JPS62197155A - 恒温装置 - Google Patents

恒温装置

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JPS62197155A
JPS62197155A JP3847286A JP3847286A JPS62197155A JP S62197155 A JPS62197155 A JP S62197155A JP 3847286 A JP3847286 A JP 3847286A JP 3847286 A JP3847286 A JP 3847286A JP S62197155 A JPS62197155 A JP S62197155A
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JP
Japan
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container
heated
metal powder
heating
source
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JP3847286A
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Eiichi Mizutani
水谷 栄一
Shigeo Tsukada
塚田 茂男
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Chuo Kakohki Coltd
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Chuo Kakohki Coltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は恒温装置に関する。
機械組立工場等では組立部品を予め加熱しておいてから
組立る場合があり、このような場合に恒温装置が利用さ
れる。そして近年の高効率且つ高技術水準時代において
は、組立作業の効率及び精度も厳に要求される。例えば
、金属製部品へプラスチック製部品を焼き付ける場合、
プラスチック製部品の軟化点等その物性に配慮しつつ金
属製部品を加熱するが、この際に、作業の効率性や経済
性を確保する前提で±5℃程度の精度が要求されるO 本発明はかかる要求に応える恒温装置に関するものであ
る。
〈従来の技術、その問題点〉 従来、被加熱物をバーナで直接加熱するような殆んど加
熱精度を無視する単純加熱の場合を除き、次のような恒
温装置がある。先ず、電熱ヒータ等を利用し、密閉室内
で加熱空気を循環させる装置がある。しかしこの装置に
は、熱容量が小さく、熱伝達係数も小さい加熱空気を熱
媒体とするため、加熱に時間がかかり過ぎるという問題
点がある。
また、同様の加熱源を利用して、水系又は油系のバスを
使用する装置がある。しかしこの装置には、被加熱物に
バス中の液体が付着するという問題点がある。予め被加
熱物を密封包装しておいてからバス中で加熱する手段も
あるが、これでは作業性が悪過ぎる。更に、通常はバー
ナを利用し、耐火物で構築された炉を使用する装置があ
る。しかしこの装置には、炉内の昇温に時間がかかり過
ぎ、非経済的であり、恒温状態の維持が難しく、その精
度も悪いという問題点がある。
〈発明が解決しようとする問題点、その解決手段〉 本発明は、斜上の如き従来の問題点を解決し、前述した
要求に応える新たな恒温装置を提供するものである。
しかして本発明は、 振動発生源の駆動によシある種の自由運動が与えられる
ようにスプリングの如き弾性体で容器が支持されておシ
、加熱源を装備する該容器には金属粉粒が装填されてい
て、振動発生源で容器を振動させて該容器に装填された
金属粉粒を攪拌混合しつつ加熱源で均一加熱することに
より、該金属粉粒に装入された被加熱物を所定温度に加
熱するようにして成る恒温装置に係る。
以下、図面に基づいて本発明の構成を更に詳細に説明す
る。
第1図は本発明の一実施例を示す全体側面図である。型
置円筒型の上部開放容器11が架台21に固定され、容
器11には金属粉粒Aが装填されていて、熱媒体の流通
可能なジャケット31が周設されている。架台21には
図示しないモータ駆動の偏心錘の如き振動発生源41が
装着され、該架台21はスプリング51.52を介して
基台61に支持されている。
第2図は本発明の他の一実施例を示す全体側面図である
。横置円筒型の密閉系容器12がスプリング53.54
を介して基台62に支持されている。容器12には、そ
の上方に被加熱材の蓋付製出入ロア2が付設され、また
その下方に振動発生−3= 源42が装着されていて、更に熱媒体の流通可能なジャ
ケット32が周設されており、その内部に金属粉粒Aが
装填されている。
本発明において、加熱源は図示したようなジャケットの
他に、電熱ヒータや遠赤外線ヒータ等が単独で又は混合
で適用され、これらの加熱源はその種類に応じて、容器
の周面や内部で蛇管状又はパネル状等適宜に装備するこ
とができ、例えば遠赤外線ヒータのような場合には容器
の外周に添い若干の間隔を空けて付設するのが好ましい
のである。また本発明において金属粉粒は、金属単独又
はその酸化物等の粉体乃至粒体を意味し、例えばアルミ
ニウム粉、鉄粉、銅粉、更にはそれらの酸化物が適用で
きるが、熱伝導性のよいものが好ましい。
〈作用〉 次に、本発明の作用を第1図に示した実施例に基づいて
説明する。図示し表いモータにより振動発生源41を駆
動させると、容器11が振動し、その内部に装填されて
いる金属粉粒Aがある種の円運動を伴なう攪拌混合状態
になる。この状態でジャケット31に熱媒体を流通させ
ると、金属粉粒Aは速やかに均一加熱される。したがっ
て、該金属粉粒Aへ被加熱物を装入すれば、被加熱物も
速やかに所定温度まで加熱されるのである。金属粉粒A
の加熱温度が、したがって被加熱物の加熱温度も、必要
に応じ公知の手段で制御され得ることはいうまでもない
。場合によって異なるが、容器11の振動は通常、振動
数1200〜1750回/分×全振幅1〜数闘とし、金
属粉粒Aの装填量はできるだけ少ない方がよい。
本発明者らが試験した結果の一例を挙げると、第1図に
おいて、直径450mX高さ500闘の容器に60メツ
シユの鉄粉を底面より350咽まで装填し、容器を振動
数1700回/分X全振幅2鱈で振動させつつ、ジャケ
ットに300℃の熱媒体を流通させると、20分後には
、鉄粉の上面側方位置aで270℃、鉄粉の上面から1
50ttmの中央位置すで268℃、鉄粉の上面から2
00間の側方位置Cで273℃に到達していた。そして
この状態を制御しつつ、300gの鉄製箱型被加熱物(
200xlOOx50馴)を鉄粉へ装入すると(被加熱
物は自重で鉄粉中へ埋没する)、該被加熱物は20秒後
で270℃になっていた。
〈発明の効果〉 以上説明した通りであるから、本発明には、比較的小型
の装置で、被加熱物を極めて精度よく、効率的に且つ経
済的に恒温加熱することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す全体側面図、第2図は
本発明の他の一実施例を示す全体側面図である。 11、12・・・容器、   21・・・架台、31.
32・・ジャケット、41,42・・・振動発生源、5
1〜54・・・スプリング、61.62・・・基台、A
、 B・・・金属粉粒、

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 振動発生源の駆動によりある種の自由運動が与えら
    れるようにスプリングの如き弾性体で容器が支持されて
    おり、加熱源を装備する該容器には金属粉粒が装填され
    ていて、振動発生源で容器を振動させて該容器に装填さ
    れた金属粉粒を攪拌混合しつつ加熱源で均一加熱するこ
    とにより、該金属粉粒に装入された被加熱物を所定温度
    に加熱するようにして成る恒温装置。 2 加熱源が容器に周設された熱媒体の流通可能なジャ
    ケットである特許請求の範囲第1項記載の恒温装置。 3 加熱源が容器外周に添って付設された遠赤外線ヒー
    タである特許請求の範囲第1項記載の恒温装置。
JP61038472A 1986-02-24 1986-02-24 恒温装置 Expired - Lifetime JPH0622689B2 (ja)

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JPH0622689B2 JPH0622689B2 (ja) 1994-03-30

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2349588A (en) * 1999-02-09 2000-11-08 Michael Cole Vacuum evaporator with fluid bath heating.
US20120085284A1 (en) * 2010-10-07 2012-04-12 Dassel Mark W Mechanically fluidized reactor systems and methods, suitable for production of silicon
US8871153B2 (en) 2012-05-25 2014-10-28 Rokstar Technologies Llc Mechanically fluidized silicon deposition systems and methods

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5673548A (en) * 1979-11-19 1981-06-18 Dainippon Ink & Chem Inc Automatic shaking type constant temperature oil vessel
JPS5973057A (ja) * 1982-10-16 1984-04-25 Yamato Scient Co Ltd サンドバス

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5673548A (en) * 1979-11-19 1981-06-18 Dainippon Ink & Chem Inc Automatic shaking type constant temperature oil vessel
JPS5973057A (ja) * 1982-10-16 1984-04-25 Yamato Scient Co Ltd サンドバス

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2349588A (en) * 1999-02-09 2000-11-08 Michael Cole Vacuum evaporator with fluid bath heating.
US20120085284A1 (en) * 2010-10-07 2012-04-12 Dassel Mark W Mechanically fluidized reactor systems and methods, suitable for production of silicon
CN103154314A (zh) * 2010-10-07 2013-06-12 马克·W·达瑟尔 适于生产硅的机械流化的反应器系统和方法
US8871153B2 (en) 2012-05-25 2014-10-28 Rokstar Technologies Llc Mechanically fluidized silicon deposition systems and methods
US9365929B2 (en) 2012-05-25 2016-06-14 Rokstar Technologies Llc Mechanically fluidized silicon deposition systems and methods

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JPH0622689B2 (ja) 1994-03-30

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