JPS62193220A - 電圧非直線性素子 - Google Patents

電圧非直線性素子

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JPS62193220A
JPS62193220A JP61035994A JP3599486A JPS62193220A JP S62193220 A JPS62193220 A JP S62193220A JP 61035994 A JP61035994 A JP 61035994A JP 3599486 A JP3599486 A JP 3599486A JP S62193220 A JPS62193220 A JP S62193220A
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JP
Japan
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voltage
zno
powder
low
varistor
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Pending
Application number
JP61035994A
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English (en)
Inventor
康男 若畑
真二 原田
浩明 水野
勇 増山
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は印加電圧によって抵抗値が変化する電圧非直線
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリックス1駆動の液晶、ELなどの表示デバ
イスのスイッチング素子などに利用されるものである。
従来の技術 従来の電圧非直線性素子は、酸化亜鉛(ZnO)に酸化
ビスマス(Bi2O5) 、酸化コバルト(CO203
)、酸化マンカン(MnO2)、酸化アンチモン(5b
20s )などの酸化物を添加して、1000〜136
0℃で溶結したZnOバリスタなど、種々のものがある
その中で、ZnOバリスタは電圧非直線指数α、サージ
耐量が大きいことから、最も一般的に使われている。(
特公昭46−19472号公報参照)発明が解決しよう
とする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、ZnOバリスタ
を初めとして、素子厚みを薄く(数十μm以下)するこ
とに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流j
 mAを流した時の電圧v1mAで表される)を低くす
ることに限界があり、低電圧用ICの保護素子や低い電
圧における電圧安定化素子として使えないものであった
。また、上述したように1000’C以上の高温プロセ
スを必要とするため、ガラス基板上あるいは回路基板上
に電圧非直線性素子を直接形成できないという問題があ
った。さらに、従来のものは並列静電容量が大きく、例
えば液晶などのスイッチング素子としては不適当なもの
であるなどの問題点を有していた。
問題点を解決するだめの手段 この問題点を解決するために本発明は、5b203を主
成分とする薄い絶縁被膜を有した微粉末状の半導体物質
が複数個集まった状態を一つの粉末とし、その粉末間も
しくは一部に上記微粉末を含む粉末間を低融点ガラスで
固め、電極を備えてなるものである。
作用 この構成によれば、低電流域においても電圧非直線指数
αの大きなものが得られ、かつ電極間距離を狭く(数十
μm以下)して素子を形成することができ、低電圧化に
適した素子がきわめて容易に得られることとなる。また
、低融点ガラスで固めて素子形成を行うために高温プロ
セスを必要とすることなく作ることができるため、回路
基板上にヌ・3子を直接形成することができ、ZnOバ
リスタなどでは考えられない幅広い用途が期待できるも
のである。さらに、粉末状の半導体物質を低融点ガラス
で固めたものであるため、それぞれの半導体物質の粉末
間は点接触となり、接触面積が小さいことから並列静電
容量の小さなものが得られ、液晶などのデバイスのスイ
ッチング素子として最適な素子が提供できることとなる
、。
実施例 以下、本発明を実施例をもとづいて詳細に説明する。
まず、粒子径が0.06〜1μmの微粒子状の酸化亜鉛
を700〜1300℃で焼成した後、その焼結されたZ
nOを0.6〜50A1mの粒子径(平均粒子径1〜1
0μm)に粉砕し、そのZnO微粉末に酸化アンチモン
を0.05〜10m0L%添加し、600〜1350℃
で10〜eO分間、熱処理し、そのZnO微粉末表面に
酸化アンチモンの絶縁被膜を形成した。ここで、微粉末
状のZnOの表面には5b203絶縁被膜がほぼ数十〜
数百への厚さで薄く形成されていることが認められた。
次いで、このようにして作成した5b205絶縁被膜が
表面についたZnO微粉末群は弱い力で互いに接着して
いるので、これを乳鉢あるいはボットミルでほぐし、上
記ZnO微粉末がそれぞれ複数個集まった微粉末群の状
軛としたC以下、この状態のものを粉末状という)。こ
の時、一部に上記ZnO微粉末が単独で存在しても差支
えないものであり、このようなZnO微粉末を一部に含
んでの状態のものも粉末状という。
次に、上記のようにして得られたSb2O、絶縁被膜が
表面に形成された粉末状のZnOK、粉末間の結合を図
る絶縁性の結合剤として低融点ガラス粉末と有機バイン
ダーを添加し、混合した。ここで、結合剤としては低融
点ガラス粉末外が粉末状の’  ZnOに対して5〜2
0 wt4となるようにしたものと12、それを有機バ
インダーと例えば等重量で混合し、ペイント状とした。
ここで、有機バインダーどしてはエチルセルロースを使
用し、その固形分が溶剤(たとえばターピネオール)に
対して10WtcIjになるように薄めたものとした。
次いで、上記のようにして得られたペイントを第2図に
示すようにITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の
設けられたガラス基板3上に例えばスクリーン印刷で塗
布し、その上に同じ< ITO電極2の設けられたガラ
ス基板4を載置し、300〜560’Cで10〜30分
間、大気中で熱処理し、電極1,2間に電圧非直線性素
子5を設けた。第1図は、電圧非直線性素子6の拡大断
面図であり、6はZnO粉末、了はZnO粉末粉末量面
に施された5b203絶縁被膜、8はそれらZnO粉末
6間を機械的に結合している絶縁性結合剤の低融点ガラ
スであり、この低融点ガラス8でもってZnO粉末粉末
量は互いに固められている。第3図はITO電極1N、
1bが設けられたガラス基板32L上に電圧非直線性素
子6を構成した場合を示している。
次に、上記のようにして作成された電圧非直線性素子の
電圧−電流特性について説明する。まず、第4図は第2
図の構成における電圧−電流特性を従来のZnOバリス
タのそれと比較して示している。
本発明の素子は、まず酸化亜鉛をアQO℃で焼成し、こ
れに5b203を0,5 mol %添加したものを9
00℃、60分間熱処理した後、この平均粒子径5〜1
0μmのZnO粉末と実計製薬(株)製の低融点ガラス
微粉末(ZnO粉末に対して20wt%)に上記有機バ
インダーを等重量で混合したものにおいて、素子面積を
1 mf、電極間距離を30μmとl−だ場合における
特性を示している。さて、電圧非直線性素子の電圧−電
流特性は、よく知られているように近似的に次式で示さ
れている。
I=KV“ ここで、工は素子に流れる電流、Vは素子の電極間の電
圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述し
た電圧非直線特性の指数を示しており、この電圧非直線
指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることにな
る。
第4図の特性に示されるように、特性Bで示される従来
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、10 ム以下の電流では良好な電圧非直線性
素子としての機能を発揮し得ない。一方、特性人で示さ
れる本発明の素子では低電流域においても電圧非直線指
数αが大きく、10  A程度の電流域でも十分に電圧
非直線性素子としての機能を発揮することができること
を示している。また、通常、ZnOバリスタにおいては
バリスタ特性を表わすのに、例えば素子に1mAの電流
を流1〜だ時の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧VI
mムと呼び、このバリスタ電圧v、mムと上記電圧非直
線指数αとを使用している。本発明の素子では、上述し
たように、低電流域においても電圧非直線指数αが大き
く、バリスタ電圧を第4図に示すように例えばv1ハて
表わすことができる。
このように本発明において、バリスタ電圧を低いものと
することができるのは、電極間距離を狭くして素子を形
成することができるためである。
また、本発明素子において低電流域でも電圧非直線指数
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性結合
剤の低融点ガラスでもって固めたものであるため、それ
ぞれの半導体物質の間は点接触となり、接触面積が小さ
いこと、また結合剤が絶縁性のだめ、漏れ電流が小さく
なっていることによるものと考えられる。
ここで、第4図の特性は上述したように電極間距離を3
olimと17だ素子についてのものであるが、これは
ZnO粉末の平均粒子径が5〜1o11mという比較的
大きな粒子径のためにこれ以上狭くすることができない
からである。すなわち、ZnO粉末の平均粒子径が0.
3〜3μmのものを使えば、電極間距離が10μm程度
もしくはそれ以下の素子を作成することができるのであ
り、その場合においても第4図に示すような良好な特性
が得られることを本発明者らは実験により確認した。
第5図は本発明において、酸化アンチモンの添加量を変
えた場合のバリスタ電圧v1ハ、電圧非直線指数αおよ
び並列静電容量Cの変化する様子を示している。ここで
、酸化亜鉛の焼成i高度など、その他の条件は第4図の
場合の条件と同一とした。
第S図に示されるように、本発明1子においては並列外
′市容量が従来のZnOバリスタが1000〜2000
0PFであるのに対して非常に小さいものとな、)てい
る1、この並列静電容量が本発明素子にb−いて小さい
理由は、上述しブこように半導体物質間の接触面積が小
さいことによるものである。
なお、上記の実施例においては、半導体物質としては、
ZnOを例にとり説明しだが、それ以外の半導体物質で
あっても差支えないことはもちろんである。壕だ、同様
に絶縁被膜を構成する材料としては、sb、、o、単独
に限られることはなく、Sb2O5を主成分として、人
/、Ti、Sr、Mg、Ni、Cr、Siなどの金属酸
化物またはこれらの金属の有機金属化合物を単独または
組合せて使用することができるものである。
発明の効果 以上の説明より明らかなように本発明の電圧非直線性素
子は、低電流域における電圧非直線指数αが大きく、ま
た並列静電容量の小さな素子が得られることから、消費
電流の小さい液晶、KLなどのデバイスのスイッチング
素子として最適な素子を提供できるもの。である。まだ
電極間距離を狭くして素子を形成することができるため
、バリスタ電圧の低いものが得られ、上記電圧非直線指
数αが大きいことと相まって従来のZnOバリスタでは
対応することのできなかった低電圧用ICの保護素そや
低い電圧における電圧安定化米子として使用することが
できる。さらに、低融点ガラスで固めて素子形成を行う
ために高温プロセスを必要とすることなく簡単にして作
ることができるため、回路基板上やガラス基板上に素子
を直接形成することができるものである。このように種
々の特徴を有する本発明の電圧非直線性素子は、今まで
のZnOバリスタなどでは考えられない幅広い用途が期
待できるものであり、その産業性は犬なるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係わる電圧非直線性素子の一実施例を
示す拡大断面図、第2図および第3図はそれぞれ本発明
の素子をガラス基板上に設けた実施例を示す断面図、第
4図は本発明素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流
特性を示す図、第6図は本発明素子において5b205
の添加量を変えた場合の電圧非直線指数α、バリスタ電
圧V1.ムおよび並列静電容量Cの変化する様子を示す
図である。 1 、1 & 、 1 b 、 2・・−・−ITO電
極、3.3&。 4・・・・・・ガラス基板、6・・・・・・電圧非直線
性素子、6・・・・・・ZnO粉末、7・・・・・・S
b2O3絶縁被膜、8・・・・・・低融点ガラス。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか18鍜 
              鵬 一つ 第4図 一力 電圧(1’) 第5図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  Sb_2O_3を主成分とする薄い絶縁被膜を有した
    微粉末状の半導体物質が複数個集まった状態を一つの粉
    末とし、その粉末間もしくは一部に上記微粉末を含む粉
    末間を低融点ガラスで固め、電極を備えてなることを特
    徴とする電圧非直線性素子。
JP61035994A 1986-02-20 1986-02-20 電圧非直線性素子 Pending JPS62193220A (ja)

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JP61035994A JPS62193220A (ja) 1986-02-20 1986-02-20 電圧非直線性素子

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