JPS62197808A - 流通装置のための温度制御方法 - Google Patents

流通装置のための温度制御方法

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JPS62197808A
JPS62197808A JP4088486A JP4088486A JPS62197808A JP S62197808 A JPS62197808 A JP S62197808A JP 4088486 A JP4088486 A JP 4088486A JP 4088486 A JP4088486 A JP 4088486A JP S62197808 A JPS62197808 A JP S62197808A
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heating
target temperature
control
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Seiji Kodama
児玉 省二
Nobuhiro Onda
信博 恩田
Masayuki Abe
安部 正之
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Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
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Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、発熱反応または吸熱反応を伴う流通装置の温
度制御のための装置及び方法に関する。
〈従来の技術〉 種々の化学プラントに於て、吸熱反応または発熱反応を
伴う流通式触媒層、反応炉等からなる流通装置を用いる
場合があるが、その温度制御が困難であるという問題が
あった。例えば、第1図に示されているように、触媒リ
アクタ1内に触媒を充填してなる触媒層2が設けられ、
電熱式その他の加熱手段4.5か前記触媒リアクタ1を
囲繞するように配設されるのが一般的であるが、矢印1
〜12により図示されているように、熱伝達の方向が多
岐に亘り、しかも各点の温度問に相与干渉か強く作用す
るため、熱伝達を正確に予想し、触媒層2の温度を制御
することが極めて困難でおる。
また、例えば、触媒層2に於ける反応が発熱反応である
場合には、第2図に示されているように、触媒層の発熱
反応が温度に依存することとなり、未反応時及び反応時
の間の温度分布に顕著な差異が存在し、これを自動的に
制御することが極めて困難であり、特に、加熱手段と触
媒層との間に熱伝達の遅れ等を原因として加熱温度が過
大となった場合には、触媒層温度が暴走し、触媒を破損
するなどのトラブルを招ぎ19る。従って、このような
触媒リアクタの運転のためには熟練したオペレータが必
要であり、また極めて煩雑な作業となっていた。
〈発明が解決しようとする問題点〉 このような従来技術の欠点に鑑み、本発明の主な目的は
、自動化が困難であった流通装置の温度制御を正確かつ
自動的に行ない冑る流通装置の温度制御のための装置及
び方法を提供することにある。
〈問題点を解決するだめの手段〉 このような目的は、本発明によれば、流体を流通可能な
流通装置の温度を制御するための装置であって、前記流
通装置内の流体流れ方向に沿って配設された複数の加熱
手段と、前記加熱手段に付設された第一の温度検出手段
と、前記流通装置内にて前記各110熱手段に対応する
位置に配設された第二の温度検出手段と、前記第一の温
1宴検出手段の検出結果を所定の第一の目標温度に一致
させるように前記加熱手段の作動を制御する第一の制御
手段と、前記第二の温度検出手段の検出結果を所定の第
二の11標温度に一致させるように前記第一の制御手段
の前記第一の目標温1宴を制御するための第二の制御手
段とを備えることを特徴とする流通装置のだめの湿1食
制6+1菰置を提供することにより達成される。
また、このような装置を用い、前記第二の制御手段によ
り、前記第一の制御手段の前記第一の目標温度を、前記
第二の温度検出手段の検出結果が昇温目標温度に達する
レベルに定め、前記各加熱手段を同時に作動さける昇温
過程と、前記第二の制御手段により、前記第一の制御手
段の前記第一の目標温度を、前記第二の温1食検出手段
の検出結果が過渡的目標温度に達するレベルに定め、前
記各加熱手段を、対応する第二の温度検出手段により前
記過渡的目標温度に対応する温度が17られるまで順次
個別に作動させ、前記第二の温度検出手段の検出結果が
最終的な目標温度に達するまで前記過渡的目標温度を徐
々に増大させる微調整過程とを行なうようにすると良い
〈作用〉 このように、流通装置を流体の流れ方向に沿って複数の
区間に区分し、個々の区間をカスケード制御することに
にり正確な温度制御か可能となり、13に1ノロ黙過程
を昇温過程と微調整過程とに区分1ることにより、迅速
な立ち上げと、精密な制御が可能となり、更に定常運転
に際しては、微調整モードを継続することにより、外乱
があった場合でも精密な制御を継続して行なうことが可
能となる。
〈実施例〉 以下、本発明の好適実施例を添付の図面について詳しく
説明する。
第3図は本発明に基づく、流通装置としての触媒層のた
めの温度制御装置の構成を図式的に示している。触媒リ
アクタ1は、管路7内に成る艮ざに亘って触媒を充填し
てなる触媒層2を設けてなるもので、図示されている矢
印20の向きに流体からなる反応物質が流通する。この
触媒リアクタ1の長さ方向に沿って4つの、例えば電熱
要素からなる加熱手段3〜6が配設されている。
各加熱手段3〜6には、これらの加熱手段を制御するた
めの温度センサ9a〜9dがそれぞれ設けられている。
加熱手段3〜6に設けられた温度センサ9a〜9dは、
PID調節計などからなる4つの温度調節計10a〜1
0dにそれぞれ温度信号を供給し、これら温度調節胴が
駆動装置11a〜1”ldを介して対応する加熱手段3
〜6をフィードバック制御により加熱する。
一方触tJJ、層2の内部にも、長さ方向に沿って4つ
の温度センサ8a〜8dが配設されている。これら温度
レンーリ8a〜8dは、触媒リアクタ1内に長手方向に
沿って設置された多数の熱雷対から適宜選択されたもの
であって良い。温度センサ8a〜8dにより得られた温
度信号は、マイクロプロセッサを内Rするコントローラ
12に供給され、このコントローラ12は、前記した温
度調節計1Qa〜10dの設定温度をそれぞれ制御する
次に、特に第5図に基づいて、本発明に基づく装置の作
動要領について説明する。
先ず、触媒リアクタの立ち上げに際しては、触媒リアク
タの最終目標温度が例えば400’Cである場合に、触
媒層2の内部の温度がこれよりも10度低い390℃に
達するように、すべての加熱手段3〜6について公知の
カスケード制御を行なう。触媒層2内の各点の温度が3
90’Cに達したなら、次に触媒層全域の温度を最終目
標温度を8℃低い温度に制御し、しかも流体の流れ方向
に従い上流側から下流側に向けて各g度調節訓10a〜
10dの設定目標温度を順次変更する。これは、フン1
〜ローラ12に内蔵されたマイクロプロセッサを用いて
各温度調節計10a〜10dの目標温度を制御すること
により達成される。
即ち、昇温モードにより触媒層仝休の温度が390°C
を越えた時点、即ち点Aから、温度調節計108の設定
温度のみを制御することにより、触媒層2内の温度セン
サ8aの指示が392°Cを越えるまで加熱手段3を制
御し、点已に至る。次に加熱手段4を制御することにに
り点Cから点りに至り、温度センサ8bに於ける検出温
度が392℃に達するようにする。このにうにして点F
、点F、点G、点11に示されるにうに、各加熱手段毎
に同様の制御を行ない、4番[1の加熱手段6の制御が
完了した時点で、触媒層2に於りる1]標温度値を39
6°Cに高め同様の制御を各加熱手段3〜6について行
なう。
このように、触媒層2内の温度を4点にて測定し、その
うちの1点のみを目標温度に制御した場合には、伯の3
点もその影響を受は変動することとなり、触IS層2の
各部分が複雑に干渉し合うため安定な制御が困難である
。そこで、本発明によれば、4つの加熱手段を順次個別
に制御し、触媒層全域を、個々の部分毎に僅かずつ平衡
状態に制御することにより、全体的な制御動作の支足化
を図るようにしたものである。本実施例の場合、コント
ローラ12は、マイクロプロセッサを内蔵し、各温度調
節計10a〜10dの目標温度を制御するコントローラ
と、加熱手段毎の制御をシーケンス的に行うプログラム
コントローラとを兼備したものからなっている。
このような手順を繰返し、最終的には触媒層2内の)晶
1哀はン1ノ8a〜8dがずぺて最終口(票温度400
’C±1°Cの範囲に収まるようにする。このようにし
て触媒層2の全域力(最終目標温度に達したならば、こ
の微調整モードを継続しつつ定常運転を行う。このにう
にして、触媒の活性劣化など種々の外乱に対しても触媒
リアクタを好適に制御し続けることが可能となる。
〈発明の効果〉 このように、本発明によれば、コントローラ12を所定
のプログラムに従って作動させることにより、従来困難
であった触媒リアクタ等の流通装置の温度制御を安定か
つ正確にしかも自動的に行なうことができ、生産性向上
及び省力化に関して多大の効果を秦することかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明を適用し得る触媒リアクタ装置内の温度
伝達の方向を示す模式図である。 第2図は触媒による反応がある場合とない場合とに於け
る触媒リアクタ及び加熱手段内部の温度分布を示すグラ
フである。 第3図は本発明に基づく触rM層のための温度制御装置
の概要を示す図式的ブロック図で必る。 第4図は第3図に示された実施例の機能的な構造を示す
ブロック図である。 第5図は第3図及び第4図に示された実施例による温度
111制御の過程を示す3次元グラフでめる。 1・・・触媒リアクタ  2・・・触媒層3〜6・・・
加熱手段  7・・・管路8a〜8d、9a〜9d・・
・温度レンサ10a〜10d・・・温度調節計 11a〜11d・・・駆動装置 12・・・コントローラ 20・・・矢印時 許 出 
願 人  千代田化工建設株式会社代   理   人
  弁理士 人 島 陽 −第1図 ア 第2図 第3511

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)流体を流通可能な流通装置の温度を制御するため
    の装置であって、 前記流通装置内の流体流れ方向に沿って配設された複数
    の加熱手段と、 前記加熱手段に付設された第一の温度検出手段と、 前記流通装置内にて前記各加熱手段に対応する位置に配
    設された第二の温度検出手段と、 前記第一の温度検出手段の検出結果を所定の第一の目標
    温度に一致させるように前記加熱手段の作動を制御する
    第一の制御手段と、 前記第二の温度検出手段の検出結果を所定の第二の目標
    温度に一致させるように前記第一の制御手段の前記第一
    の目標温度を制御するための第二の制御手段とを備える
    ことを特徴とする流通装置のための温度制御装置。
  2. (2)流体を流通可能な流通装置内の流体流れ方向に沿
    って配設された複数の加熱手段と、流体を流通可能な流
    通装置の温度を制御するための装置であって、前記流通
    装置内の流体流れ方向に沿って配設された複数の加熱手
    段と、前記加熱手段に付設された第一の温度検出手段と
    、前記流通装置内にて前記各加熱手段に対応する位置に
    配設された第二の温度検出手段と、前記第一の温度検出
    手段の検出結果を所定の第一の目標温度に一致させるよ
    うに前記加熱手段の作動を制御する第一の制御手段と、
    前記第二の温度検出手段の検出結果を所定の第二の目標
    温度に一致させるように前記第一の制御手段の前記第一
    の目標温度を制御するための第二の制御手段とを備える
    装置を用いて流通装置の温度制御を行なうための方法で
    あって、前記第二の制御手段により、前記第一の制御手
    段の前記第一の目標温度を、前記第二の温度検出手段の
    検出結果が昇温目標温度に達するレベルに定め、前記各
    加熱手段を同時に作動させる昇温過程と、 前記第二の制御手段により、前記第一の制御手段の前記
    第一の目標温度を、前記第二の温度検出手段の検出結果
    が過渡的目標温度に達するレベルに定め、前記各加熱手
    段を、対応する第二の温度検出手段により前記過渡的目
    標温度に対応する温度が得られるまで順次個別に作動さ
    せ、前記第二の温度検出手段の検出結果が最終的な目標
    温度に達するまで前記過渡的目標温度を徐々に増大させ
    る微調整過程とを行なうことを特徴とする流通装置のた
    めの温度制御方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103759857A (zh) * 2014-01-23 2014-04-30 北京鑫雅图科贸有限公司 一种物料管道伴热在线监控系统

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS553862U (ja) * 1978-06-23 1980-01-11
JPS5998221A (ja) * 1982-11-26 1984-06-06 Shimadzu Corp 加熱制御装置

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CN103759857B (zh) * 2014-01-23 2016-08-17 北京鑫雅图科贸有限公司 一种物料管道伴热在线监控系统

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