JPS62204106A - 3次元形状測定装置 - Google Patents

3次元形状測定装置

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JPS62204106A
JPS62204106A JP61047872A JP4787286A JPS62204106A JP S62204106 A JPS62204106 A JP S62204106A JP 61047872 A JP61047872 A JP 61047872A JP 4787286 A JP4787286 A JP 4787286A JP S62204106 A JPS62204106 A JP S62204106A
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JP
Japan
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measurement
light
amount
phase delay
wavelengths
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JP61047872A
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English (en)
Inventor
Toshitsugu Ueda
敏嗣 植田
Eiji Ogita
英治 荻田
Katsumi Isozaki
克巳 磯崎
Katsuya Ikezawa
克哉 池澤
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Yokogawa Electric Corp
Original Assignee
Yokogawa Electric Corp
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02001Interferometers characterised by controlling or generating intrinsic radiation properties
    • G01B9/02007Two or more frequencies or sources used for interferometric measurement
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B2290/00Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
    • G01B2290/70Using polarization in the interferometer

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光の干渉を利用して、物体の表面形状等を測
定する3次元形状測定装置に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、この種の測定装置に使用される光の干渉を利用し
た測長部は、インクリメンタル形と呼ばれるもので、測
定対象面の変位量(干渉縞の変位)に応じて得られるパ
ルス、信号を積算カウントして、この測定対象面までの
距離を求めるようにしたものである。このため、測定対
象面上に段差の如き不連続な部分があった場合には、積
算入力が跡絶え、測定ができなくなってしまう。また、
測長動作中に電源が遮断されると、再度電源が投入され
ても、それまでの測定量がリセットされてしまい、その
後の測定値が全く無意味なものになってしまう。
このような問題点を/l¥決するために、本願出(社)
人はすでに、特願昭60−277381号として、測定
対象面上に不連続な部分があった場合にも、正確な測定
を続けることのできる3次元形状測定族行を提案してい
る。これは、マイケルソンの干渉光学系を利用した測長
部において、少なくとも2つ以上の波長の異なる光を切
り換えて、測定対象面までの距離に応じた光の位相遅れ
量を111次測定するとともに、これらの波長と位相遅
れ量との関係から前記測定対象面までの距離を求めるよ
うにしたものである。
第2図はこの3次元形状測定装置の構成を示すものであ
る。図において、 LZIは波長の累なる複数のコヒー
レントな光を選択的に発生するレーザ光源、AOMは光
の位相遅れ量をヘテロダイン検出するために参照側の光
を周波数シフトする音響光学変al器(以下、AO変調
器と略記する) 、 OSCはAO変澗器AOMを一定
周波数fbで駆動する変調信号源、P2.P3はλ/4
板、P4は偏光板、BS3〜BS5はビームスプリッタ
、MR2はミラー、Dlはフォトディテクタ、PDIは
フォトディテクタD1の出ノJに含まれる位相遅れ量を
検出する位相検出回路、CON2は測定に使用された光
の波長とその時の位相遅れ量との関係から、測定対象面
OBJまでの距離を求める演算回路、D3.D4は後述
する補正動作に使用される4分割ディテクタ、SLは円
筒状のシリンドリカルレンズ、LHは測定光f1を収束
し、被測定物OBJ  (以下、測定対象面OBJとい
う)に照射する対物レンズである。レーザ光7nLZI
は例えば一定波長の光源と波長を任意の量だけシフトさ
せる波長シフタにより構成され、任意の波長の光を11
11次発生するものである。
また、 DRIは4分割ディテクタD3.D4の出力に
応じて対物レンズLHをx、y、z方向に移動させるレ
ンズ駆動部、DR2は測定対象面OBJ  C被測定物
)をX、Y方向に移動させる被測定物駆動部、MNl、
MN2は対物レンズLEおよび被測定物(OBJ )に
おけるX、Y方向の移動量をモニタする移動量モニタ、
C0N1は移動量モニタMill、MN2の出力から測
定対象面OBJ上の測定点の位置を算出する演算回路で
ある。
さて、上記のように構成された3次元形状測定装置にお
いては、レーザ光源LZIから出射された光を測定対象
面OBJを含む干渉光学系に入射させるとともに、干渉
光学系を介してもどって来た光を受け、その波長と位相
遅れ量との関係から測定対象面OBJとの間隔、すなわ
ち、Z軸方向(光軸方向)の距離を測定するようにして
いる。このため、干渉光学系において、照射光と反射光
の光軸が一致するように、測定対象面OBJに対する光
軸のIIJIきや焦点位はを補正する必要がある。
ここでは、まず、その補正41横について説明する。い
ま、第3図(a)に示す如く、測定対象面OBJがθだ
け傾いていたとすると、反射光は2θ傾き、4分割ディ
テクタD3に入射する反射ビームの位置はその中心から
2Fsjnθ(Fは対物レンズLEの焦点距りだけ変位
する。この変位を4分割ディテクタD3て検出するとと
もに、レンズ駆動部DRIを介して対物レンズLEt−
XまたはY方向に移動させ、反射光の位桁を4分割ディ
テクタD3の中心に合わせるようにすると、第3図(b
)に示す如く、測定光の光軸を測定対象面OBJに対し
て垂直とすることができる。
一方、焦点が測定対象面OBJ上にない場合には、反射
光は平行光には戻らない。そこで、反射光の一部をシリ
ンドリカルレンズSLを介して、やはり4分割ディテク
タD4に受光させると、反射光は楕円のスポットとなっ
て4分割ディテクタD4に当たる。この時、測定対象面
OBJが焦点位置より曲にあれば、縦長のスポットが得
られ、焦点位置より後にあれば、横長のスポットが得ら
れる。したがって、このスポットが円となり、4分割デ
ィテクタD4の各出力が等しくなるように、レンズ駆動
部DRIを介して対物レンズLEt−Z方向に移動させ
れば、測定対象面OBJ上に焦点を結ばせることができ
る。
また、この11)の対物レンズLEの動き、および測定
点を走査させるための被測定物(OBJ)の動きは一/
A算回路Co)11に入力され、測定点の正確な位置が
逐次算出される。
次に、第2図にもどって、測定対象面OBJとの距離を
測定する測長部の動作について説明する。
レーザ光源LZ1から出射された光の角周波数をω、そ
のI&幅’10を Vow  sinωt               
     (1)とし、AO変澗器AOMにおける変調
角周波数をωb  (=2ffb)として、AO変調器
AOMの+1次回折光を使うとすると、AO変調器AO
Mにより変調された光の振幅v1は Vl= 5in(ω+ ωb)t          
 (2)となり、測定対象面OBJを介してもどってき
た光の振幅v2は V2−5inc w t + dl)        
  (3)となる。なお、小は参照側および測定側の各
光路における光路長の′差に対応して発生する位相遅れ
分である。
フォトディテクタDl上では、上記の(2) 、 (3
)式に示されるような2つの光が重畳されるので、入射
する光の振幅は Vl+V2x 5in(ca+ + mb)t + s
Sn(cm t + tb )= 25in(ωt +
 (ωbt+ tb )/2)−cost(m bt−
m )/2)     (4)のように、vl、v2の
和となる。ここで、フォトディテクタD1の出力は入射
する光の振幅の2乗に比例するので、理論的には (’/1+V2)’= 4 sin’ (ωt + (
(II bt+ tb )/2)・cos”((ωbt
 −cb )/2)    (5)となるが、フォトデ
ィテクタD1は光の周波数には応答できず、平均値を示
すようになるので、その出力VPは Vp −1+ cos(ωbt −dr )     
    (6)となる。
したがって、AO変変調AOMにおける変調角周波数ω
bがわかっていれば、フォトディテクタD1の出力Vp
の萌から位相遅れ量6を算出することができる。
さて、マイケルソンの干渉光学系を使用すると、上記の
ようにして、距離に応じて変化する位相遅れ最小を測定
することが可能であるが、この位相遅れffi小の値は (2fN+6) 二Nは自然数 と等価であるので、位相遅れ量6の大きさからただちに
測定対象面OBJまでの距離を特定することはできない
そこで、図の3次元形状測定装置においては、測定に使
用する波長を変化させ、各波長に対応した位相遅れ量6
を順次測定するとともに、これらの測定結果を連立方程
式として解くことにより、測定対象面OBJまでの距離
を求めるようにしている。
いま、ビームスプリッタBS3からミラーMR2までの
距離をdl、ビームスプリッタBS3から測定対象面O
BJまでの距離をd2とすると、これらの各光路長の差
は 2dl−2d2= 2 d となる。したがって、測定に使用する光の波長をλ1.
λ2.λ3.λ4(A1くA2くA3くA4)とし、こ
の時に得られる位相遅れ量をdl 1..62. +6
3゜64 (61〜小4は0〜2y)とすると、各測定
結果からは次のような式が成立する。
2d=nlλl+λ1d)1/2r     ■2d=
n2λ2+λ2 dr2 /2f(8)2d=n3λ3
+λ3 dl3 /2q     (9)2d=n4A
4+λ4!4/2w     OのT+1〜TI4は自
然数、 また、これらの関係式の中から、上記(7) 、 (8
)式を使用してdを求めると、 d = A 12(nl −T12) +A12(Φ1/λ1−Φ2/λ2)   (11)Φ
1ツλ1d+1/2f、Φ2=Iλ2小2/2テとなる
。ここで、A12は2つの波長λ1.^2における最小
公債波長であり、このA12の値を測定範囲と等しく、
またはそれより大きく選ぶようにすると、上記(11)
式におけるA12(r+1−T12)の項の値を特定す
ることができ、これらの波長λ1.λ2に対応した位相
遅れffi、#1..62から距離dを一義的に算出す
ることができる。すなわち、測定範囲が最小公債波長A
12より狭ければ、この時の位相遅れffi小は常に0
〜2fの間にあるので、距9J1 dと位相遅れ量6と
が一対一に対応することになり、位相遅れ量るからただ
ちに距3dを特定するこができる。例えば、測定範囲を
0〜1000+nmとした場合、最小公債波長AI2が
1000mmとなるように、波長λ1.λ2の大きさを
選択すれば、上記(11)式におけるA 12(nl 
−n2)の項は0となり、位相遅れffi小1..62
から距fidを一義的に算出することができる。
次に、上記のような波長λ1.λ2の組合せにより、測
定値d llがtFJられ、この時の測定精度(測定誤
差)から、測定出力d Ifにおける真値の範囲がd+
 1fflIn< d + t < d+ *maXの
ように求められたとすると、次回の波長の組合せ〔λ1
.λ3〕は、真値の範囲d 、、m1nxd、、ff1
axを測定範囲(n小公債波長)とするように選ばれる
。したがって、測定範囲が狭く絞り込まれ、より高分解
能な測定が可能となる。
このように、上記の関係を利用して、波長の組合せ〔最
小公債波!#、〕を選択し、測定範囲を順次絞り込んで
行けば、任意の測定範囲にわたってアブソリュートな測
定結果を得ることができるとともに、測定の分解能を波
長単位にまで高めることができる。また、常にアブソリ
ュートな測定結果を得ることができるので、測定対象面
OBJ上に段差の如き不連続な部分があった場合にも、
面の変化に対応した測定出力を得ることができ、正確な
測定を続けることができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記のような測長部を使用した3次元形
状測定装置では、光の波長を11111次切り換え、こ
の時の位相遅れ量を測定するとともに、この測定データ
を使用して測定対象面までの距離を算出するようにして
いるので、干渉光学系中の空気にゆらぎや屈折率の変化
などがあった場合には、各波長の光に対する測定条件が
測定の都度変化してしまい、距離の算出が著しく困難に
なってしまう。
本発明は、上記のような従来装置の欠点をなくし、アブ
ソリュートな測定出力を得ることができるとともに、空
気のゆらぎなどの影響を受は難い測長部を有する3次元
形状測定装置を簡単な構成により実現することを目的と
したものである。
C問題点を解決するための手段〕 本発明の3次元形状測定装置は、測定対象面の変位量を
測定する測長部にマイケルソンの干渉光学系を利用し少
なくとも2つ以上の波長の異なる光を使用して測定対象
面までの距離に応じた光の位相遅れ量をそれぞれ測定す
るとともにこれらの波長と位相遅れ量との関係から前記
測定対象面までの距離を求めるようにした3次元形状測
定装置において、波長の異なる2つの光を偏波面を直交
させたうえで重畳しff1l記干渉光学系に入射させる
重畳手段と、前記干渉光学系を介してもどってきた光を
前記偏波面の向きに応じて分離する分光手段と、この分
光手段により分離された光を受けそれぞれの光における
位相遅れ量を測定する位相測定手段とを有する測長部を
具備するようにしたものである。
〔作 用〕
このように、測長部において、偏波面の違いを利用して
波長の異なる2つの光を重畳し、干渉光学系に入射させ
るようにすると、干渉光学系を介してもどってきた光を
その偏波面の向きに応じて分離して、別々の測定手段で
受けることができるので、2つの波長に対する測定を同
時に行なうことができる。このため、同時に得られた測
定データを利用して距離の算出を行なうようにすれば、
ゆらぎなどの影響を等しく受けた測定データ間で演算を
行なうことができるので、真値に近い値を得ることがで
き、空気のゆらぎなどの影響を受は難い測長部を簡単な
構成により実現することができる。
〔実施例〕
第1図は本発明の3次元形状測定装置の一実施例を示す
構成図である。図において、前記第2図と同様のものは
、同一符号を付して示す。なお、本発明の3次元形状測
定装置において、被測定物(OBJ )および対物レン
ズLEの駆動系は、前記した第2図の装置と同一である
ので、その詳細は省略し、測長部のみを図示している。
LZll、 !、Z12は例えば波長がλ1.λ2なる
2つの光を出射するレーザ光源、Plは光の偏波面を9
0°回転させるλ/2板、MRlはミラー、BSl、B
i12は偏波面の向きに応じて光を透過または反射する
偏光ビームスプリッタ、HMRIはハーフミラ−1CC
Iはキューブコーナ、D2はフォトディテクタである。
図に示されるように、偏光ビームスプリッタBSIはλ
/2板P板上1もに、波長の異なる2つの光を偏波面を
直交させたうえで重畳する重畳手段を構成しており、重
畳した光はキューブコーナCCIおよび測定対象面OB
Jなとよりなる干渉光学系に入射させている。また、偏
光ビームスプリッタBS2は干渉光学系を介して得られ
た干渉光を偏波面の向きに応じて分層する分光手段であ
り、分離した光はフォトディテクタDI 、 o2およ
び位相検出回路PDIよりなる位相測定手段にそれぞれ
入射している。すなわち、レーザ光源LZIIから出射
された波長λ1の光は、干渉光学系を介した後、フォト
ディテクタD1に入射し、レーザ光源LZ12から出射
された波長λ2の光は、干渉光学系を介した後、フォト
ディテクタD2に入射することになる。
したがって、上記のように構成された測長部においては
、波長の異なる2つの光が互に干渉することなく、それ
ぞれのフォトディテクタDI 、 D2に入射するので
、異なる波長(λ1.λ2)の光に対して、それぞれ独
立の測定系が構成されていると考えることができる。ま
た、それぞれの測定系における動作は前記した第2図の
装置と同様であり、位相検出回路PDIからは、各波長
の光における位相遅れ量の差に応じた信号が出力される
このように、本発明に使用される測長部では、2つの波
長(λ]、λ2)の光に対する位相遅れ債の測定を同一
条件の中で同時に行なうことができる。ここで、同口)
に測定した位相遅れ量は、空気のゆらぎなどの影響を等
しく受けていることになるので、この測定データを利用
して正確の算出を行なえば、ゆらぎなどの影響を受けな
がらも、11個に近い測定出力を得ることができる。こ
のため、同じ波長の相合せによる測定を多数回繰り返し
、得られた測定出力を平均するように処理すれば、ゆら
ぎなどの影響を除去して、高精度の測定を行なうことが
可能となる。
さらに、前記した第2図の装置と同様に、波長の組み合
せを変えれば、測定範囲を絞り込み、アブソリュートで
高精度な測定出力を得ることができる。
なお、上記の説明においては、2つの波長(λ1、λ2
)の光をそれぞれ独立のレーザ光源LZII 。
LZ12により発生する場合を例示したが、波長の異な
る複数の光を発生する手段はこれに限られるものではな
い。また、測定に使用する波長の数は、目的とする分解
能に応じて決められるもので、4つに限られるものでは
ない。さらに、位相遅れ量6から距adを求める演算手
順は、上記の方法に限られるものではない。
また、上記の説明では、光の位相遅れ量6をヘテロダイ
ン検出する場合について例示したが、位相遅れffi小
により変化する干渉縞の位置を、フォトダイオードアレ
イを使用して検出するようにしても、同様の測定を行な
うことができる。一般に、フォトダイオードアレイにお
いては、これを構成するフォトダイオード素子を一定速
度で走査することにより、フォトダイオードアレイ自身
に空間フィルタ特性を持たせることができ、AO変変器
器どを使用することなく、位相遅れmtbに応じた干渉
縞の位置を容易に検出することができる。
さらに、上記の説明では、Z軸力向の測長のみを高精度
に行なう場合を例示したが、本発明の測長原理を利用し
て、被測定物駆動部DR2における駆動量(X、Y)を
も測定するようにすれば、被測定物の形状をより正確に
測定することができる。
また、このような場合、本発明の3次元形状測定装置に
使用される測長部では、常にアブソリュートな測定を行
なうことができるので、2軸およびX軸、Y軸方向に光
路を切り換えて測定を行なっても、何ら測定結果の連続
性に問題はなく、1つの測長部で3方向の測長動作を共
通に行なうことができる。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明の3次元形状測定装置では
、測定対象面の変ft量を測定する測長部にマイケルソ
ンの干渉光学系を利用し少なくとも2つ以上の波長の異
なる光を使用して測定対象面までの距離に応じた光の位
相遅れ量をそれぞれ測定するとともにこれらの波長と位
相遅れ量との関係から前記測定対象面までの距離を求め
るようにした3次元形状測定袋首において、波長の異な
る2つの光を偏波面を直交させたうえでffl畏し前記
干渉光学系に入射させる重畳手段と、前記干渉光学系を
介してもどってきた光を前記偏波面の向きに応じて分離
する分光手段と、この分光手段により分離された光を受
けそれぞれの光における位相遅れ量を測定する位相測定
手段とを有する測長部を具備するようにしているので、
2つの波長に対する測定を同時に行なうことができ、常
に同時に得られた測定データを利用して距離の算出を行
なうようにすれば、アブソリュートな測定出力を得るこ
とができるとともに、空気のゆらぎなどの影響を受は難
い測長部を有する3次元形状測定装置を簡単な構成によ
り実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の3次元形状測定装置の一実施例を示す
構成図、第2図および第3図は従来の3次元形状測定装
置の一例を示す構成図である。 LZl、LZll 、 LZl2 ・・−レーザ光源、
Pl・・・λ/2板、P2.P3・・・λ/4板、P4
・・・偏光板、BSI〜BS5  。 ・・ビームスプリッタ、MRl、MR2・・・ミラー、
HMRl・・・ハーフミラ−1CC1・・・キューブコ
ーナ、Dl。 D2・・・フォトディテクタ、D3.D4・・・4分書
0ディテクタ、 SL・・・シリンドリカルレンズ、L
E・・・対物レンズ、OBJ  ・・・被測定物(測定
対象面)、DRl ・・・レンズ駆動部、DR2・・・
被測定物駆動部、MNI 、M)12 、−・移動量モ
ニタ、C0NI 、 CON2 ・・−演算回路、AO
M  ・・・AO変調器、O20・・・変調信号源、P
Dl  ・・・位相検出回路。 第1図 第3図 (b)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 測定対象面の変位量を測定する測長部にマイケルソンの
    干渉光学系を利用し少なくとも2つ以上の波長の異なる
    光を使用して測定対象面までの距離に応じた光の位相遅
    れ量をそれぞれ測定するとともにこれらの波長と位相遅
    れ量との関係から前記測定対象面までの距離を求めるよ
    うにした3次元形状測定装置において、波長の異なる2
    つの光を偏波面を直交させたうえで重畳し前記干渉光学
    系に入射させる重畳手段と、前記干渉光学系を介しても
    どってきた光を前記偏波面の向きに応じて分離する分光
    手段と、この分光手段により分離された光を受けそれぞ
    れの光における位相遅れ量を測定する位相測定手段とを
    有する測長部を具備したことを特徴とする3次元形状測
    定装置。
JP61047872A 1986-03-05 1986-03-05 3次元形状測定装置 Pending JPS62204106A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100363218B1 (ko) * 2000-06-22 2002-11-30 에스엔유 프리시젼 주식회사 광학측정시스템

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58221104A (ja) * 1982-06-18 1983-12-22 Hitachi Ltd 表面形状測定方法および装置
JPS5990003A (ja) * 1982-09-01 1984-05-24 ベブ・カ−ル・ツアイス・イエ−ナ 干渉測定装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58221104A (ja) * 1982-06-18 1983-12-22 Hitachi Ltd 表面形状測定方法および装置
JPS5990003A (ja) * 1982-09-01 1984-05-24 ベブ・カ−ル・ツアイス・イエ−ナ 干渉測定装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100363218B1 (ko) * 2000-06-22 2002-11-30 에스엔유 프리시젼 주식회사 광학측정시스템

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