JPS62197073A - ハイパ−サ−ミア装置 - Google Patents
ハイパ−サ−ミア装置Info
- Publication number
- JPS62197073A JPS62197073A JP3737586A JP3737586A JPS62197073A JP S62197073 A JPS62197073 A JP S62197073A JP 3737586 A JP3737586 A JP 3737586A JP 3737586 A JP3737586 A JP 3737586A JP S62197073 A JPS62197073 A JP S62197073A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- hyperthermia device
- living body
- coils
- pair
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 206010020843 Hyperthermia Diseases 0.000 title claims 13
- 230000036031 hyperthermia Effects 0.000 title claims 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 4
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ような渦電流（図中破線）が流れ、吸収エネルギーの大
きな部分が第２図の斜線部２１，２２．２３に発生する
。ここでコイル近傍の高温部２１．２３は不要であるだ
けでなく、やけど等の副作用も考えられるため、コイル
２，３と生体１間に冷却用パッド７を入れ、体表部の発
熱を抑えている。
きな部分が第２図の斜線部２１，２２．２３に発生する
。ここでコイル近傍の高温部２１．２３は不要であるだ
けでなく、やけど等の副作用も考えられるため、コイル
２，３と生体１間に冷却用パッド７を入れ、体表部の発
熱を抑えている。
本実施例の変形例として、第３図に示すように第１図の
コイル２，３を１つｌζしたコイル３２を用いれば、１
つのアンプ３３及び発振器３４にて同様の効果を得る事
が可能である。
コイル２，３を１つｌζしたコイル３２を用いれば、１
つのアンプ３３及び発振器３４にて同様の効果を得る事
が可能である。
により、２つのコイルのパワーバランスを変え、生体１
内の加温パターンを変更する事が出来る。
内の加温パターンを変更する事が出来る。
例えば、アンプ４の出力を絞、た場合の吸収エネルギー
分布は第４図のようになり、深部の高温部をコイル２側
に偏移させ得る。
分布は第４図のようになり、深部の高温部をコイル２側
に偏移させ得る。
本発明の他の実施例を第５図に示す。前述の実施例とは
異なり、２つのコイル５２．５３の幅Ｗ、Ｗ／が異って
いる。このためそれぞれに電力を供給するアンプ５４
、５５が同一のパワーで駆動されていても、生体内に発
生される磁界の強さに差が出来るため、第４図に示した
ものとほぼ同様の吸収エネ様である。
異なり、２つのコイル５２．５３の幅Ｗ、Ｗ／が異って
いる。このためそれぞれに電力を供給するアンプ５４
、５５が同一のパワーで駆動されていても、生体内に発
生される磁界の強さに差が出来るため、第４図に示した
ものとほぼ同様の吸収エネ様である。
また、本発明の他の実施例を第６図に示す。この実施例
ではコイルの位置が生体ＩＩこ対゛し片側に偏って配置
されている。このため内部の電力吸収分布は図中斜線部
のように変形でき、体内で中心以外の部位の深部加温に
適していると考えられる。
ではコイルの位置が生体ＩＩこ対゛し片側に偏って配置
されている。このため内部の電力吸収分布は図中斜線部
のように変形でき、体内で中心以外の部位の深部加温に
適していると考えられる。
この実施例のより極端な例としては第７図のような配置
が考えられる。
が考えられる。
本発明の更に他の実施例を第８図に示す。本実施例では
、第１図に示したものと同様にコイル８１．８２が生体
１をはさんでいる（発振器、アンプは図示せず）。そし
て、その他にコイル８１．８２と生体との間に磁場変形
用の補助コイル８３．８４が配置しである。それぞれの
コイルの電流は矢印の方向に流れており、補助コイル８
３ 、８４は生体内コイル近傍でコイル８１，８２によ
つて生じる磁界を打ち消すように作用する。このように
生体表面近くでの磁束を減少させ、表面の加熱を抑制す
る事ができる。また、この補助コイル８３，８４はコイ
ル８１８２の内部に置く事も可能である。
、第１図に示したものと同様にコイル８１．８２が生体
１をはさんでいる（発振器、アンプは図示せず）。そし
て、その他にコイル８１．８２と生体との間に磁場変形
用の補助コイル８３．８４が配置しである。それぞれの
コイルの電流は矢印の方向に流れており、補助コイル８
３ 、８４は生体内コイル近傍でコイル８１，８２によ
つて生じる磁界を打ち消すように作用する。このように
生体表面近くでの磁束を減少させ、表面の加熱を抑制す
る事ができる。また、この補助コイル８３，８４はコイ
ル８１８２の内部に置く事も可能である。
第１図は本発明の一実施例の構成を示す図、第２図は同
実施例における生体の吸収エネルギー分布を示す図、第
３図は本発明の他の実施例の構成を示す図、第４図は同
実施例における生体の吸収エネルギー分布を示す図、第
５図乃至第８図はそれぞれ本発明の更に他の実施例を示
す図、第９図乃至第１３図はそれぞれ従来の装置を説明
するための図、第１４図および第１５図はそれぞれ本発
明の詳細な説明するための図である。 １・・・生体、２，３，３２，５２，５３，８１．８２
・・・加温用コイル、８３．８４・・・磁場変更用補助
コイル、４，５゜３３．５４，５５・・・アンプ、６
、３４ 、５６・・・発振器。
実施例における生体の吸収エネルギー分布を示す図、第
３図は本発明の他の実施例の構成を示す図、第４図は同
実施例における生体の吸収エネルギー分布を示す図、第
５図乃至第８図はそれぞれ本発明の更に他の実施例を示
す図、第９図乃至第１３図はそれぞれ従来の装置を説明
するための図、第１４図および第１５図はそれぞれ本発
明の詳細な説明するための図である。 １・・・生体、２，３，３２，５２，５３，８１．８２
・・・加温用コイル、８３．８４・・・磁場変更用補助
コイル、４，５゜３３．５４，５５・・・アンプ、６
、３４ 、５６・・・発振器。
Claims (11)
- （１）生体を電磁波により加温治療するハイパーサーミ
ア装置において、ほぼ同一平面上で生体をはさむように
配置された１対の加温用コイルと、該コイルに高周波電
力を供給する手段と、生体表面を冷却する手段とからな
る事を特徴とするハイパーサーミア装置。 - （２）１対の加温用コイルと同一平面上に高周波電力が
供給される複数の磁場変更用補助コイルを有する事を特
徴とする特許請求の範囲第１項記載のハイパーサーミア
装置。 - （３）加温用コイルが弓形である事を特徴とする特許請
求の範囲第１項記載のハイパーサーミア装置。 - （４）１対の加温用コイルの形状が同一である事を特徴
とする特許請求の範囲第１項記載のハイパーサーミア装
置。 - （５）１対の加温用コイルの形状が、それぞれ異なる事
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のハイパーサー
ミア装置。 - （６）供給される高周波が１〜１００ＭＨｚである事を
特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記載のハイ
パーサーミア装置。 - （７）高周波電力を供給する手段は、１対の加温用コイ
ルに均等に電力供給する事を特徴とする特許請求の範囲
第１項記載のハイパーサーミア装置。 - （８）高周波電力を供給する手段は、１対の加温用コイ
ルへの供給電力の割合を変更できる事を特徴とする特許
請求の範囲第１項記載のハイパーサーミア装置。 - （９）高周波電力を供給する手段は、全電力を変更でき
る事を特徴とする特許請求の範囲第１項記載のハイパー
サーミア装置。 - （１０）冷却手段は、前記加温用コイルと生体の間に置
かれた冷却水を循環するパッドである事を特徴とする特
許請求の範囲第１項記載のハイパーサーミア装置。 - （１１）冷却手段は、空気が通過できるように、前記加
温用コイルと生体間に開けられた空隔である事を特徴と
する特許請求の範囲第１項記載のハイパーサーミア装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3737586A JPS62197073A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3737586A JPS62197073A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62197073A true JPS62197073A (ja) | 1987-08-31 |
Family
ID=12495768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3737586A Pending JPS62197073A (ja) | 1986-02-24 | 1986-02-24 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62197073A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989003706A1 (en) * | 1987-10-27 | 1989-05-05 | Yokogawa Medical Systems, Ltd. | Hyperthermic apparatus |
| JPH0366386A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-22 | Aloka Co Ltd | 電磁波コイル式ハイパーサーミア装置 |
| US6945827B2 (en) | 2002-12-23 | 2005-09-20 | Formfactor, Inc. | Microelectronic contact structure |
| JP2006520672A (ja) * | 2003-03-07 | 2006-09-14 | ニューロネティクス、インク． | 電気刺激に起因する不快感を軽減するための装置 |
| US7122760B2 (en) | 2002-11-25 | 2006-10-17 | Formfactor, Inc. | Using electric discharge machining to manufacture probes |
| US7140883B2 (en) | 1993-11-16 | 2006-11-28 | Formfactor, Inc. | Contact carriers (tiles) for populating larger substrates with spring contacts |
| US8517908B2 (en) | 2003-03-07 | 2013-08-27 | Neuronetics, Inc. | Reducing discomfort caused by electrical stimulation |
-
1986
- 1986-02-24 JP JP3737586A patent/JPS62197073A/ja active Pending
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1989003706A1 (en) * | 1987-10-27 | 1989-05-05 | Yokogawa Medical Systems, Ltd. | Hyperthermic apparatus |
| JPH0366386A (ja) * | 1989-08-02 | 1991-03-22 | Aloka Co Ltd | 電磁波コイル式ハイパーサーミア装置 |
| US7140883B2 (en) | 1993-11-16 | 2006-11-28 | Formfactor, Inc. | Contact carriers (tiles) for populating larger substrates with spring contacts |
| US7122760B2 (en) | 2002-11-25 | 2006-10-17 | Formfactor, Inc. | Using electric discharge machining to manufacture probes |
| US7488917B2 (en) | 2002-11-25 | 2009-02-10 | Formfactor, Inc. | Electric discharge machining of a probe array |
| US6945827B2 (en) | 2002-12-23 | 2005-09-20 | Formfactor, Inc. | Microelectronic contact structure |
| US7731546B2 (en) | 2002-12-23 | 2010-06-08 | Formfactor, Inc. | Microelectronic contact structure |
| JP2006520672A (ja) * | 2003-03-07 | 2006-09-14 | ニューロネティクス、インク． | 電気刺激に起因する不快感を軽減するための装置 |
| US8517908B2 (en) | 2003-03-07 | 2013-08-27 | Neuronetics, Inc. | Reducing discomfort caused by electrical stimulation |
| US8864641B2 (en) | 2003-03-07 | 2014-10-21 | Neuronetics, Inc. | Reducing discomfort caused by electrical stimulation |
| US10413745B2 (en) | 2003-03-07 | 2019-09-17 | Neuronetics, Inc. | Reducing discomfort caused by electrical stimulation |
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