JPS62190806A - 電圧非直線性素子 - Google Patents
電圧非直線性素子Info
- Publication number
- JPS62190806A JPS62190806A JP61034637A JP3463786A JPS62190806A JP S62190806 A JPS62190806 A JP S62190806A JP 61034637 A JP61034637 A JP 61034637A JP 3463786 A JP3463786 A JP 3463786A JP S62190806 A JPS62190806 A JP S62190806A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- voltage
- zno
- powder
- varistor
- electrodes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 28
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 61
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 31
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Inorganic materials O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- UPWOEMHINGJHOB-UHFFFAOYSA-N cobalt(III) oxide Inorganic materials O=[Co]O[Co]=O UPWOEMHINGJHOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N bismuth(iii) oxide Chemical compound O=[Bi]O[Bi]=O WMWLMWRWZQELOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 3
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000417 bismuth pentoxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N antimony(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Sb+3].[Sb+3] GHPGOEFPKIHBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- GEYXPJBPASPPLI-UHFFFAOYSA-N manganese(III) oxide Inorganic materials O=[Mn]O[Mn]=O GEYXPJBPASPPLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は印加電圧によって抵抗値が変化する電圧非直線
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリックス駆動の液晶、ELなどの表示デバイ
スのスイッチング素子などに利用されるものである。
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリックス駆動の液晶、ELなどの表示デバイ
スのスイッチング素子などに利用されるものである。
従来の技術
従来の電圧非直線性素子は、酸化亜鉛(ZnG)に酸化
ビスマス(Bi20s)、酸化コバルト(Co203)
、酸化マンガy(Mn02)、酸化7yr−モy(Sb
203 )などの酸化物を添加して、10oO〜135
o″Cで焼結したZnOバリスタなど、種々のものがあ
る。
ビスマス(Bi20s)、酸化コバルト(Co203)
、酸化マンガy(Mn02)、酸化7yr−モy(Sb
203 )などの酸化物を添加して、10oO〜135
o″Cで焼結したZnOバリスタなど、種々のものがあ
る。
その中で、ZnOバリスタは電圧非直線指数α、サージ
耐量が大きいことから、最も一般的に使われている。(
特公昭46−19472号公報参照)発明が解決しよう
とする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、ZnOバリスタ
を初めとして、素子厚みを薄く(数十μm以下)するこ
とに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流1
mムを流した時の電圧V IIIIAで表される)を低
くすることに限界があり、低電圧用ICの保護素子や低
い電圧における電圧安定化素子として使えないものであ
った。また、上述したように1000”C以上の高温プ
ロセスを必要とするため、ガラス基板上あるいは回路基
板上に電圧非直線性素子を直接形成できないという問題
があった。さらに、従来のものは並列静電容量が大きく
、例えば液晶などのスイッチング素子としては不適当な
ものであるなどの問題点を有してぃた9 問題点を解決するための手段 この問題点を解決するために本発明は、Bi2O5。
耐量が大きいことから、最も一般的に使われている。(
特公昭46−19472号公報参照)発明が解決しよう
とする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、ZnOバリスタ
を初めとして、素子厚みを薄く(数十μm以下)するこ
とに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流1
mムを流した時の電圧V IIIIAで表される)を低
くすることに限界があり、低電圧用ICの保護素子や低
い電圧における電圧安定化素子として使えないものであ
った。また、上述したように1000”C以上の高温プ
ロセスを必要とするため、ガラス基板上あるいは回路基
板上に電圧非直線性素子を直接形成できないという問題
があった。さらに、従来のものは並列静電容量が大きく
、例えば液晶などのスイッチング素子としては不適当な
ものであるなどの問題点を有してぃた9 問題点を解決するための手段 この問題点を解決するために本発明は、Bi2O5。
00205、 MnO2および5b205ノ全てを少な
くとも含んでなる薄い絶縁被膜を有した微粉末状の半導
体物質が複数個集まった状態を一つの粉末とし、その粉
末間もしくは一部に上記微粉末を含む粉末間を絶縁性の
結合剤で固め、電極を備えてなるものである。
くとも含んでなる薄い絶縁被膜を有した微粉末状の半導
体物質が複数個集まった状態を一つの粉末とし、その粉
末間もしくは一部に上記微粉末を含む粉末間を絶縁性の
結合剤で固め、電極を備えてなるものである。
作用
この構成によれば、低電流域においても電圧非直線指数
αの大きなものが得られ、かつ電極間距離を狭く(数十
μm以下)して素子を形成することができ、低電圧化に
適した素子がきわめて容易に得られることとなる。また
、結合剤で固めて素子形成を行う際に高温プロセスを必
要とすることなく作ることができるため、回路基板上に
素子を直接形成することができ、ZnOバリスタなどで
は考えられない幅広い用途が期待できるものである。
αの大きなものが得られ、かつ電極間距離を狭く(数十
μm以下)して素子を形成することができ、低電圧化に
適した素子がきわめて容易に得られることとなる。また
、結合剤で固めて素子形成を行う際に高温プロセスを必
要とすることなく作ることができるため、回路基板上に
素子を直接形成することができ、ZnOバリスタなどで
は考えられない幅広い用途が期待できるものである。
さらに、粉末状の半導体物質を絶縁性の結合剤でもって
固めたものであるため、それぞれの半導体物質の粉末間
は点接触となり、接触面積が小さいことから並列静電容
量の小さなものが得られ、液晶などのデバイスのスイッ
チング素子として最適な素子が提供できることとなる。
固めたものであるため、それぞれの半導体物質の粉末間
は点接触となり、接触面積が小さいことから並列静電容
量の小さなものが得られ、液晶などのデバイスのスイッ
チング素子として最適な素子が提供できることとなる。
実施例
以下、本発明を実施例にもとづいて詳細に説明する。
まず、粒子径がO,OS〜1μmの微粒子状の酸化亜鉛
を700〜1300’Cで焼成した後、その焼成された
ZnOを0.6〜50μmの粒子径(平均粒子径1〜1
0μ風)に粉砕し、そのZnO微粉末KBi203.
Co2O3,MnO2,5b203の総量を0.06〜
1c) mol係添加し、600〜1350’Cで10
〜60分間、熱処理し、そのZnO微粉末表面にこれら
酸化物の絶縁被膜を形成した。ここで、微粉末状のZn
Oの表面には上記酸化物の絶縁被膜がほぼ数十〜数百1
の厚さで薄く形成されていることが認められた。次いで
、このようKして作成した酸化物の絶縁被膜が表面につ
いたZnO微粉末はそれぞれか弱い力で互いに接着して
いるので、これを乳鉢あるいはポットミルでほぐし、上
記 ZnO微粉末がそれぞれ複数個集まった微粉末群の
状態とした(以下、この状態のものを粉末状という)。
を700〜1300’Cで焼成した後、その焼成された
ZnOを0.6〜50μmの粒子径(平均粒子径1〜1
0μ風)に粉砕し、そのZnO微粉末KBi203.
Co2O3,MnO2,5b203の総量を0.06〜
1c) mol係添加し、600〜1350’Cで10
〜60分間、熱処理し、そのZnO微粉末表面にこれら
酸化物の絶縁被膜を形成した。ここで、微粉末状のZn
Oの表面には上記酸化物の絶縁被膜がほぼ数十〜数百1
の厚さで薄く形成されていることが認められた。次いで
、このようKして作成した酸化物の絶縁被膜が表面につ
いたZnO微粉末はそれぞれか弱い力で互いに接着して
いるので、これを乳鉢あるいはポットミルでほぐし、上
記 ZnO微粉末がそれぞれ複数個集まった微粉末群の
状態とした(以下、この状態のものを粉末状という)。
この時、一部に上記ZnO微粉末が単独で存在しても差
支えないものであり、このようなZnO微粉末を一部に
含んでの状態のものも粉末状という。次に、上記のよう
にして得られた酸化物絶縁被膜が表面に形成された粉末
状のZnOに、粉末間の結合を図る絶縁性の結合剤(バ
インダー)としてポリイミド樹脂を添加し、混合した。
支えないものであり、このようなZnO微粉末を一部に
含んでの状態のものも粉末状という。次に、上記のよう
にして得られた酸化物絶縁被膜が表面に形成された粉末
状のZnOに、粉末間の結合を図る絶縁性の結合剤(バ
インダー)としてポリイミド樹脂を添加し、混合した。
ここで、結合剤としてはポリイミド樹脂の固形分が溶剤
(例えばn −メチル−2−ピロリドン)に対して5
wt%となるように薄めたものとし、それをZnO粉末
と例えば等重量で混合し、ペイント状とした。次いで、
上記のようにして得られたペイントを第2図に示すよう
にITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の設けられ
たガラス基板3上に例えばスクリーン印刷で塗布し、そ
の上に同じ(ITO電極2の設けられたガラス基板4を
載置し、280〜400°Cで30分間、大気中で硬化
させ、電極1.2間に電圧非直線性素子5を設けた。第
1図は、電圧非直線性素子6の拡大断面図であり、6は
ZnO粉末、7はZnO粉末6の表面に施された酸化物
絶縁被膜、8はそれらZnO粉末6間を機械的に結合し
ている絶縁性の結合剤であり、この結合剤8でもってZ
nO粉末6の間は互いに固められている。第3図はIT
O電極1N、1bが設けられたガラス基板3a上に電圧
非直線性素子5を構成した場合を示している。
(例えばn −メチル−2−ピロリドン)に対して5
wt%となるように薄めたものとし、それをZnO粉末
と例えば等重量で混合し、ペイント状とした。次いで、
上記のようにして得られたペイントを第2図に示すよう
にITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の設けられ
たガラス基板3上に例えばスクリーン印刷で塗布し、そ
の上に同じ(ITO電極2の設けられたガラス基板4を
載置し、280〜400°Cで30分間、大気中で硬化
させ、電極1.2間に電圧非直線性素子5を設けた。第
1図は、電圧非直線性素子6の拡大断面図であり、6は
ZnO粉末、7はZnO粉末6の表面に施された酸化物
絶縁被膜、8はそれらZnO粉末6間を機械的に結合し
ている絶縁性の結合剤であり、この結合剤8でもってZ
nO粉末6の間は互いに固められている。第3図はIT
O電極1N、1bが設けられたガラス基板3a上に電圧
非直線性素子5を構成した場合を示している。
次に、上記のようにして作成された電圧非直線性素子の
電圧−電流特性について説明する。まず、第4図は第2
図の構成における電圧−電流特性を従来のZnOバリス
タのそれと比較して示している。
電圧−電流特性について説明する。まず、第4図は第2
図の構成における電圧−電流特性を従来のZnOバリス
タのそれと比較して示している。
本発明の素子は、まず酸化亜鉛を700°Cで焼成し、
これにBi2O3,”203+ MnO2,5b203
をそれぞれ0.2 molチ、つまシ総量でO: a
mol係添加したものを900°C,6Q分間熱処理し
た後、この平均粒子径5〜10μmのZoo粉末と結合
剤とを等重量で混合したものにおいて、素子面積を1M
ti1電極間距離を30μmとした場合における特性を
示している。さて、電圧非直線性素子の電圧−電流特性
は、よく知られているように近似的に次式%式% ここで、■は素子に流れる電流、■は素子の電極間の電
圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述し
た電圧非直線特性の指数を示しており、この電圧非直線
指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることにな
る。
これにBi2O3,”203+ MnO2,5b203
をそれぞれ0.2 molチ、つまシ総量でO: a
mol係添加したものを900°C,6Q分間熱処理し
た後、この平均粒子径5〜10μmのZoo粉末と結合
剤とを等重量で混合したものにおいて、素子面積を1M
ti1電極間距離を30μmとした場合における特性を
示している。さて、電圧非直線性素子の電圧−電流特性
は、よく知られているように近似的に次式%式% ここで、■は素子に流れる電流、■は素子の電極間の電
圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述し
た電圧非直線特性の指数を示しており、この電圧非直線
指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることにな
る。
第4図の特性に示されるように、特性Bで示される従来
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、10ム以下の電流では良好な電圧非直線性素
子としての機能を発揮し得ない。一方、特性ムで示され
る本発明の素子では低電流域においても電圧非直線指数
αが大きく、1o−f0ム程度の電流域でも十分に電圧
非直線性素子としての機能を発揮することができること
を示している。また、通常、ZnOバリスタにおいては
バリスタ特性を表わすのに、例えば素子に1mムの電流
を流した時の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧Vjm
ムと呼び、このバリスタ電圧V1mムと上記電圧非直線
指数αとを使用している。本発明の素子では、上述した
ように、低電流域においても電圧非直線指数αが大きく
、バリスタ電圧を第4図に示すように例えばv1μムで
表わすことができる。
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、10ム以下の電流では良好な電圧非直線性素
子としての機能を発揮し得ない。一方、特性ムで示され
る本発明の素子では低電流域においても電圧非直線指数
αが大きく、1o−f0ム程度の電流域でも十分に電圧
非直線性素子としての機能を発揮することができること
を示している。また、通常、ZnOバリスタにおいては
バリスタ特性を表わすのに、例えば素子に1mムの電流
を流した時の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧Vjm
ムと呼び、このバリスタ電圧V1mムと上記電圧非直線
指数αとを使用している。本発明の素子では、上述した
ように、低電流域においても電圧非直線指数αが大きく
、バリスタ電圧を第4図に示すように例えばv1μムで
表わすことができる。
このように本発明において、バリスタ電圧を低いものと
することができるのは、電極間距離を狭くして素子を形
成することができるためである。
することができるのは、電極間距離を狭くして素子を形
成することができるためである。
また、本発明素子において低電流域でも電圧非直線指数
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性の結
合剤でもって固めたものであるため、それぞれの半導体
物質の間は点接触となり、接触面積が小さいこと、また
結合剤が絶縁性のため、漏れ電流が小さくなっているこ
とによるものと考えられる。
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性の結
合剤でもって固めたものであるため、それぞれの半導体
物質の間は点接触となり、接触面積が小さいこと、また
結合剤が絶縁性のため、漏れ電流が小さくなっているこ
とによるものと考えられる。
ここで、第4図の特性は上述したように電極間距離を3
0μmとした素子についてのものであるが、これはZn
O粉末の平均粒径が5〜10μ風という比較的大きな粒
子径のためにこれ以上狭くすることができないからであ
る。すなわち、ZnO粉末の平均粒子径が0.3〜3μ
mのものを使えば、電極間距離が10μm程度、もしく
はそれ以下の素子を作成することができるのであり、そ
の場合においても第4図に示すような良好な特性が得ら
れることを本発明者らは実験により確認した。
0μmとした素子についてのものであるが、これはZn
O粉末の平均粒径が5〜10μ風という比較的大きな粒
子径のためにこれ以上狭くすることができないからであ
る。すなわち、ZnO粉末の平均粒子径が0.3〜3μ
mのものを使えば、電極間距離が10μm程度、もしく
はそれ以下の素子を作成することができるのであり、そ
の場合においても第4図に示すような良好な特性が得ら
れることを本発明者らは実験により確認した。
第6図は本発明において、Bi2O5,Co2O3゜M
nO2,5b20,5の総添加量を変えた場合のバリス
タ電圧v1μム、電圧非直線指数αおよび並列静電容量
Cの変化する様子を示している。ここで、酸化亜鉛の焼
成温度など、その他の条件は第4図の場合の条件と同一
とした。第5図に示されるように、本発明素子において
は並列静電容量が従来のZnOバリスタが1ooo〜2
oOoOPFであるのに対して非常に小さいものとなっ
ている。この並列静電容量が本発明素子において小さい
理由は、上述したように半導体物質間の接触面積が小さ
いことによるものである。
nO2,5b20,5の総添加量を変えた場合のバリス
タ電圧v1μム、電圧非直線指数αおよび並列静電容量
Cの変化する様子を示している。ここで、酸化亜鉛の焼
成温度など、その他の条件は第4図の場合の条件と同一
とした。第5図に示されるように、本発明素子において
は並列静電容量が従来のZnOバリスタが1ooo〜2
oOoOPFであるのに対して非常に小さいものとなっ
ている。この並列静電容量が本発明素子において小さい
理由は、上述したように半導体物質間の接触面積が小さ
いことによるものである。
なお、上記の実施例においては、半導体物質としては、
ZnOを例にとり説明したが、それ以外の半導体物質で
あっても差支えないことはもちろんである。また、同様
に絶縁被膜を構成する材料としては、Bi2O3,Co
2O3,MnO2,5b203だけに限られることはな
く、Bi、 Go 、 Mn、 Sbの全てを主成分
として、A(1,Ti、 Sr、 Mg、 Ni、 O
r、 Siなどの金属酸化物またはこれら金属の有機金
属化合物を単独または組合せて使用することができるも
のである。
ZnOを例にとり説明したが、それ以外の半導体物質で
あっても差支えないことはもちろんである。また、同様
に絶縁被膜を構成する材料としては、Bi2O3,Co
2O3,MnO2,5b203だけに限られることはな
く、Bi、 Go 、 Mn、 Sbの全てを主成分
として、A(1,Ti、 Sr、 Mg、 Ni、 O
r、 Siなどの金属酸化物またはこれら金属の有機金
属化合物を単独または組合せて使用することができるも
のである。
さらに、粉末状の半導体物質を固める絶縁性の結合剤と
しては、ポリイミド樹脂の他にも種々考えられることは
もちろんであり、熱硬化性樹脂、たとえばフェノール樹
脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、ケイ素樹脂などでも良いもので
ある。
しては、ポリイミド樹脂の他にも種々考えられることは
もちろんであり、熱硬化性樹脂、たとえばフェノール樹
脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポ
リエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、ケイ素樹脂などでも良いもので
ある。
発明の効果
以上の説明より明らかなように本発明の電圧非直線性素
子は、低電流域における電圧非直線指数αが大きく、ま
た並列静電容量の小さな素子が得られることから、消費
電流の小さい液晶、KLなどのデバイスのスイッチング
素子として最適な素子を提供できるものである。また、
電極間距離を狭くして素子を形成することができるため
、バリスタ電圧の低いものが得られ、上記電圧非直線指
数αが大きいことと相まって従来のZnOバリスタでは
対応することのできなかった低電圧用ICの保護素子や
低い電圧における電圧安定化素子として使用することが
できる。さらに、結合剤で固めて素子形成を行う際に高
温プロセスを必要とすることなく簡単にして作ることが
できるため、回路基板上やガラス基板上に素子を直接形
成することができるものである。このように種々の特徴
を有する本発明の電圧非直線性素子は、今までのZnO
バリスタなどでは考えられない幅広い用途が期待できる
ものであり、その産業性は大なるものである。
子は、低電流域における電圧非直線指数αが大きく、ま
た並列静電容量の小さな素子が得られることから、消費
電流の小さい液晶、KLなどのデバイスのスイッチング
素子として最適な素子を提供できるものである。また、
電極間距離を狭くして素子を形成することができるため
、バリスタ電圧の低いものが得られ、上記電圧非直線指
数αが大きいことと相まって従来のZnOバリスタでは
対応することのできなかった低電圧用ICの保護素子や
低い電圧における電圧安定化素子として使用することが
できる。さらに、結合剤で固めて素子形成を行う際に高
温プロセスを必要とすることなく簡単にして作ることが
できるため、回路基板上やガラス基板上に素子を直接形
成することができるものである。このように種々の特徴
を有する本発明の電圧非直線性素子は、今までのZnO
バリスタなどでは考えられない幅広い用途が期待できる
ものであり、その産業性は大なるものである。
第1図は本発明に係わる電圧非直線性素子の一実施例を
示す拡大断面図、第2図および第3図はそれぞれ本発明
の素子をガラス基板上に設けた実施例を示す断面図、第
4図は本発明素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流
特性を示す図、第5図は本発明素子においてBi2O3
、Co2O3、MnO2,Sb2O3の総添加量を変え
た場合の電圧非直線指数α、バリスタ電圧v1μムおよ
び並列静電容量Cの変化する様子を示す図である。 1、1h、 1b、2・山−ITO電極、3.31L。 4・・・・・・ガラス基板、5・・・・・・電圧非直線
性素子、6・・・・−・ZnO粉末、7・・・・・・添
加物による酸化物絶縁被膜、8・・・・・・結合剤っ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名城 第4図 −± 電圧(V) 第5図
示す拡大断面図、第2図および第3図はそれぞれ本発明
の素子をガラス基板上に設けた実施例を示す断面図、第
4図は本発明素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流
特性を示す図、第5図は本発明素子においてBi2O3
、Co2O3、MnO2,Sb2O3の総添加量を変え
た場合の電圧非直線指数α、バリスタ電圧v1μムおよ
び並列静電容量Cの変化する様子を示す図である。 1、1h、 1b、2・山−ITO電極、3.31L。 4・・・・・・ガラス基板、5・・・・・・電圧非直線
性素子、6・・・・−・ZnO粉末、7・・・・・・添
加物による酸化物絶縁被膜、8・・・・・・結合剤っ 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名城 第4図 −± 電圧(V) 第5図
Claims (1)
- Bi_2O_3、Co_2O_3、MnO_2および
Sb_2O_3の全てを少なくとも含んでなる薄い絶縁
被膜を有した微粉末状の半導体物質が複数個集まった状
態を一つの粉末とし、その粉末間もしくは一部に上記微
粉末を含む粉末間を絶縁性の結合剤で固め、電極を備え
てなることを特徴とする電圧非直線性素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034637A JPS62190806A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 電圧非直線性素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61034637A JPS62190806A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 電圧非直線性素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62190806A true JPS62190806A (ja) | 1987-08-21 |
Family
ID=12419926
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61034637A Pending JPS62190806A (ja) | 1986-02-18 | 1986-02-18 | 電圧非直線性素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62190806A (ja) |
-
1986
- 1986-02-18 JP JP61034637A patent/JPS62190806A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62190806A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62193228A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190810A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190812A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190805A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190811A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62193209A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190813A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190808A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190804A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62193227A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62193207A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190803A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62190814A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190817A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62242310A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190816A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62190801A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62193226A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190802A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62190820A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62190809A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62193203A (ja) | 電圧非直線性素子 | |
JPS62190815A (ja) | 電圧非直線性素子の製造方法 | |
JPS62242302A (ja) | 電圧非直線性素子 |