JPS62193210A - 電圧非直線性素子の製造方法 - Google Patents
電圧非直線性素子の製造方法Info
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- JPS62193210A JPS62193210A JP61035976A JP3597686A JPS62193210A JP S62193210 A JPS62193210 A JP S62193210A JP 61035976 A JP61035976 A JP 61035976A JP 3597686 A JP3597686 A JP 3597686A JP S62193210 A JPS62193210 A JP S62193210A
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Landscapes
- Thermistors And Varistors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は印加電圧によって抵抗値が変化する電圧非直線
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリックス駆動の液晶、XI、などの表示デバ
イスのスイッチング素子などに利用されるものである。
性素子に関するもので、電圧安定化、異常電圧制御、さ
らにはマトリックス駆動の液晶、XI、などの表示デバ
イスのスイッチング素子などに利用されるものである。
従来の技術
従来の電圧非直線性素子は、酸化亜鉛(ZnO)に酸化
ビスマス(Bi20.)、酸化コバルト(CO205)
、酸化マンガン(MnO2)、酸化アンチモン(Sb2
05)などの酸化物を添加して、1ooO〜135o℃
で焼結しだZnOバリスタなど、種々のものがある。そ
の中で、ZnOバリスタは電圧非直線指数α、サージ耐
量が大きいことから、最も一般的に使われている。C特
公昭46−19472号公報参照) 発明が解決しようとする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、ZnOバリスタ
を初めとして、素子厚みを薄く(数+μm以下)するこ
とに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流1
mAを流した時の電圧v1m人で表きれる)を低くする
ことに限界があり、低電圧用ICの保護素子や低い電圧
における電圧安定化素子として使えないものであった。
ビスマス(Bi20.)、酸化コバルト(CO205)
、酸化マンガン(MnO2)、酸化アンチモン(Sb2
05)などの酸化物を添加して、1ooO〜135o℃
で焼結しだZnOバリスタなど、種々のものがある。そ
の中で、ZnOバリスタは電圧非直線指数α、サージ耐
量が大きいことから、最も一般的に使われている。C特
公昭46−19472号公報参照) 発明が解決しようとする問題点 このような従来の電圧非直線性素子は、ZnOバリスタ
を初めとして、素子厚みを薄く(数+μm以下)するこ
とに限界があるため、バリスタ電圧(バリスタに電流1
mAを流した時の電圧v1m人で表きれる)を低くする
ことに限界があり、低電圧用ICの保護素子や低い電圧
における電圧安定化素子として使えないものであった。
また、上述したように焼成する際に1000℃以上の高
温プロセスを必要とするため、ガラス基板上あるいは回
路基板上に電圧非直線性素子を直接形成できないという
問題があった。さらに、従来のものは並列静電容量が犬
きく、例えば液晶などのスイッチング素子としては不適
当なものであるなどの問題点を有していた。
温プロセスを必要とするため、ガラス基板上あるいは回
路基板上に電圧非直線性素子を直接形成できないという
問題があった。さらに、従来のものは並列静電容量が犬
きく、例えば液晶などのスイッチング素子としては不適
当なものであるなどの問題点を有していた。
問題点を解決するだめの手段
この問題点を解決するだめに本発明は、無機質半導体の
微粉末に無機または有機化合物を添加し、混合した後、
600〜1360℃で熱処理を行い、無機質半導体微粉
末の表面に無機質絶縁被膜を形成させ、その後上記絶縁
被膜音節した上記半導体微粉末と金属または導電性の金
属酸化物の微粉末を加えたものに絶縁性の有機接着剤か
またはガラス粉末と有機バインダーを加え、ペイント状
にし、次いで上記ペイントを電極を配した絶縁基板上に
印刷、スプレーまたは浸漬などによって塗布した後、熱
処理を行って硬化させることを特徴とするものである。
微粉末に無機または有機化合物を添加し、混合した後、
600〜1360℃で熱処理を行い、無機質半導体微粉
末の表面に無機質絶縁被膜を形成させ、その後上記絶縁
被膜音節した上記半導体微粉末と金属または導電性の金
属酸化物の微粉末を加えたものに絶縁性の有機接着剤か
またはガラス粉末と有機バインダーを加え、ペイント状
にし、次いで上記ペイントを電極を配した絶縁基板上に
印刷、スプレーまたは浸漬などによって塗布した後、熱
処理を行って硬化させることを特徴とするものである。
作用
この方法によれば、低電流域においても電圧非直線指数
αの大きなものが得られ、また微粉末の導電性物質を介
在させていることによって、微粉末状の半導体物質間の
電気的接続を安定にし、特性バラツキの少ない素子が得
られ、かつこの導電性物質の介在量によってバリスタ電
圧全制御することもできることとなるため、電極間距離
に制約されることなく、上記のように極端に狭く(数+
μm以下)して素子を形成しなくても、低電圧化に適し
た素子がきわめて容易に得られることとなる。また、塗
布したペイントを低い温度で硬化させて作ることができ
るため、回路基板上に素子を直接形成することができ、
ZnOバリスタなどでは考えられない幅広い用途が期待
できるものである。さらに、得られた素子は微粉末状の
半導体物質を固めたものであるため、それぞれの半導体
物質の微粉末間は微粉末状導電性物質が介在されている
ものの点接触となり、接触面積が基本的に小さいことか
ら並列静電容量の小さなものが得られ、液晶などのデバ
イスのスイッチング素子として最適な素子が提供できる
こととなる。
αの大きなものが得られ、また微粉末の導電性物質を介
在させていることによって、微粉末状の半導体物質間の
電気的接続を安定にし、特性バラツキの少ない素子が得
られ、かつこの導電性物質の介在量によってバリスタ電
圧全制御することもできることとなるため、電極間距離
に制約されることなく、上記のように極端に狭く(数+
μm以下)して素子を形成しなくても、低電圧化に適し
た素子がきわめて容易に得られることとなる。また、塗
布したペイントを低い温度で硬化させて作ることができ
るため、回路基板上に素子を直接形成することができ、
ZnOバリスタなどでは考えられない幅広い用途が期待
できるものである。さらに、得られた素子は微粉末状の
半導体物質を固めたものであるため、それぞれの半導体
物質の微粉末間は微粉末状導電性物質が介在されている
ものの点接触となり、接触面積が基本的に小さいことか
ら並列静電容量の小さなものが得られ、液晶などのデバ
イスのスイッチング素子として最適な素子が提供できる
こととなる。
実施例
以下、本発明を実施例にもとづいて詳細に説明する。
第1図は本発明の製造方法による製造工程の一実施例を
示している。まず、粒子径がo、o es =1μmの
微粒子状の酸化亜鉛1700〜1300’Cで焼成した
後、その焼結されたZnOを0.5〜60μmの粒子径
(平均粒子径1〜10μm)に粉砕し、そのZnO微粉
末に酸化コバルトを0.05〜10m01%添加し、6
00〜1360℃で10〜60分間、熱処理し、そのZ
nO微粉末表面に酸化コバルトの絶縁被膜を形成した。
示している。まず、粒子径がo、o es =1μmの
微粒子状の酸化亜鉛1700〜1300’Cで焼成した
後、その焼結されたZnOを0.5〜60μmの粒子径
(平均粒子径1〜10μm)に粉砕し、そのZnO微粉
末に酸化コバルトを0.05〜10m01%添加し、6
00〜1360℃で10〜60分間、熱処理し、そのZ
nO微粉末表面に酸化コバルトの絶縁被膜を形成した。
この時、微粉末状のZnOの表面にはCO2O3絶縁被
膜がほぼ数十〜数百人の厚さで薄く形成されていること
が認められた。次いで、このようにして作成したGo、
、O,絶縁被膜が表面についだZnO微粉末群は弱い力
で互いに接着しているので、これを乳鉢あるいはボット
ミルでほぐし、微粉末状とした。
膜がほぼ数十〜数百人の厚さで薄く形成されていること
が認められた。次いで、このようにして作成したGo、
、O,絶縁被膜が表面についだZnO微粉末群は弱い力
で互いに接着しているので、これを乳鉢あるいはボット
ミルでほぐし、微粉末状とした。
次に、上記のようにして得られたCo20.絶縁被膜が
表面に形成された微粉末状のZnOに、微粉末状の導電
性物質として銀粉末とそれら微粉末間の結合を図る絶縁
性の結合剤(バインダー)としてポリイミド樹脂を添加
し、混合した。ここで、結合剤としてはポリイミド樹脂
の固形分が溶剤(例えばn−メチル−2−ピロリドン)
に対して6wt%となるように薄めたものとし、それを
ZnO微粉末と銀粉末との合計分に対して例えば等重量
で混合し、ペイント状とした。
表面に形成された微粉末状のZnOに、微粉末状の導電
性物質として銀粉末とそれら微粉末間の結合を図る絶縁
性の結合剤(バインダー)としてポリイミド樹脂を添加
し、混合した。ここで、結合剤としてはポリイミド樹脂
の固形分が溶剤(例えばn−メチル−2−ピロリドン)
に対して6wt%となるように薄めたものとし、それを
ZnO微粉末と銀粉末との合計分に対して例えば等重量
で混合し、ペイント状とした。
次いで、上記のようにして得られたペイントを第3図に
示すようにITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の
設けられたガラス基板3上に例えばスクリーン印刷で塗
布し、その上に同じ(ITO電極2の設けられたガラス
基板4を載置し、280〜4001:で30分間、大気
中で硬化させ、電極1.2間に電圧非直線性素子5を設
けた。第2図は、電圧非直線性素子5の拡大断面図であ
り、6ばZnO微粉末、7は微粉末状の導電性物質とし
ての銀微粉末で、ZnO微粉末6問およびそのZnO微
粉末6と電極1,2との間の電気的接続を良好にしてい
る。8はそれら微粉末6,7間を機械的に結合している
絶縁性の結合剤であり、この結合剤8でもって微粉末6
.7は互いに固められている。9はZnO微粉末6の表
面に施されたCO□05絶縁被膜である。第4図はIT
O電極12L、1bが設けられたガラス基&3a上に電
圧非直線性素子6を構成した場合を示している。
示すようにITO(インジウム・スズ酸化物)電極1の
設けられたガラス基板3上に例えばスクリーン印刷で塗
布し、その上に同じ(ITO電極2の設けられたガラス
基板4を載置し、280〜4001:で30分間、大気
中で硬化させ、電極1.2間に電圧非直線性素子5を設
けた。第2図は、電圧非直線性素子5の拡大断面図であ
り、6ばZnO微粉末、7は微粉末状の導電性物質とし
ての銀微粉末で、ZnO微粉末6問およびそのZnO微
粉末6と電極1,2との間の電気的接続を良好にしてい
る。8はそれら微粉末6,7間を機械的に結合している
絶縁性の結合剤であり、この結合剤8でもって微粉末6
.7は互いに固められている。9はZnO微粉末6の表
面に施されたCO□05絶縁被膜である。第4図はIT
O電極12L、1bが設けられたガラス基&3a上に電
圧非直線性素子6を構成した場合を示している。
次に、上記のようにして作成された電圧非直線性素子の
電圧−電流特性について説明する。まず、第6図は第3
図の構成における電圧−電流特性を従来のZnOバリス
タのそれと比較して示している。本発明の素子は、まず
酸化亜鉛を700℃で焼成し、これにCo2o5を0.
5mo1%添加したものを900℃、60分間熱処理し
た後、この平均粒子径3〜6μmのZnO微粉末と銀微
粉末(平均粒子径3μm)との合計分(銀微粉末は全体
の20wt%)に等1竜の上記結合剤をいれ、混合した
ものにおいて、素子面積を1−1電極間距離を30μm
とした場合における特性を示している。
電圧−電流特性について説明する。まず、第6図は第3
図の構成における電圧−電流特性を従来のZnOバリス
タのそれと比較して示している。本発明の素子は、まず
酸化亜鉛を700℃で焼成し、これにCo2o5を0.
5mo1%添加したものを900℃、60分間熱処理し
た後、この平均粒子径3〜6μmのZnO微粉末と銀微
粉末(平均粒子径3μm)との合計分(銀微粉末は全体
の20wt%)に等1竜の上記結合剤をいれ、混合した
ものにおいて、素子面積を1−1電極間距離を30μm
とした場合における特性を示している。
さて、電圧非直線性素子の電圧−電流特性は、よく知ら
れているように近似的に次式で示されている。
れているように近似的に次式で示されている。
I=KV“
ここで、工は素子に流れる電流、■は素子の電極間の電
圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述し
た電圧非直線特性の指数を示しており、この電圧非直線
指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることにな
る。
圧、Kは固有抵抗の抵抗値に相当する定数、αは上述し
た電圧非直線特性の指数を示しており、この電圧非直線
指数αは大きい程、電圧非直線性が優れていることにな
る。
第6図の特性に示されるように、特性Bで示される従来
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、10−4に以下の電流では良好な電圧非直線
性素子としての機能を発揮し得ない。一方、特性人で示
される本発明の素子では低電流域においても電圧非直線
指数αが大きく、10 ム程度の電流域でも十分に電
圧非直線性素子としての機能を発揮することができるこ
とを示している。また、通常、ZnOバリスタにおいて
はバリスタ特性を表わすのに、例えば素子に1mAの電
流を流した時の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧vt
mムと呼び、このバリスタ電圧vtmム と上記電圧非
直線指数αとを使用している。本発明の素子では、上述
したように、低電流域においても電圧非直線指数αが大
きく、バリスタ電圧を第6図に示すように例えばV、1
1ムで表わすことができる。
のZnOバリスタは低電流域において電圧非直線指数α
が小さく、10−4に以下の電流では良好な電圧非直線
性素子としての機能を発揮し得ない。一方、特性人で示
される本発明の素子では低電流域においても電圧非直線
指数αが大きく、10 ム程度の電流域でも十分に電
圧非直線性素子としての機能を発揮することができるこ
とを示している。また、通常、ZnOバリスタにおいて
はバリスタ特性を表わすのに、例えば素子に1mAの電
流を流した時の電極間に現れる電圧をバリスタ電圧vt
mムと呼び、このバリスタ電圧vtmム と上記電圧非
直線指数αとを使用している。本発明の素子では、上述
したように、低電流域においても電圧非直線指数αが大
きく、バリスタ電圧を第6図に示すように例えばV、1
1ムで表わすことができる。
このように本発明において、バリスタ電圧を低いものと
することができるのは、銀微粉末を素子内に分散させて
いるため、これが電気的短絡路を作ることになり、実質
的に電極間距離が短くなったことに相当する、いわゆる
槁渡しの効果(電気的バイパス効果)をしているためで
ある。従って、導電性物質を適当な量で添加すれば、電
極間距離に制約されることなく、たとえば電極間距離を
極度に狭くしないでも素子を形成することができる。
することができるのは、銀微粉末を素子内に分散させて
いるため、これが電気的短絡路を作ることになり、実質
的に電極間距離が短くなったことに相当する、いわゆる
槁渡しの効果(電気的バイパス効果)をしているためで
ある。従って、導電性物質を適当な量で添加すれば、電
極間距離に制約されることなく、たとえば電極間距離を
極度に狭くしないでも素子を形成することができる。
また1本発明素子において低電流域でも電圧非直線指数
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、微粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性の
結合剤でもって固めたものであるため、それぞれの半導
体物質の間は点接触となり、接触面積が小さいこと、ま
た結合剤が絶縁性のため、漏れ電流が小さくなっている
ことによるものと考えられる。
αが大きい理由は、現在のところ理由は明確とはなって
いないが、微粉末状の半導体物質(ZnO)を絶縁性の
結合剤でもって固めたものであるため、それぞれの半導
体物質の間は点接触となり、接触面積が小さいこと、ま
た結合剤が絶縁性のため、漏れ電流が小さくなっている
ことによるものと考えられる。
第6図は本発明において、微粉末状の導電性物質として
の銀粉末の添加量を変えた場合のバリスタ電圧V 、
電圧非直線指数αおよび並列静電1μ人 容ff、 Cの変化する様子を示している。ここで、酸
化亜鉛の焼成温度など、その他の条件は第6図の場合の
条件と同一とした。第6図に示されるように、本発明素
子においては並列静電容量が従来のZnOバリスタが1
0oO〜2ooOoPFであるのに対して非常に小さい
ものとなっている。この並列静電容量Cが本発明素子に
おいて小さい理由は、上述したように半導体物質間の接
触面積が小さいことによるものである。また、第6図よ
り銀微粉末の添加量によってバリスタ電圧が変化する様
子が認められるが、これは上述したように銀微粉末の添
加量によって電気的なバイパスが変るためと考えられる
。
の銀粉末の添加量を変えた場合のバリスタ電圧V 、
電圧非直線指数αおよび並列静電1μ人 容ff、 Cの変化する様子を示している。ここで、酸
化亜鉛の焼成温度など、その他の条件は第6図の場合の
条件と同一とした。第6図に示されるように、本発明素
子においては並列静電容量が従来のZnOバリスタが1
0oO〜2ooOoPFであるのに対して非常に小さい
ものとなっている。この並列静電容量Cが本発明素子に
おいて小さい理由は、上述したように半導体物質間の接
触面積が小さいことによるものである。また、第6図よ
り銀微粉末の添加量によってバリスタ電圧が変化する様
子が認められるが、これは上述したように銀微粉末の添
加量によって電気的なバイパスが変るためと考えられる
。
また、下記に示す第1表は本発明において酸化コバルト
の添加量と熱処理温度を変えた場合のバリスタ電圧v+
7LA−電圧非直線指数αおよび並列静電容量Cの変化
する様子を示した表である。
の添加量と熱処理温度を変えた場合のバリスタ電圧v+
7LA−電圧非直線指数αおよび並列静電容量Cの変化
する様子を示した表である。
(以下 余 白)
上記第1表および第6図より明らかなように、各特性値
は酸化コバルトおよび銀微粉末の添加量と熱処理温度に
依存していることがわかる。ここで酸化コバルトの添加
量は0.06〜3m01係 で特に良好な特性を示した
。また、熱処理温度は酸化コバルトの添加量にもよるが
600〜1350℃の範囲で良好な特性を示した。この
熱処理温度が上記温度範囲以外、例えば600℃未満で
は十分な絶縁被膜の形成が困難であることや1360℃
を超えた温度では電圧非直線指数αが必要とする値以下
になるなどの原因で良好な特性が得られないのである。
は酸化コバルトおよび銀微粉末の添加量と熱処理温度に
依存していることがわかる。ここで酸化コバルトの添加
量は0.06〜3m01係 で特に良好な特性を示した
。また、熱処理温度は酸化コバルトの添加量にもよるが
600〜1350℃の範囲で良好な特性を示した。この
熱処理温度が上記温度範囲以外、例えば600℃未満で
は十分な絶縁被膜の形成が困難であることや1360℃
を超えた温度では電圧非直線指数αが必要とする値以下
になるなどの原因で良好な特性が得られないのである。
なお、上記の実施例においては、半導体物質としては、
ZnOを例にとり説明したが、それ以外の半導体物質で
あっても差支えないことはもちろんである。また、同様
に絶縁被膜を構成する材料としては、CO2O3に限ら
れることはなく、Bi。
ZnOを例にとり説明したが、それ以外の半導体物質で
あっても差支えないことはもちろんである。また、同様
に絶縁被膜を構成する材料としては、CO2O3に限ら
れることはなく、Bi。
Mn、Sb、A5.Ti−、Sr、Mg、Ni。
Or 、Siなどの金属酸化物またはこれら金属の有機
金属酸化物などでもよいものであり、それらを単独また
は組合せて使用することができるものである。また、導
電性物質としては本実施例の銀単独以外に、たとえば人
U、ム]、Zn、Ni。
金属酸化物などでもよいものであり、それらを単独また
は組合せて使用することができるものである。また、導
電性物質としては本実施例の銀単独以外に、たとえば人
U、ム]、Zn、Ni。
W 、G u 、S n + I n 1M n 、
Orなどの金属またはこれら金属の酸化物を単独または
組合せて使用することもできる。
Orなどの金属またはこれら金属の酸化物を単独または
組合せて使用することもできる。
さらに、微粉末状の半導体物質を固める結合剤としては
、ポリイミド樹脂以外の絶縁性の有機接着剤でもよく、
熱硬化性樹脂、たとえばフェノール樹脂、フラン樹脂、
ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、ケイ素樹脂などでも良いものであり、さらにはガ
ラス粉末と有機バインダーとを組合せた形で用いてもよ
いものである。
、ポリイミド樹脂以外の絶縁性の有機接着剤でもよく、
熱硬化性樹脂、たとえばフェノール樹脂、フラン樹脂、
ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、
ジアリルフタレート樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、ケイ素樹脂などでも良いものであり、さらにはガ
ラス粉末と有機バインダーとを組合せた形で用いてもよ
いものである。
また、上記の実施例では素子の形成をスクリーン印刷法
により行ったが、それ以外の塗布法、例えばスプレー、
浸漬などの方法で行ってもよいものである。
により行ったが、それ以外の塗布法、例えばスプレー、
浸漬などの方法で行ってもよいものである。
さらにまた、上記実施例による製造方法では、まず最初
に無機質半導体である微粒子状のZnOを熱処理、粉砕
し、微粉末とした後に、絶縁性の無機質化合物であるC
O□06を添加し、その後熱処理を行ったが、これは無
機質半導体の微粉末に直接無機質化合物を添加するよう
にし、上記無機質半導体微粒子の焼成、粉砕という処理
工程を省略しても差支えないものである。
に無機質半導体である微粒子状のZnOを熱処理、粉砕
し、微粉末とした後に、絶縁性の無機質化合物であるC
O□06を添加し、その後熱処理を行ったが、これは無
機質半導体の微粉末に直接無機質化合物を添加するよう
にし、上記無機質半導体微粒子の焼成、粉砕という処理
工程を省略しても差支えないものである。
発明の効果
以上の説明より明らかなように本発明方法により得られ
た電圧直線性素子は、低電流域における電圧非直線指数
αが大きく、また並列静電容量の小さな素子が得られる
ことから、消費電流の小さい液晶、ELなどのデバイス
のスイッチング素子として最適な素子を提供できるもの
である。また、微粉末状の導電性物質を介在させている
ことによって微粉末状の半導体物質間の電気的接続を安
定にし、特性バラツキの少ない素子を得ることができ、
かつこの導電性物質の介在量によってバリスタ電圧を制
御することができるという利点が得られるため、電極間
距離に制約されることなく、たとえば電極間距離を極度
に狭くしないでも、バリスタ電圧の低いものが得られ、
上記電圧非直線指数αが大きいことと相まって従来のZ
nOバリスタでは対応することのできなかった低電圧用
ICの保護素子や低い電圧における電圧安定化素子とし
て使用することができる。さらに、塗布したペイントを
低い温度で硬化させて簡単にして作ることができるため
、回路基板上やガラス基板上に素子を直接形成すること
ができるものである。このように種々の特徴を有する本
発明の電圧非直線性素子は、今までのZnOバリスタな
どでは考えられない幅広い用途が期待できるものであり
、その産業性は大なるものである。
た電圧直線性素子は、低電流域における電圧非直線指数
αが大きく、また並列静電容量の小さな素子が得られる
ことから、消費電流の小さい液晶、ELなどのデバイス
のスイッチング素子として最適な素子を提供できるもの
である。また、微粉末状の導電性物質を介在させている
ことによって微粉末状の半導体物質間の電気的接続を安
定にし、特性バラツキの少ない素子を得ることができ、
かつこの導電性物質の介在量によってバリスタ電圧を制
御することができるという利点が得られるため、電極間
距離に制約されることなく、たとえば電極間距離を極度
に狭くしないでも、バリスタ電圧の低いものが得られ、
上記電圧非直線指数αが大きいことと相まって従来のZ
nOバリスタでは対応することのできなかった低電圧用
ICの保護素子や低い電圧における電圧安定化素子とし
て使用することができる。さらに、塗布したペイントを
低い温度で硬化させて簡単にして作ることができるため
、回路基板上やガラス基板上に素子を直接形成すること
ができるものである。このように種々の特徴を有する本
発明の電圧非直線性素子は、今までのZnOバリスタな
どでは考えられない幅広い用途が期待できるものであり
、その産業性は大なるものである。
第1図は本発明方法による電圧非直線性素子の製造方法
の工程を示す図、第2図は本発明方法により得られた電
圧非直線性素子の一実施例を示す拡大断面図、第3図お
よび第4図はそれぞれ本発明の素子をガラス基板上に設
けた実施例を示す断面図、第5図は本発明方法により得
られた素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流特性を
示す図、第6図は本発明方法による素子において銀微粉
末の添加量を変えた場合の電圧非直線指数α、バリスタ
電圧v、li人 および並列静電容量Cの変化する様
子を示す図である。 1.1&、1b、2・・・・・・ITO電極、3・3Δ
。 4・・・・・・ガラス基板、6・・・・・・電圧非直線
性素子、6・・・・・・ZnO微粉末、7・・・・・・
銀微粉末、8・・・・・・結合剤、9・・・・・・CO
20,絶縁被膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第 5 図 一力 電圧(1’) 第 6 図
の工程を示す図、第2図は本発明方法により得られた電
圧非直線性素子の一実施例を示す拡大断面図、第3図お
よび第4図はそれぞれ本発明の素子をガラス基板上に設
けた実施例を示す断面図、第5図は本発明方法により得
られた素子と従来のZnOバリスタの電圧−電流特性を
示す図、第6図は本発明方法による素子において銀微粉
末の添加量を変えた場合の電圧非直線指数α、バリスタ
電圧v、li人 および並列静電容量Cの変化する様
子を示す図である。 1.1&、1b、2・・・・・・ITO電極、3・3Δ
。 4・・・・・・ガラス基板、6・・・・・・電圧非直線
性素子、6・・・・・・ZnO微粉末、7・・・・・・
銀微粉末、8・・・・・・結合剤、9・・・・・・CO
20,絶縁被膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 第 5 図 一力 電圧(1’) 第 6 図
Claims (1)
- 無機質半導体の微粉末に無機または有機化合物を添加
し、混合した後、600〜1360℃で熱処理を行い、
無機質半導体微粉末の表面に無機質絶縁被膜を形成させ
、その後上記絶縁被膜を施した上記半導体微粉末と金属
または導電性の金属酸化物の微粉末を加えたものに絶縁
性の有機接着剤かまたはガラス粉末と有機バインダーを
加え、ペイント状にし、次いで上記ペイントを電極を配
した絶縁基板上に印刷、スプレーまたは浸漬などによっ
て塗布した後、熱処理を行って硬化させることを特徴と
する電圧非直線性素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61035976A JPS62193210A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 電圧非直線性素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61035976A JPS62193210A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 電圧非直線性素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62193210A true JPS62193210A (ja) | 1987-08-25 |
Family
ID=12456934
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61035976A Pending JPS62193210A (ja) | 1986-02-20 | 1986-02-20 | 電圧非直線性素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62193210A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5358695A (en) * | 1976-11-08 | 1978-05-26 | Taiyo Yuden Kk | Film varistor |
-
1986
- 1986-02-20 JP JP61035976A patent/JPS62193210A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5358695A (en) * | 1976-11-08 | 1978-05-26 | Taiyo Yuden Kk | Film varistor |
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