JPH0366386A - 電磁波コイル式ハイパーサーミア装置 - Google Patents
電磁波コイル式ハイパーサーミア装置Info
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- JPH0366386A JPH0366386A JP20207789A JP20207789A JPH0366386A JP H0366386 A JPH0366386 A JP H0366386A JP 20207789 A JP20207789 A JP 20207789A JP 20207789 A JP20207789 A JP 20207789A JP H0366386 A JPH0366386 A JP H0366386A
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- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 abstract description 10
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、電磁波コイル式ハイパーサーミア装置、特に
生体内の患部組織に電磁波を照射して生体内患部の加温
を良好に行うことのできる電磁波コイル式ハイパーサー
ミア装置に関する。
生体内の患部組織に電磁波を照射して生体内患部の加温
を良好に行うことのできる電磁波コイル式ハイパーサー
ミア装置に関する。
[従来の技術]
医療分野において、生体内の腫瘍、例えば癌組織等の患
部組織に高周波やマイクロ波、電磁波を照射して組織の
温度を42〜45℃程度に加温し、これを連続的あるい
は間欠的に行うことによって患部組織の治療を行うハイ
パーサーミア装置が広範囲に利用されている。
部組織に高周波やマイクロ波、電磁波を照射して組織の
温度を42〜45℃程度に加温し、これを連続的あるい
は間欠的に行うことによって患部組織の治療を行うハイ
パーサーミア装置が広範囲に利用されている。
そして、このような癌組織等の腫瘍に温熱治療が有効な
ことは、周知であり、腫瘍は正常組織に比べ42℃以上
の温度に弱いということから、ハイパーサーミア装置に
よる加熱治療が注目されている。そして、この加熱治療
法には、患部の加熱を無侵襲で実施する各種方式がある
。例えば浅部の腫瘍に有効なマイクロ波加熱、深部に対
してはRF電極加熱や高周波誘導加熱が用いられている
。
ことは、周知であり、腫瘍は正常組織に比べ42℃以上
の温度に弱いということから、ハイパーサーミア装置に
よる加熱治療が注目されている。そして、この加熱治療
法には、患部の加熱を無侵襲で実施する各種方式がある
。例えば浅部の腫瘍に有効なマイクロ波加熱、深部に対
してはRF電極加熱や高周波誘導加熱が用いられている
。
そして、特に電磁波加温式のハイパーサーミア装置は、
照射領域を限定できるという利点があり、この高周波誘
導加熱法は、所定の周波数域の磁界中に生体を置くと、
この生体が電磁波エネルギーにより加熱されることを利
用したものであり、この電磁波エネルギーによって患部
組織の加温治療が非侵襲的に行われる。
照射領域を限定できるという利点があり、この高周波誘
導加熱法は、所定の周波数域の磁界中に生体を置くと、
この生体が電磁波エネルギーにより加熱されることを利
用したものであり、この電磁波エネルギーによって患部
組織の加温治療が非侵襲的に行われる。
このような高周波誘導加熱方式のハイパーサーミア装置
において、その高周波誘導加熱原理が第4図に示されて
いる。すなわち、第4図は従来の電磁波コイル式ハイパ
ーサーミア装置の概略図であり、人体の加熱には高周波
電流が用いられている。
において、その高周波誘導加熱原理が第4図に示されて
いる。すなわち、第4図は従来の電磁波コイル式ハイパ
ーサーミア装置の概略図であり、人体の加熱には高周波
電流が用いられている。
すなわち、図に示すように被加熱人体10をリング状コ
イル12内に配置し、所望の生体患部14に該リング中
心位置が来るようにリング状コイル12を位置決め、固
定する。
イル12内に配置し、所望の生体患部14に該リング中
心位置が来るようにリング状コイル12を位置決め、固
定する。
そして、該コイルに交流電流12aを通電すると、コイ
ルによって発生した磁力線12bが人体を貫通し、通電
流の周波数に従って磁力線12bの方向が変化する。こ
の際、人体中には、その磁力線の変化を阻止しようとす
る電気力が作用して、コイル電流と逆方向の電流が誘起
される。
ルによって発生した磁力線12bが人体を貫通し、通電
流の周波数に従って磁力線12bの方向が変化する。こ
の際、人体中には、その磁力線の変化を阻止しようとす
る電気力が作用して、コイル電流と逆方向の電流が誘起
される。
そして、この誘起された誘導電流12cは、人体中を流
れ抵抗損失のため発熱する。
れ抵抗損失のため発熱する。
そして、この発熱状態は、第3図に示されているような
谷状の温度上昇率の分布となり、−数的には特性Aのよ
うに、コイル12の中心部は温度上昇率が小さく、コイ
ル近傍は温度上昇率が大きくなる。
谷状の温度上昇率の分布となり、−数的には特性Aのよ
うに、コイル12の中心部は温度上昇率が小さく、コイ
ル近傍は温度上昇率が大きくなる。
このために、患部中心部14が加熱されず、体表面のみ
が加熱されてしまうという不具合があった。
が加熱されてしまうという不具合があった。
そこで、従来のハイパーサーミア装置では、温度分布は
周波数に依存するため、周波数を変化させて、特性Bあ
るいは特性Cのような温度分布とすることにより、中心
部での温度上昇率を大きくして、患部の加熱効果を上げ
ることが行われていた。
周波数に依存するため、周波数を変化させて、特性Bあ
るいは特性Cのような温度分布とすることにより、中心
部での温度上昇率を大きくして、患部の加熱効果を上げ
ることが行われていた。
つまり、第3図に示されている温度分布の特性は、交流
電流の周波数の関係にあり、誘導電流12cの密度、す
なわち発熱状態(温存上昇率)は、体表面の誘導電流密
度比(温度上昇率)を最大1とすれば、周波数fによっ
て特性A、 B、 Cのように変化する。この特性によ
り高い周波数から低い周波数に変化するにしたがって図
示されている中心、すなわち患部14での電流密度比が
大きくなるということが理解される。
電流の周波数の関係にあり、誘導電流12cの密度、す
なわち発熱状態(温存上昇率)は、体表面の誘導電流密
度比(温度上昇率)を最大1とすれば、周波数fによっ
て特性A、 B、 Cのように変化する。この特性によ
り高い周波数から低い周波数に変化するにしたがって図
示されている中心、すなわち患部14での電流密度比が
大きくなるということが理解される。
これらを電流浸透の深さδで表わすと次式のようになる
。
。
δ−so、 3Jコ;丁’af E〜・
コここで、ρは人体の固有抵抗μΩ・cm、 μは人
体の実効透磁率、fは周波数Hzである。
コここで、ρは人体の固有抵抗μΩ・cm、 μは人
体の実効透磁率、fは周波数Hzである。
以上のことから、第3図の特性のように、周波数fが高
いほど人体表面への電流の集中傾向が大きくなり、周波
数fが低いほど患部中心への電流の集中が増加すること
から、従来では人体深部への寄与を大きくするための周
波数fは、経験的に250 kHz〜200 kHzが
患部の加熱効果を得る最適値として設定されていた。
いほど人体表面への電流の集中傾向が大きくなり、周波
数fが低いほど患部中心への電流の集中が増加すること
から、従来では人体深部への寄与を大きくするための周
波数fは、経験的に250 kHz〜200 kHzが
患部の加熱効果を得る最適値として設定されていた。
[発明が解決しようとする課題]
このようにして、第4図に示されている従来の電磁波コ
イル式ハイパーサーミア装置によれば、例えば周波数f
は、コイル中心の患部の温熱効果を得るため250KH
z〜200KHzに設定されるが、この場合においても
、第3図の谷状の温度分布では、どうしても患部中心よ
り人体表面での電流密度が高くなるため加熱部体表面が
熱せられ、深部Wfi瘍への加熱寄与が少ないという欠
点があった。また更に、コイル近傍部位の人体表面の温
度上昇が大きいために表皮火傷となる問題があった。
イル式ハイパーサーミア装置によれば、例えば周波数f
は、コイル中心の患部の温熱効果を得るため250KH
z〜200KHzに設定されるが、この場合においても
、第3図の谷状の温度分布では、どうしても患部中心よ
り人体表面での電流密度が高くなるため加熱部体表面が
熱せられ、深部Wfi瘍への加熱寄与が少ないという欠
点があった。また更に、コイル近傍部位の人体表面の温
度上昇が大きいために表皮火傷となる問題があった。
発明の目的
本発明は、上記従来の課題に鑑みなされたものであり、
その目的は、コイル近傍部位の体表面の加熱を一様に緩
和し、深部の生体患部のみを確実、容易に、かつ無侵襲
で高周波誘導加熱することのできる電磁波コイル式ハイ
パーサーミア装置を提供することにある。
その目的は、コイル近傍部位の体表面の加熱を一様に緩
和し、深部の生体患部のみを確実、容易に、かつ無侵襲
で高周波誘導加熱することのできる電磁波コイル式ハイ
パーサーミア装置を提供することにある。
[3題を解決するための手段]
上記目的を達成するため、本発明によれば、コイルの任
意の直径を通るX軸を揺動軸としてリング状コイルを所
定角度及び速度で揺動させるX軸揺動装置と、コイルの
直径を通りX軸と直交するY軸を揺動軸としてリング状
コイルを所定角度及び速度で揺動させるYllll揺動
装置とを有し、前記リング状コイルを揺動させて生体患
部のみを誘導加熱することを特徴とする。
意の直径を通るX軸を揺動軸としてリング状コイルを所
定角度及び速度で揺動させるX軸揺動装置と、コイルの
直径を通りX軸と直交するY軸を揺動軸としてリング状
コイルを所定角度及び速度で揺動させるYllll揺動
装置とを有し、前記リング状コイルを揺動させて生体患
部のみを誘導加熱することを特徴とする。
[作用]
以上のような構成としたので、本発明によれば、X1l
dl及びY軸揺動装置により、揺動軸をコイルの任意の
直径を通るX軸と該コイルの直径を通りX軸と直交する
Y軸とに設定し、これにより、リング状コイルを所定の
角度及び速度で揺動させることができる。このため、該
リングの中心部に配置された生体患部のみに電磁波を集
中的に照射して、患部を誘導加熱することができ、かつ
前記コイルの揺動により中心部以外の生体組織の加熱を
分散させることが可能となる。
dl及びY軸揺動装置により、揺動軸をコイルの任意の
直径を通るX軸と該コイルの直径を通りX軸と直交する
Y軸とに設定し、これにより、リング状コイルを所定の
角度及び速度で揺動させることができる。このため、該
リングの中心部に配置された生体患部のみに電磁波を集
中的に照射して、患部を誘導加熱することができ、かつ
前記コイルの揺動により中心部以外の生体組織の加熱を
分散させることが可能となる。
この結果、患部以外の該コイル近傍部位における体表面
の正常組織には熱的影響を少なくし、体内深部の患部組
織のみを有効に加熱治療できる。
の正常組織には熱的影響を少なくし、体内深部の患部組
織のみを有効に加熱治療できる。
[実施例]
以下、図面に基づいて、本発明の好適な実施例を説明す
る。
る。
第1図は、本発明に係る電磁波コイル式ハイパーサーミ
ア装置の概略構成図であり、第1図にはリング状コイル
12の平面図と、該コイル揺動装置20の側面図とが示
されている。
ア装置の概略構成図であり、第1図にはリング状コイル
12の平面図と、該コイル揺動装置20の側面図とが示
されている。
本発明において特徴的なことは、X軸、Y軸揺動装置に
より、リング状コイルを所定角度及び速度で揺動させて
リング中心部に配置された生体患部のみを加熱させるこ
とにあり、かつ患部以外の体表面組織には熱的影響をな
くすことにある。
より、リング状コイルを所定角度及び速度で揺動させて
リング中心部に配置された生体患部のみを加熱させるこ
とにあり、かつ患部以外の体表面組織には熱的影響をな
くすことにある。
以下、第1図に基づいて、本実施例の構成を説明する。
第1図において、コイル揺動装置20は、前記リング状
コイル12を揺動運動させて、該リング中心部に配置さ
れている生体患部だけを加熱するための装置であり、Y
軸揺動装W122とX軸揺動装置24とから構成されて
いる。ここで、前記リング状コイル12は、X軸揺動装
置24に設けられている。
コイル12を揺動運動させて、該リング中心部に配置さ
れている生体患部だけを加熱するための装置であり、Y
軸揺動装W122とX軸揺動装置24とから構成されて
いる。ここで、前記リング状コイル12は、X軸揺動装
置24に設けられている。
Y軸揺動装置22は、図に示すように基台26上に垂直
に設けられている側板28に水平状態となるようにY軸
モータ30が設置され、該モータ30の回転軸にカムを
設けたことにより形成されている。
に設けられている側板28に水平状態となるようにY軸
モータ30が設置され、該モータ30の回転軸にカムを
設けたことにより形成されている。
このY軸モータ30には、図に示すようにモータ本体の
両側から回転軸が導き出されており、その一方の回転軸
先端部(右側)に第1カム32を取り付け、他方の回転
軸先端部(左側)に第2カム34を取り付けている。
両側から回転軸が導き出されており、その一方の回転軸
先端部(右側)に第1カム32を取り付け、他方の回転
軸先端部(左側)に第2カム34を取り付けている。
ここで、第1カム32と第2カム34とは、図に示すよ
うに同じ形状であるが、カムの大きさ及びカムの回転軸
となる位置が異なっている。これにより、Y軸を中心軸
としてコイルを揺動させている。
うに同じ形状であるが、カムの大きさ及びカムの回転軸
となる位置が異なっている。これにより、Y軸を中心軸
としてコイルを揺動させている。
X軸揺動装置24は、図に示すようにモータ台36が前
記第1、第2カム32.34上に載置され、該モータ台
36上にX軸モータ38が設置されることにより形成さ
れている。そして、X軸揺動装置24は、側板28に設
けられている円弧状の第1、第2ガイド溝40.42に
沿って摺動可能となるようにしている。
記第1、第2カム32.34上に載置され、該モータ台
36上にX軸モータ38が設置されることにより形成さ
れている。そして、X軸揺動装置24は、側板28に設
けられている円弧状の第1、第2ガイド溝40.42に
沿って摺動可能となるようにしている。
すなわち、X軸モータ38が設けられているモータ台3
6は、その側面両端部にはガイドビン40a、42aが
それぞれ突設され、側板28に設けられている第1、第
2ガイド溝40.42に嵌入されて摺動可能な構造とな
っている。これにより、円弧状に該X軸モータ38を上
下移動可能としている。
6は、その側面両端部にはガイドビン40a、42aが
それぞれ突設され、側板28に設けられている第1、第
2ガイド溝40.42に嵌入されて摺動可能な構造とな
っている。これにより、円弧状に該X軸モータ38を上
下移動可能としている。
ここで、X軸モータ38の回転軸には、第1図に示すよ
うにリング状コイル12が固定されている。すなわち、
該回転軸の先端部には、該コイル12の柄の部分がジヨ
イント44を介して取り付けられている。
うにリング状コイル12が固定されている。すなわち、
該回転軸の先端部には、該コイル12の柄の部分がジヨ
イント44を介して取り付けられている。
コイル揺動制御回路46は、前記X軸モータ38とY軸
モータ30との回転をそれぞれ所定の角度又は速度に設
定して前記リング状コイル12を所定周期で回動制御、
すなわち揺動させる回路である。
モータ30との回転をそれぞれ所定の角度又は速度に設
定して前記リング状コイル12を所定周期で回動制御、
すなわち揺動させる回路である。
従って、このために該X軸モータ38及びY軸モータ3
0へそれぞれ制御信号45a、46bを同時に出力して
いる。
0へそれぞれ制御信号45a、46bを同時に出力して
いる。
次に、第1図のコイル揺動装置20の動作を説明する。
前記コイル揺動制御回路46から制御信号46aが出力
され、X軸モータ38に供給されると、該X軸モータ3
8は、予め定められた角度及び速度で回動し、これによ
り、コイル12を図に示されているX軸を中心として揺
動させる。
され、X軸モータ38に供給されると、該X軸モータ3
8は、予め定められた角度及び速度で回動し、これによ
り、コイル12を図に示されているX軸を中心として揺
動させる。
すなわち、該X軸モータ38の回転軸が、例えばX軸回
転角30″で回動し、正転・逆転を繰返し行うことでコ
イル12を揺動させる。
転角30″で回動し、正転・逆転を繰返し行うことでコ
イル12を揺動させる。
また、Y軸モータ30に制御信号46bが供給されると
、該Y軸モータ30は回転し、第1図に示されている第
1、第2カム32.34が所定の回転速度で回転する。
、該Y軸モータ30は回転し、第1図に示されている第
1、第2カム32.34が所定の回転速度で回転する。
これにより、該第1.第2カム32.34上に載置され
ている前記X軸振動装置24(X軸モータ38)を第1
、第2ガイド溝40.42に沿って円弧状に上下動させ
る。
ている前記X軸振動装置24(X軸モータ38)を第1
、第2ガイド溝40.42に沿って円弧状に上下動させ
る。
この結果、前記リング状コイル12は、第1゜第2カム
32.34の大きさ及び形状による特有の動きにしたが
って、例えばY軸回転角25°でY軸を中心として揺動
される。
32.34の大きさ及び形状による特有の動きにしたが
って、例えばY軸回転角25°でY軸を中心として揺動
される。
ここで、第1図には第1、第2カム32.34がal、
a2の位置においてモータ台36を載置し、コイル12
を水平位置に保った状態が示されているが、Y軸モータ
30の回転によりカム32゜34がbl、b2の位置に
おいては、前記X軸揺動装V!124(X軸モータ38
)は鎖線で示される最上位位置24′に移動されること
が理解される。
a2の位置においてモータ台36を載置し、コイル12
を水平位置に保った状態が示されているが、Y軸モータ
30の回転によりカム32゜34がbl、b2の位置に
おいては、前記X軸揺動装V!124(X軸モータ38
)は鎖線で示される最上位位置24′に移動されること
が理解される。
これにより、コイル12は右下がり(角度25’)の状
態になる。
態になる。
もちろん、更にモータの回転により第1、第2カム32
.34がcl、c2の位置においては、X軸振動装置2
4(X軸モータ38)は最下位位置に移動し、これによ
り、コイル12は鎖線で示すように右上がり(角度25
°)の状態になる。
.34がcl、c2の位置においては、X軸振動装置2
4(X軸モータ38)は最下位位置に移動し、これによ
り、コイル12は鎖線で示すように右上がり(角度25
°)の状態になる。
以上のようにして、本実施例によれば、X軸振動装置2
4のX軸モータ38と、Y軸揺動装置22のY軸モータ
30とを同時に回動させて、所定角度及び速度で、前記
リング状コイル12を揺動運動させることができる。
4のX軸モータ38と、Y軸揺動装置22のY軸モータ
30とを同時に回動させて、所定角度及び速度で、前記
リング状コイル12を揺動運動させることができる。
次に、前記リング状コイル12のX軸、Y軸揺動状態及
び揺動運動状態を第2図を用いて、更に詳しく説明する
。
び揺動運動状態を第2図を用いて、更に詳しく説明する
。
第2図(A)は、コイル12の揺動状態を示した図であ
り、Y軸を中心とした揺動は一点鎖線で、X軸を中心と
した揺動は2点鎖線でそれぞれ所定角度の揺動位置を示
している(但し、実線はコイルの基準位置として示して
いる)。
り、Y軸を中心とした揺動は一点鎖線で、X軸を中心と
した揺動は2点鎖線でそれぞれ所定角度の揺動位置を示
している(但し、実線はコイルの基準位置として示して
いる)。
また、第2図(B)は、コイル12の揺動運動状態を所
定時間毎に1コマずつ連続的にコイルの位置を示した図
である。
定時間毎に1コマずつ連続的にコイルの位置を示した図
である。
すなわち、第2図(B)には、コイル1周期分の揺動運
動状態が示されており、これによりコイル円周上の最高
位点12Pの移動変化の軌跡が鎖線で示されている(な
お、図中の矢印峠は12Pの移動方向を示す)。
動状態が示されており、これによりコイル円周上の最高
位点12Pの移動変化の軌跡が鎖線で示されている(な
お、図中の矢印峠は12Pの移動方向を示す)。
これは、最高位点12Pが常に高くなるようにコイルを
揺動運動させたものであり、1周期で1回、最高位点1
2Pがコイル円周上を移動したことを示したものである
。
揺動運動させたものであり、1周期で1回、最高位点1
2Pがコイル円周上を移動したことを示したものである
。
このように、リング状コイル12をX軸、Y軸を中心に
して同時に揺動させ、第2図(B)のように連続的に一
定周期、例えば1周期60秒で揺動運動することができ
る。この結果、コイル内の磁力線が強くなる中心面に対
し、中心(×印)以外の例えばコイル近傍部位は、常に
コイルを揺動運動させて、発熱が分散される。
して同時に揺動させ、第2図(B)のように連続的に一
定周期、例えば1周期60秒で揺動運動することができ
る。この結果、コイル内の磁力線が強くなる中心面に対
し、中心(×印)以外の例えばコイル近傍部位は、常に
コイルを揺動運動させて、発熱が分散される。
すなわち、本実施例では、コイル内で磁力線の強くなる
中心部には、常に腫瘍部位を存在させ、また、主要部以
外の体表面部位には、コイルを一時停止あるいは停滞さ
せないように周期的に揺動運動させ、これにより体表面
での発熱位置を常に移動させている。
中心部には、常に腫瘍部位を存在させ、また、主要部以
外の体表面部位には、コイルを一時停止あるいは停滞さ
せないように周期的に揺動運動させ、これにより体表面
での発熱位置を常に移動させている。
従って、加熱部中心(×印)は、温度上昇比がたとえ小
さくても恒常的に誘導加熱されるため、他の部位よりも
有効的に温度上昇させることができ、中心以外の体表面
は、温度上昇を低下させて発熱を防ぐことができる。
さくても恒常的に誘導加熱されるため、他の部位よりも
有効的に温度上昇させることができ、中心以外の体表面
は、温度上昇を低下させて発熱を防ぐことができる。
[発明の効果]
以上のように、本発明に係る電磁波コイル式ハイパーサ
ーミア装置によれば、従来のコイル固定式に比べ、リン
グ状コイルをX軸、Y軸揺動装置により揺動させて、該
リング中心部に配置された生体患部のみを誘導加熱する
ことができる。これにより、リング中心以外の体表面の
正常組織に熱的影響を与えることなく、患者に苦痛を与
えずに体内深部の、患部組織のみを無侵襲で有効に温熱
治療することができる。
ーミア装置によれば、従来のコイル固定式に比べ、リン
グ状コイルをX軸、Y軸揺動装置により揺動させて、該
リング中心部に配置された生体患部のみを誘導加熱する
ことができる。これにより、リング中心以外の体表面の
正常組織に熱的影響を与えることなく、患者に苦痛を与
えずに体内深部の、患部組織のみを無侵襲で有効に温熱
治療することができる。
第1図は、本発明に係る電磁波コイル式ハイパーサーミ
ア装置の概略構成図、 第2図(A)は、コイルのX軸揺動及びY軸揺動状態を
示した図、 第2図(B)は、コイルの揺動運動状態を示した図、 第3図はコイルの配置と誘導電流密度比とを示した図、 第4図は、従来の電磁波コイル式ハイパーサーミア装置
の概略構成図である。 12 ・・・ リング状コイル 20 ・・・ コイル揺動装置 24.24” ・・・ X軸揺動装置22 ・・・
Y軸揺動装置 30 ・・・ Y軸モータ 32 ・・・ 第1カム 34 ・・・ 第2カム 38 ・・・ X軸モヘータ 40 ・・・ 第1ガイド溝 42 ・・・ 第2ガイド溝 12P ・・・ 最高位点。
ア装置の概略構成図、 第2図(A)は、コイルのX軸揺動及びY軸揺動状態を
示した図、 第2図(B)は、コイルの揺動運動状態を示した図、 第3図はコイルの配置と誘導電流密度比とを示した図、 第4図は、従来の電磁波コイル式ハイパーサーミア装置
の概略構成図である。 12 ・・・ リング状コイル 20 ・・・ コイル揺動装置 24.24” ・・・ X軸揺動装置22 ・・・
Y軸揺動装置 30 ・・・ Y軸モータ 32 ・・・ 第1カム 34 ・・・ 第2カム 38 ・・・ X軸モヘータ 40 ・・・ 第1ガイド溝 42 ・・・ 第2ガイド溝 12P ・・・ 最高位点。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 リング上コイルから該リングの中心部に配置された生体
患部に電磁波を照射して、患部を加温する電磁波コイル
式ハイパーサーミア装置において、コイルの任意の直径
を通るX軸を揺動軸としてリング状コイルを所定角度及
び速度で揺動させるX軸揺動類置と、 コイルの直径を通りX軸と直交するY軸を揺動軸として
リング状コイルを所定角度及び速度で揺動させるY軸揺
動装置と、 を有し、 前記X軸、Y軸揺動装置により、前記リング状コイルを
揺動させて、生体患部のみを誘導加熱することを特徴と
する電磁波コイル式ハイパーサーミア装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1202077A JPH0798070B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 電磁波コイル式ハイパーサーミア装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1202077A JPH0798070B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 電磁波コイル式ハイパーサーミア装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0366386A true JPH0366386A (ja) | 1991-03-22 |
| JPH0798070B2 JPH0798070B2 (ja) | 1995-10-25 |
Family
ID=16451575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1202077A Expired - Lifetime JPH0798070B2 (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 電磁波コイル式ハイパーサーミア装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0798070B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61154669A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-14 | 株式会社東芝 | 超音波温熱治療装置 |
| JPS628770A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-16 | チエスト株式会社 | マイクロ波加温装置 |
| JPS62197073A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | 株式会社東芝 | ハイパ−サ−ミア装置 |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP1202077A patent/JPH0798070B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61154669A (ja) * | 1984-12-28 | 1986-07-14 | 株式会社東芝 | 超音波温熱治療装置 |
| JPS628770A (ja) * | 1985-07-05 | 1987-01-16 | チエスト株式会社 | マイクロ波加温装置 |
| JPS62197073A (ja) * | 1986-02-24 | 1987-08-31 | 株式会社東芝 | ハイパ−サ−ミア装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0798070B2 (ja) | 1995-10-25 |
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