む廃水を電解しフッ素イオンをM離じしめ、こ
れにカルシウムイオンを反応させて匈溶t/Iフッ化カ
ルシウムを生成せしめることにより、上記問題点を解決
Jるようにした。
まず、この発明の処理払の駐本的イ1操flについC説
明りる。
明りる。
へ4リ−フルΔロケイ酸イオンを会む廃水にアルカリを
添加しで望ましく i、U pH7以−ヒとし、ついで
この廃水混合液を電解液として直流電解りる。
添加しで望ましく i、U pH7以−ヒとし、ついで
この廃水混合液を電解液として直流電解りる。
この71解反応によりヘキ(ノフルオロケイ酸イオンは
陽極でケイ素イオン(SC”)とフッ素イオン(F)イ
オンとにf1離づる。この状態の廃水混合液からカルシ
ウムイオンによって難溶性のフッ化カルシウムを形成し
フッ素イオンを除去覆る、。
陽極でケイ素イオン(SC”)とフッ素イオン(F)イ
オンとにf1離づる。この状態の廃水混合液からカルシ
ウムイオンによって難溶性のフッ化カルシウムを形成し
フッ素イオンを除去覆る、。
生成したスラリーを固液分離し、液分にフッ素イオンが
残っておれば再び上記操作を繰り返し、液分中のフッ素
イオンが規制値以下になれば、中和したうえ放流する。
残っておれば再び上記操作を繰り返し、液分中のフッ素
イオンが規制値以下になれば、中和したうえ放流する。
固形分は脱水、乾燥したのら、系外に紡出される。
第1図はこの発明の処理法の一例を示づ−もので、図中
符号1は処理槽である。処理槽1内には通tδの撹拌機
2と電解用陽極3および陰144どが設(Jられ、陽極
3および陰極4は電解用電源5に接続されている。これ
ら電極3,4に【よ耐フッ素性に優れる)Jライト電極
を用いることが好ましい。
符号1は処理槽である。処理槽1内には通tδの撹拌機
2と電解用陽極3および陰144どが設(Jられ、陽極
3および陰極4は電解用電源5に接続されている。これ
ら電極3,4に【よ耐フッ素性に優れる)Jライト電極
を用いることが好ましい。
この処理槽1には、処理すべき廃水とアルカリとしての
消石灰または生石灰とが加えられる。槽内の混合液はd
′1石灰また1ま生石灰の添加ににすpl−17、好ま
しくは8以上のアルカリ性とされる。
消石灰または生石灰とが加えられる。槽内の混合液はd
′1石灰また1ま生石灰の添加ににすpl−17、好ま
しくは8以上のアルカリ性とされる。
pH7未満でtよ、電極3,4の損耗が早くなって不都
合である。また、槽内の混合液は予熱用ヒータ(図示せ
ず)で60〜80℃程度に予熱される。
合である。また、槽内の混合液は予熱用ヒータ(図示せ
ず)で60〜80℃程度に予熱される。
この状態で電解用電源5から直流電流を陽極3゜陰極4
間に印加し、混合液を電解液として電解を行う。電解電
圧は10〜200V、電流濃度は、1〜10△/ノ程度
とされ、時間は電流濃度、泣拌度合、フッ素イオン除去
度合などにもよるが、30分〜2時間程度とすればよい
。電解の進行につれ、液温か上昇してくるので、液温が
80℃以上にならないように余分の水蒸気やガスの発生
を抑えるために冷mジャケット(図示せず)に冷却水を
流し、冷IJ1づる。
間に印加し、混合液を電解液として電解を行う。電解電
圧は10〜200V、電流濃度は、1〜10△/ノ程度
とされ、時間は電流濃度、泣拌度合、フッ素イオン除去
度合などにもよるが、30分〜2時間程度とすればよい
。電解の進行につれ、液温か上昇してくるので、液温が
80℃以上にならないように余分の水蒸気やガスの発生
を抑えるために冷mジャケット(図示せず)に冷却水を
流し、冷IJ1づる。
この電解にJ:す、混合液中のへキサフルオロケイ酸イ
オンは陽+43 J=でケイ素イオンとフッ素イオンに
ME/II シ、 MfAtしたフッ系イオンは存在す
るカルシウムイオンど直ちに反応し、フッ化力ルシウl
\どなって沈澱する。また、陰極4からは水素が生成す
る。この水素は、混合液中のフッ素を少t1! (i1
1伴しているので、別途処理したのら系外に排出される
。
オンは陽+43 J=でケイ素イオンとフッ素イオンに
ME/II シ、 MfAtしたフッ系イオンは存在す
るカルシウムイオンど直ちに反応し、フッ化力ルシウl
\どなって沈澱する。また、陰極4からは水素が生成す
る。この水素は、混合液中のフッ素を少t1! (i1
1伴しているので、別途処理したのら系外に排出される
。
槽内の混合液は、フッ化カルシウムの生成と未溶解のf
j石灰の存在により、スラリー状ど<fる。
j石灰の存在により、スラリー状ど<fる。
このスラリーは電解後、槽1底部から扱かれ、固液分離
槽6に送られる。固液分離槽6−C(よ、スラリー中の
固形分が沈降し、上澄液が分離される。
槽6に送られる。固液分離槽6−C(よ、スラリー中の
固形分が沈降し、上澄液が分離される。
この上澄液中のフッ素イオン濃度は、原廃水の約1/1
00〜1/200に低下し、規制値以下どなれば、硫酸
、塩酸などを用いて中和したのら、放流される。また、
上澄液中のフッ素イオン濶度カリ梵制値以上であれば、
−+1j(f’21理槽1に戻されて同様の電解処理を
受りる。フッ素イオン淵度が1000 D D m以上
の高濃度廃水Cち、2回の電解処理により、10 p
I) m以ドとづることが可能である。勿論、必要に応
じて、2回以上の電解処理を行うことらできる。
00〜1/200に低下し、規制値以下どなれば、硫酸
、塩酸などを用いて中和したのら、放流される。また、
上澄液中のフッ素イオン濶度カリ梵制値以上であれば、
−+1j(f’21理槽1に戻されて同様の電解処理を
受りる。フッ素イオン淵度が1000 D D m以上
の高濃度廃水Cち、2回の電解処理により、10 p
I) m以ドとづることが可能である。勿論、必要に応
じて、2回以上の電解処理を行うことらできる。
固液分離槽6からのスラッチは、脱水機7に送られ、1
脱水される。、脱水機7から排出さ゛れる水分に規制値
以上のフッ素イΔンが含まれているときは、この水分を
処理槽1に返送し、電解処理する。
脱水される。、脱水機7から排出さ゛れる水分に規制値
以上のフッ素イΔンが含まれているときは、この水分を
処理槽1に返送し、電解処理する。
フッ素イオン濃度が規制値以下であれば、中和後放流づ
る。
る。
脱水R7で脱水されたスフッヂケーキは、さらに乾燥機
8に迄られ、乾燥空気と接触することにより乾燥される
。乾燥機8からの排ガス中には、スラッチに微量含まれ
ているフッ素イオンがフッ素(F2)ガスとして含まれ
ることがあり、このような場合にはこの排ガスをガス洗
浄塔9に送り、アルカリ水溶液に接触させてフッ木のを
除去した・うえ、人気中に放出する。ガス洗浄塔9から
のフッ素含有アルカリ廃液は、処理槽1に送られて、同
様の電解処理を受【プる。
8に迄られ、乾燥空気と接触することにより乾燥される
。乾燥機8からの排ガス中には、スラッチに微量含まれ
ているフッ素イオンがフッ素(F2)ガスとして含まれ
ることがあり、このような場合にはこの排ガスをガス洗
浄塔9に送り、アルカリ水溶液に接触させてフッ木のを
除去した・うえ、人気中に放出する。ガス洗浄塔9から
のフッ素含有アルカリ廃液は、処理槽1に送られて、同
様の電解処理を受【プる。
また、処理槽1から排出される水素ガスを主成分とづる
υ1ガスは、ガス洗浄」?S9に送られて、その中のフ
ッん分を除去したのら、人気に放出される。
υ1ガスは、ガス洗浄」?S9に送られて、その中のフ
ッん分を除去したのら、人気に放出される。
このような−・連の処理により、例えばヘキリーフルA
1]ケイ酸イ詞ンのCI徒が[イオンとして30000
pp m程瓜の原廃水は、1回の電解処理後の1.澄
液で、1l50−200pp稈Iαに減少する。また、
この上澄液を再度電解処理ηると10〜15ppm程瓜
と41つ、規制値を満足する。
1]ケイ酸イ詞ンのCI徒が[イオンとして30000
pp m程瓜の原廃水は、1回の電解処理後の1.澄
液で、1l50−200pp稈Iαに減少する。また、
この上澄液を再度電解処理ηると10〜15ppm程瓜
と41つ、規制値を満足する。
なお、処理槽1を2基以−F設置して、2回目以降の電
解処理を別の檜で行い、半連続式に廃水処理を行うよう
にしてもよい。
解処理を別の檜で行い、半連続式に廃水処理を行うよう
にしてもよい。
第2図は、この発明の他の実施例を示?Jbのである。
図中符号10は、電解部11と固液分離部12とが連設
されてなる兼用槽であって、電解部11は上下方向に長
い塔となっており、その底部に゛上前用電極3,4が設
GJられている。また、′名前部11の頂部には、水酸
化カルシウムや塩化カルシウムなどのカルシウム化合物
を投入づる投入口13が設けられている。電解部11の
上部には、固液分離部12が連続して設りられている。
されてなる兼用槽であって、電解部11は上下方向に長
い塔となっており、その底部に゛上前用電極3,4が設
GJられている。また、′名前部11の頂部には、水酸
化カルシウムや塩化カルシウムなどのカルシウム化合物
を投入づる投入口13が設けられている。電解部11の
上部には、固液分離部12が連続して設りられている。
電解部11の底部に原廃水と水酸化すトリウム水溶液と
をポンプ14によって送り込み、電解を行う。
をポンプ14によって送り込み、電解を行う。
電解条件【ま、先の例と同様である。電解を受けた混合
液は昇温して上臂流となり、電解部11の上部に移動り
る。投入口13から塩化カルシウム。
液は昇温して上臂流となり、電解部11の上部に移動り
る。投入口13から塩化カルシウム。
硝酸カルシウム等のカルシウム化合物を投入し、112
11[L、たフッ素イオンと反応させる。生成したスラ
リーは、電解部11から固液分離部12に流れ、固形分
tま固液分離部12の底部に沈澱する。固液分画1部1
2からの上澄液おJ:びスラッチは、先の例と同様に処
理される。
11[L、たフッ素イオンと反応させる。生成したスラ
リーは、電解部11から固液分離部12に流れ、固形分
tま固液分離部12の底部に沈澱する。固液分画1部1
2からの上澄液おJ:びスラッチは、先の例と同様に処
理される。
この例の方法では、電解時のアルカリ分として水酸化プ
i〜リウムを用いているので、電極3,4の汚染がなく
、電極寿命が良くなる。また、連続処理を行うことがで
きる。
i〜リウムを用いているので、電極3,4の汚染がなく
、電極寿命が良くなる。また、連続処理を行うことがで
きる。
また、この発明の処理法に適用できる廃水どして【ま、
ヘキサフルA[1/フイ酸イΔンのみならず、フッ素イ
オン、リン酸イオン(PO4−2)、硝酸イオン(NO
3−)、重金属イオンなどを含んだものでもよく、これ
ら共存イオンがヘキリーフルAロケイ酸イオンの除去を
妨害づることはない。
ヘキサフルA[1/フイ酸イΔンのみならず、フッ素イ
オン、リン酸イオン(PO4−2)、硝酸イオン(NO
3−)、重金属イオンなどを含んだものでもよく、これ
ら共存イオンがヘキリーフルAロケイ酸イオンの除去を
妨害づることはない。
以下、実験例を示してこの発明の作用効果を明確にづる
。
。
ケイフッ化ソーダ精製工場から排出されたベキリ゛フル
オ【コケイ酸イオンを含む廃水3種を500dビーカー
に取り、電熱器付電磁撹拌機上に首さ、石綿布で保温し
て撹拌上加熱しつつ、消石灰を50g少しずつ加える。
オ【コケイ酸イオンを含む廃水3種を500dビーカー
に取り、電熱器付電磁撹拌機上に首さ、石綿布で保温し
て撹拌上加熱しつつ、消石灰を50g少しずつ加える。
この時pHは約8〜10にイする。混合液の温度が約6
0′Ci、:達したら、フェライト電極を介して電流2
A、電圧10〜100Vを通電し、電解処理する。水素
ガスの発生があるので、送J!!it下に実施する。6
0分間の電解の後、i濾過し、固液分離1゛る。fJ’
液は約250〜300mQ li’lられ、そのフッ素
濃度を測定したのちこれにd′1石灰を加えて再び同条
件で60分間電解する。
0′Ci、:達したら、フェライト電極を介して電流2
A、電圧10〜100Vを通電し、電解処理する。水素
ガスの発生があるので、送J!!it下に実施する。6
0分間の電解の後、i濾過し、固液分離1゛る。fJ’
液は約250〜300mQ li’lられ、そのフッ素
濃度を測定したのちこれにd′1石灰を加えて再び同条
件で60分間電解する。
同様に)濾過し、)戸液のフッ素濃度を測定づる。
以上の操作において、原廃水の種類、消石灰の添加量を
変えて、原廃水、1段目(1段目)おJ、び2段口(2
段口)の酒液のフッ素イAン淵1c1. ρ1−1を
測定した。結末を次表に示す。
変えて、原廃水、1段目(1段目)おJ、び2段口(2
段口)の酒液のフッ素イAン淵1c1. ρ1−1を
測定した。結末を次表に示す。
(以下余白)
・原水Cはリン酸イオン10%を含む。
以上の結果から、2回(2段)の電解処理を行うことに
より、規制値以下に除去することができることがわかる
。また、消石灰の添加倒を原水量に対して比較的少なく
することができ、処即費の低減が可能であることがわか
る。
より、規制値以下に除去することができることがわかる
。また、消石灰の添加倒を原水量に対して比較的少なく
することができ、処即費の低減が可能であることがわか
る。
この処理法は、従前の大過剰の消石灰を加えてアルカリ
側で沈澱させる方法に比べ、石灰Mを1/3程度に、発
生スラッジ量を1/3〜115程度に削減することがで
きる。
側で沈澱させる方法に比べ、石灰Mを1/3程度に、発
生スラッジ量を1/3〜115程度に削減することがで
きる。
以上説明したように、この発明の含フッ素廃水の処1甲
?人は、ベキ1ナフルオロケイ酸イオンを含む廃水を電
解し、フッ素イオンを生成せしめ、ついでこれにカルシ
ウムイオンを反応Vしめるものであるので、従来カルシ
ウム塩沈澱法では除去効率がかんばしくなかったヘキサ
フルオロケイ酸イオンを高い除去効率で除去することが
できる。また、沈澱生成用カルシウム化合物の消費1竹
も低くて済み、経沓的な処理が行える。さらに、本処理
法を2回(2段)行えば、高温度廃水でもフッ素請度を
確実に規制値以下とすることがCき、稀釈水等を全く必
要としないなどの利点を有するものである。
?人は、ベキ1ナフルオロケイ酸イオンを含む廃水を電
解し、フッ素イオンを生成せしめ、ついでこれにカルシ
ウムイオンを反応Vしめるものであるので、従来カルシ
ウム塩沈澱法では除去効率がかんばしくなかったヘキサ
フルオロケイ酸イオンを高い除去効率で除去することが
できる。また、沈澱生成用カルシウム化合物の消費1竹
も低くて済み、経沓的な処理が行える。さらに、本処理
法を2回(2段)行えば、高温度廃水でもフッ素請度を
確実に規制値以下とすることがCき、稀釈水等を全く必
要としないなどの利点を有するものである。
第1図および第2図は、いずれもこの発明の処理法を実
施づるに好適な処理装置の例を示す概略構成図である。 1・・・処理槽、 3.4・・・電極
施づるに好適な処理装置の例を示す概略構成図である。 1・・・処理槽、 3.4・・・電極
Claims (3)
- (1)ヘキサフルオロケイ酸イオンを含む廃水を電解し
フッ素イオンを生成せしめ、ついでこれにカルシウムイ
オンを反応せしめることを特徴とする含フッ素廃水の処
理法。 - (2)ヘキサフルオロケイ酸イオンを含む廃水を電解し
フッ素イオンを生成せしめ、ついでこれにカルシウムイ
オンを反応せしめたのち、固液分離し、得られた液分に
対し、同様の操作を行って合計2回以上の処理を行うこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の含フッ素廃
水の処理法。 - (3)アルカリ性で電解を行なう特許請求の範囲第1項
記載の含フッ素廃水の処理法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5009186A JPS62210099A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 含フツ素廃水の処理法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5009186A JPS62210099A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 含フツ素廃水の処理法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62210099A true JPS62210099A (ja) | 1987-09-16 |
JPH0331117B2 JPH0331117B2 (ja) | 1991-05-02 |
Family
ID=12849374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5009186A Granted JPS62210099A (ja) | 1986-03-07 | 1986-03-07 | 含フツ素廃水の処理法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62210099A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013119050A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Disco Corp | 廃液処理装置 |
CN110683674A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-01-14 | 北京中持净水材料技术有限公司 | 一种同步去除废水中氟、硅化合物的处理方法 |
-
1986
- 1986-03-07 JP JP5009186A patent/JPS62210099A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013119050A (ja) * | 2011-12-06 | 2013-06-17 | Disco Corp | 廃液処理装置 |
CN110683674A (zh) * | 2019-09-29 | 2020-01-14 | 北京中持净水材料技术有限公司 | 一种同步去除废水中氟、硅化合物的处理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0331117B2 (ja) | 1991-05-02 |
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