JPS62187201A - ベ−タ線厚さ計 - Google Patents

ベ−タ線厚さ計

Info

Publication number
JPS62187201A
JPS62187201A JP61029701A JP2970186A JPS62187201A JP S62187201 A JPS62187201 A JP S62187201A JP 61029701 A JP61029701 A JP 61029701A JP 2970186 A JP2970186 A JP 2970186A JP S62187201 A JPS62187201 A JP S62187201A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
beta
calibration
beta ray
sensor
thickness meter
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP61029701A
Other languages
English (en)
Inventor
Kyoichi Miyashita
恭一 宮下
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AASUNIKUSU KK
Earthnix Corp
Original Assignee
AASUNIKUSU KK
Earthnix Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by AASUNIKUSU KK, Earthnix Corp filed Critical AASUNIKUSU KK
Priority to JP61029701A priority Critical patent/JPS62187201A/ja
Publication of JPS62187201A publication Critical patent/JPS62187201A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、ベータ線厚さ計に関し、詳しくは測定ギャ
ップに沿って配設された複数の厚さiυ11定センサを
設けることにより、装置の構成の簡易化と測定精度の向
りとを図ったものである。
〔従来の技術〕
第11図は従来の抄紙プラントにおいて坪滑(厚さ)を
測定するのに用いられているベータ線透過吸収方式の厚
さ計の構成を示す正面図で、(1)は0形のフレーム、
(2a)、 (2b)はガイドレール、(3a)。
(3b)はグイトレール(2a)、 (2b)を水平か
つ平行に調節する調節部材、(4)はソースヘッド、(
5)は例えば”Kr+ 500mC1のベータ線源、(
6)はデテクタヘッド、(7)は電離箱で構成されてい
るベータ線検出器で、(5) 、 (7)で厚さ測定セ
ンサ(以下、センサという、)(8)を構成している。
(9a)、 (9b)は図示していない駆動装置で駆動
されるキャリャーチェンで、ソースヘッド(4)とデテ
クタヘッド(6)とを、一定の位置関係を保って1−1
0m/minの一定速度で、例えば7mの走査幅Sの範
囲を往復駆動する。
α1はソースヘッド(4)とデテクタヘッド(6)との
間に形成されている4〜1(iff幅の測定ギャップで
、抄紙αυがこの測定ギャップ内a1を、図面の紙面に
対して垂直の向に一定速度で走行する。第12図はセン
サ(8)による抄紙Ql)面上の走査パターン(6)を
示す図で、抄紙aηの幅Xを越える幅Sでもって抄紙Q
9面を走査しており、抄紙αηを外れた走査部分yにお
けるセンサ(8)の出力電流値(以下「出力値」という
、)をセンサ(8)のドリフト補正用の較正値としてと
り込む較正モードとなり、測定モード時の抄紙面の1回
の走査範囲を、一定の長さでもって、区切った例えば1
20の区分の複数回の出力値またはそれらの平均値から
、図示していない厚さ算出手段でもって、各区分ごとの
厚さを算出し、これらの算出値を抄紙αηの幅方向の厚
さの分布図として、例えば第13図に示すように標準厚
さに対する偏差量で表示している。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来のベータ線厚さ計は、ソースヘッド(4)とデテク
タヘッド(6)とを、フレーム(1)およびガイドレー
ル(2a)、(2b)で支承し、駆動機構により速い速
度でもって抄紙αηの幅方向に往復駆動し、抄紙面を走
査して各区分の厚さを測定するように構成されている。
したがって、測定精度を高めるためには、ソースヘッド
(4)とデテクタヘッド(7)との間隔の変動、および
走査方向の位置ずれの少ないことが高精度で要求される
。このため、フレーム(1)およびガイドレール(2a
)、 (2b)に、高い剛性が要求され、大形の構造物
になるとともに、据付・調整作業が複雑となり、さらに
高精度、かつ、大出力の駆動機構が必要であるので、装
置の大形化をまねくとともに、据付・調整作業およびメ
ンテナンスが困難となる。
また、抄紙αηの走行速度に比べて、センサ(8)の走
査速度が遅いので、走査パターンa2は第12図に示し
たような斜行軌跡となり、1つの測定区分をセンサ(8
)が走査する時間は短かり、東だ、つぎに同じ測定区分
をセンサ(8)が走査するまでに、抄紙Qυは数mも走
行している。したがって得らn、る出力値は抄紙(Il
lを、数mおきに測定したサンプリングデータであって
、この意味で測定結果に不満の残るものであった。
この発明1ま、このような問題点の解決を目的としてな
されたもので、センサの走査駆動機構を不要とすること
によって構成の簡易化等を図るとともに、被測定物Ql
)の幅方向の厚さ分布を高精度で測定することのできる
ベータ線厚さ計を得ることを目的とする。
〔問題点を解決するだめの手段〕
この発明に係るベータ線厚さ計は、測定ギャップに沿っ
て所定の間隔でもって配設されている複数組のセンサと
、各センサのドリフトを補正する手段と、こfl、らの
センサの出力値から被測定物の厚さを各センサ別に算出
する手段とを備えたものである。
〔作 用〕
センサは1組づ\独立しており、測定ギャップの当該セ
ンサが配設されている位1蜆に相対する被測定物の部分
を透過してきたベータ線量を検出する。厚さ算出手段は
各センサの出力値を順次とり出し、この出力値と各セン
サごとに予め定められているデータと所定の算式により
被測定物の厚さを算出する。この結果、算出された被測
定物の1厚さ′は各センサの配設位置に相対する部分の
1測定車位時内に走行した部分(長さ)の平均値となり
、被測定物の幅方向の厚さ分布を連続的に測定すること
ができる。
〔発明の実施例〕
第1図はこの発明を抄紙プラントの秤量計に適用した一
実施例のセンサの配置を示す正面図、第2図はこの実施
例の較正用信号の一例である光束の入力手段の構成およ
び制御の演算回路のブロック図、第3図は較正用光束の
ベータ線検出器への入力部分の拡大断面図である。図に
おいて、α1はギヤツブ叫が形成されているフレーム、
(5−1)〜(5−50)  はベータ線源、(7−1
)〜(7−50)はベータ線の入射面および側周面に遮
光被膜が形成されているベータ線用プラスチックシンチ
レータ(以下、シンチレータという。) (7a)と光
電子増倍管(7b)で構成されたベータ線検出器で、(
5−1)〜(5−50)と(7−1)〜(7−50) 
 とでそれぞれ1組の厚さ測定センサ(8−1)〜(8
−50) (以下、各センサ(8)という。)を構成し
ており、測定ギャップα1に沿って所定の間隔、たとえ
ば抄紙プラントのスライスリップの幅当り1個に相当す
る間隔でもってフレーム(至)に配設されている。Q4
は電流アンプ、(至)は制御信号を送出して各構成部分
の動作制御と、厚さの算出のだめの演算とを行うCPU
 。
aQはスキャンナ駆動回路で、CPUQQからスキャン
ナ信号をうけ、スキャンナ071からりニアライザ(至
)を1径てA/Dコンバータ四へ、各センサ(8)の出
力値を順次送出する。よく知られているようにセンサ(
8)の出力値は、そのま\では被測定物の厚さを示さず
、そのログ値が厚さに比例する。リニアライザ(至)は
この変換のだめのものである。
(1)は較正用光源で、LEDや白熱灯などで構成され
、較正モード時に一定量の光束を放射する。C!ηは光
シャッタで、CPU(15から信号が入力される較正モ
ード時だけ開く常閉シャッタ、@は50本の光ファイバ
で、一端から光シャッタ3ηを通って入射した較正用光
束を導き、第3図に示すように、先端が各ベータ線検出
器(7−1)〜(7−50)  のシンチレータ(7a
)の側面に形成されている盲孔(ハ)内に挿入され、バ
ッキング剤(至)で固定される。翰はシンチレータ(7
a)の側周面に塗布された白ペンキなどの遮光被膜で、
シンチレータ(7a)の何局内面を乱反射面に形成する
。@はシンチレータ(7a)のベータ線入射面に被着さ
れた遮光被膜で、例えば0.1μm厚さのアルミニウム
蒸着膜である。@は線源シャッタで、ベータ線通過窓(
2Sa)が形成されており、CPUQQから線源シャッ
タ駆動装置−に信号が入力されている較正動作期間中、
矢印方向に駆動されて、各センサ(8−1)〜(8−5
0)に各線源(5−1)〜(5−50)からのベータ線
が入射するのを遮断する常開シャッタ、(至)はメモリ
で較正モード時に、A/Dコンバータ09から順次入力
される各センサ(8−1)〜(8−50)の出力値を記
憶する。0])はCPUQFjから出力される厚さデー
タを図表またはデータ表として表示するプロファイル表
示>−f2 tfである。
なお、丘記溝成中、光ファイバ(イ)の芯t(22a)
の先端を粗面の破断面に形成すれば、シンチレータ(7
a)の何局内面を光乱反射面に形成する必要はなく遮光
*嘆が形成されていればよい。
つぎに、センサ相互の感度較正、センサ感度のドリフト
較正、および被測定物の厚さ測定について説明する。
センサ相互の感度較正とは、装置の作動開始に先立って
1回だけ実施するもので、線源強度のバラツキ、線源か
らシンチレータまでの距離のバラツキ、光電子増倍管の
ゲインのバラツキなどに起因する、いわば各センサの装
置定数ともいうべき値の較正のことである。これは、た
とえば被測定物の厚さが0のときと、被測定物の厚さが
既知のときの2点について、各センサ出力値を較正すれ
ばよいので、これらの出力値を実施して、CPUのメモ
リに保存して、厚さ算出演算時に計算してもよいし、あ
るいは土だ、ハードウェア辷の調整により各センサの装
置定数が一致するようにしてもよい。いづ第1.にして
も、本発明にとって本質的なことではないcr+Z’、
 g%悶々説明11峙す3゜センサ感度のドリフト穀圧
は、厚さ計のようなプロセス機路には欠くことのできな
いことで、本発明を実現するための重要な要素となって
いる。
さきに述べた装置定数を調整しても、センサでは温度そ
の他の要因でその出力電流が変化する。
第1〜8図に示した本発明の実施例のベータ線検出路の
場合では、その主要な原因は光電子増倍管の利得変動で
ある(シンチレータの変換利得の変動は問題にならない
)。したがって、第1図〜第8図の実施例ではシンチレ
ータ東たは光電子増倍管に定期的に一定量の光束を入射
させることによりドリフト慮を知る公知の方法を利用し
ている。
被測定物の厚さ測定は、もちろん、ベータ線により行な
われる。ベータ線の物質透過率がその厚さの指数関数で
変化するというよく知られた関係によっているので、こ
\では改めて説明しない。
さて、光による較正モード時であれ、ベータ線による厚
さ測定モード時であれ、50台のセンサ(8)の出力値
は並列して同時に出力されている。これらの出力値のメ
モリ働へのとり込みは、第2図に示すように1組のスキ
ャンナaη、リニアライザ(2)、A/D変換器α場で
シリアルに行なうことができるので、センサの数は多い
ものの、ハードウェアの量はそれ程大きくならないです
む。
つぎに、装置の作動シーケンスを説明する。
なお、説明を簡略にするためにセンサ相互の感度較正は
、さきにのべたいづれかの方法ですでに行なわれている
ものとする。
CPU(至)は、まず、「較正モード」となりセンサ感
度ドリフトの開始値として、時刻0における各センサ(
8)の出力値のとり込みを行なう。すなわち、CPUC
l3からの指令により線源シャッタ(財)を閉、光シャ
ッタ(ロ)を開にして電流アンプa4の時定数だけ待っ
たのち、スキャンナQ71を動作させて、各センサ(8
)の出力値をメモリ(至)にとり込6・。つぎに線源シ
ャッタ(2)を開、光シャッタC!ηを閉にし、L記時
定数だけ待って「測定モード」に移る。辷記「較正モー
乙の所要時間は、例えば線源シャッタ(ト)および光シ
ャッタの動作時間: 0.ISt 81mアンプ(14
Jの時定数: 0.1s、 A/D変換変換所要時間:
 2ms/チャネルとすれば、1回の較正動作に必要な
時間は0.1+0.1+50X0.002+0.1+0
.1=0.5sとなる。
この例から判るように較正を要する時間は短かく、本来
の測定に支障を来たすおそれはない。「測定モード」は
、本来の厚さ測定のモードである。
「較正モード」の終了で、線源シャッタ(ハ)は開、光
シャッタ竪ηは閉になっており、さらに時定数相当時間
が経過しているから、各センサ(8)の出力端にはすで
に厚さ測定値が現れている。CPU(15は較正モード
と同じくスキャンナαηを動作させ、各センサ(8)の
゛出力値をとり込む。この所要時間は50×2ms =
 0.1 sである。使用者は、次にドリフト較正が必
要にな乙圭での間、何回でも各センサ(8)の出力値を
とり込むことができる。
したがって、全体の作動シーケンスは次のようになる。
(初回)較正モード:0.5s→測定モード100回繰
返し二〇、lsX 100= 108.→較正モード:
0.5s→測定モード100回繰返し: 10s、・・
・・・・・・・。
つぎに、CPU(イ)での厚さ算出のだめの演算の概要
について説明する。
較正モードでの電流アンプ出力電流をIpi(t)で表
わす。ここに、iはセンサ番号、tは測定開始時からの
時間、添字pは「較正モード」を表わす。リニアライヂ
(ト)を経由すれば各センサ(8)の出力値はログ変換
された値になる。
測定モードでの電流アンプα4の出力値を、同時にIa
iと表わす。添字Bは「測定モード」を表わす。
被測定物の厚さと電流アンプ出力値との関係は、よく知
られているように、 IB = k exp (−μx) k:定数(厚さ0のときのIBに相当)μ:定数(吸収
係数) X:厚さ x=に/nIB(Kは負の定数) であるが、ドリフト補正をほどこせば、IsはIai/
Ipi(t)におきかえられねばならないから、結局x
i =KC6nlai−lnIpi(t)) (xiは
ドリフト補正付)となり、したがってCP U Q5で
の演算は、とり込まれた6nIai 、 #nIpi(
t)の値の減算となる。
このようにして、ドリフト補正を含む被測定物の厚さを
求める演算は極めて簡単に行なうことができる。
さて、元に戻って、第4図はこの実施例における各セン
サの抄紙面上の走査パターンを示す平面図、第5図はプ
ロファイル表示装置0])による抄紙の幅方向の厚さ分
布を表わした一例を示す図である。
この実施例によると、各センサ(8)は、フレーム(2
)に固定されているので、ベータ線源とベータ線検出器
相互の間隔、および相対位置は各別に調節できるととも
に、こ1.らのセンサを支承するフレーム(至)は、高
い剛性を必要としないので簡易な構成とすることができ
、小形化・低価格化が−れるとともに、装置の据付、調
節作業が容易となり、また、ランニングコストも低減す
るので、センサ数の増加に伴うコストアップを十分に補
うことができる。
土た、各センサ(8)はフレーム(至)に固定されてい
るのでベータ線源(5)とベータ線検出b(7)の相対
位置の変動がなく、また、抄紙αυを定められた位置で
もって走行方向に走査しながら厚さの測定をしつづける
ので、1組のセンサ(8)に使用するベータ線源(5)
の強さを弱めても測定精度が向上し、同村度の測定精度
が碍られるようにした場合は、緑源怖度の総量(キュリ
ー数)は、従来装置と変らない−1 第6図は光ガイド部材の他の実施例の要部の構成を示す
平面図である。図において(2)は帯板状の光ガイド部
材で、例えば厚さ3fiのアクリル樹脂板で形成され、
各シンチレータ(7a)の側面から較正用光束を入射さ
せる分枝(88−1)〜(88−50)が形成さ1.て
おり、シンチレータ(7a)への光入射端面を除いて、
遮光処理が施されている。(至)は光アッテネータで、
各分枝(至)にそれぞれ介挿され、各シンチレータ(7
a)のシンチレーション光や、較正モード時の較正用光
束が、光ガイド部材(至)を介して他のシンチレータ(
7a)に入射するのを防止している。
このように、光ファイバ(イ)に代えて、光ガイド部材
(2)を用いると、構成が簡単になる。
第7図は光ガイド部材の他の実施例の要部の構成を示す
分解斜視図、第8図1まその配置を示す一部拡大断面図
である。図において、(85a)は帯板状の光ガイド部
材(至)に形成されているベータ線検出v#(7)のシ
ンチレータ(7a)が挿入される透孔、−はシンチレー
タ(7a)と、透孔(85a)の間に介挿されている絞
り部材、(86a)は光アッテネータで覆われている絞
り孔で、絞り部材−は絞り孔(36a)が第8図に示す
ように、シンチレータ(7a)の側周面を榎っている遮
光層(ホ)に形成された入射窓(+6a)に臨む位置と
なるように嵌挿され、回転させることで光ガイド部材(
2)からシンチレータ(7a)内に入射する光束量を調
節するゞ絞り′の機能を果すものである。
なお、光ガイド部材(2)の表面は、較正用光源(7)
から較正用光栄が入射される部分、および透孔(15a
)の内周面を除いて遮光被慶が施されている。
このように光ガイド部材を構成すると、各ベータ線検出
器(’yt)〜(7−50)  の位置決めが容易とな
り、さらに光ガイド部材(2)とシンチレータ(7a)
との光学的結合も簡単になし得るとともに、較正用光束
の入射量の調節を絞り部材−で容易に行えるので、光学
系の構成が容易となる。
第9図は較正用信号入力手段の他の実施例の要部の構成
を示す図、第10図はその動作制御・信号処理回路のブ
ロック囚で、この例は、較正@号をベータ線またはガン
マ線で入力する構成としたものである。図において、(
ロ)はグイトレールで、フレームa3に配設されている
各センサ(8)のシンチレータ(7a)の側方に沿って
延在する。弼は較正用の線源で、ベータ線源土たはガン
マ線源で構成され、測定用のベータ線源(5)より2桁
程度、強度の大きいものが用いられ、ガイドレール(ロ
)に沿って較正モード時に、図示していない駆動装置に
より一端から他端よで走査駆動される。(至)は較正用
線源(至)の位置を検出する位置センサで、例えば51
個の磁気式のセンサ(89−0)〜(89−50)  
が、ベータ線検出器(7−1)〜(7−50)の各中間
と両端の位置にそれぞれ配設され、較正用線源(至)が
当該値はセンサ(至)の前を通過するとき位置信号を送
出する。
■は位置検出口1it2で、較正モード時に、まず、位
置センサ(89−0)から構成される装置信@を受けた
とき、つぎに較正用線源(至)が通過するベータ線検出
器(7−1)の出力を切替えるスイッチ(41−1)を
較正側に切換え、次段の位置センサ(89−1)から位
置信号をうけたときスイッチ(41−1)を測定側に戻
すとともに、次のスイッチ(41−2)を較正側に切替
えるという手順で順次切替えてゆき、最後の位置センサ
(19−50)の位置信号でスイッチ(41−50)を
測定側に戻して1回の較正動作を終える。ピーク検出器
(6)は、順次入力される各センサ(8)の出力値のピ
ーク値を検出し、CPUO5はそのピーク値を当該各セ
ンサ(8)の較正値としてメモリにとり込む。これらの
読込み値を用いて較正演算する方法は、さきにのべた第
2図の場合と本質的な部分では、同一であるので説明を
省略する。
この実施例は第2図の方法に比べて較正モードに時間が
かかる欠点はあるが、検出器が電離箱の場合にも適用で
きる利点がある。
ナオ、ヘータ線用wi離箱やベータ線用シンチレーショ
ン検出器は、ベータ線のほか、ガンマ線が入射した場合
にも検出域流が出力されるので、較正用線源(至)にガ
ンマ線源を用いることができ、ベータ線検出器(7)の
外装を透して較正用の@号を入射させることができる便
宜がある。しかし、半減期補正を何等かの方法で行う必
要がある。
また、測定用ベータ線源より較正用線源の線源強度を、
2桁程度大きいものにすると、測定時の出力レベルより
、較正時の出力レベル・が十分に大きいので、較正時に
測定用ベータ線源を遮断しなくても大きな誤差が生じな
い。したがって、較正時に測定用ベータ線源を遮断する
操作が不要となり、装置の構成の簡易化が図れる。
なお、上記実施例は、ベータ線検出器をベータ線用プラ
スチックシンチレータと、光電子増倍管とで構成した例
を示したが電離箱を用いてもよく、この場合は、例えば
長い密閉箱を適当な間隔で区切り、各区切りを1つの電
離箱に構成して、電離箱を連設した構成とすることによ
り、コストダウンが図r+、る。ただし、較正用信号と
して放射線を用いる必要があるので1.第9図に示した
較正用信号入力手段を適用する必要がある。
さらに、上記実施例の光ガイドは、いずれも較正用光束
をシンチレータへ入射する構成を示したが直接光m子増
倍管の光w1面に入射させる構成としてもよいことにい
うまでもない。
〔発明の効果〕
この発明に係るベータ線厚さ計は、ベータ線源とベータ
線検出器とで構成されたセンサを測定ギャップに沿って
複数個配設したマルチヘッド形のベータ線厚さ計であり
、従来必要であったセンサの走査駆動機構が不要となる
から、センサを支承するフレーム構造の小形、輪環化が
図れ、装置の据付、調整作業が容易になるとともに、ラ
ンニングコストの低減が図れ、さらに、測定精度の向辷
が図れる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の厚さ測定センサの配設位
置を示す正面図、第2図はこの実施例の較正用信号入力
手段および制御・演算回路のブロック図、第3図はこの
実施例のベータ線検出器への較正用光束入射機構の要部
の構成を示す一部拡大断面図、第4図はこの実施例にお
ける各センサの走査パターンを示す平面図、第5図はこ
の実施例における測定データの表示例を示す図、第6図
はベータ線検出器へ較正用光束を入力する光ガイドの一
実施例の要部の構成を示す平面図、第7図は光ガイド部
材の他の実施例の要部の構成を示す分解斜視図、第8図
はこの実施例の要部の構成を示す一部拡大断面図、第9
図は較正用信号入力手段の他の実施例の要部の構成を示
す平面図、第10図はこの実施例の制御・信号処理回路
のブロック図、第11図は従来のベータ線厚さ計の構成
を示す正面図、第12図はそのセンサの走査パターンを
示す平面図、第18図は測定データの表示例である厚さ
分布図である。 (5)、 (5−1)〜(5−50)・・・ベータ線源
、(7) 、 (7−1)〜(7−50)・・・ベータ
線検出器、 (7a)・・・ベータ線用プラスチックシ
ンチレータ、(7b)・・・光電子増倍管、(8) 、
 (8−1)〜(8−50)・・・厚さ測定センサ、Q
l・・・測定ギャップ、0])・・・被測定物、(至)
・・・フレーム、(イ)・・・CPU%四・・・較正用
光源、シη・・・光シャッタ、(ホ)・・・光。 ファイバ、(ハ)・・・線源シャッタ、(2)、(2)
・・・光ガイド部材、(至)・・・較正用線源、(至)
・・・位置検出センサ。 なお、図中、同一符号はそれぞれ同一、または相当部分
を示す。 特許出願人 アースニクス株式会社 図面の浄書(内容に変更なし) 第2図 第3図 第5閃 第9図 第10図 第11図 第13図 手続補正書(方式) 1寺二午庁−艮了rm負 1、事件の表示    昭和61年特許W4第2970
1号2、弁間の名作    ベータ線厚さ計3、補正を
する者 事件との関係   特許出願人 住所       東京都千代田区外神田1丁目9番9
号内田ビル5F いたIl、ます。 以上

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ベータ線源およびベータ線検出器からなり被測定
    物が走行する測定ギャップに沿つて配設されている複数
    組の厚さ測定センサ(以下、センサという。)と、各セ
    ンサのドリフトを補正する手段と、測定モード時の各セ
    ンサの出力値から上記被測定物の厚さを各センサ別に算
    出する手段とを備えたベータ線厚さ計。
  2. (2)ドリフト補正手段が、較正モード時に、各センサ
    のベータ線検出器に一定量の較正用信号を入力する較正
    用信号入力手段と、各センサの最初の較正モード時の出
    力値と最近の較正モード時の出力値とから各センサのド
    リフトを各別に補正するように構成されてなる特許請求
    の範囲第1項記載のベータ線厚さ計。
  3. (3)ベータ線検出器が、ベータ線用プラスチック・シ
    ンチレータ(以下、「シンチレータ」という。)と、光
    電子増倍管とで構成されてなる特許請求の範囲第2項記
    載のベータ線厚さ計。
  4. (4)ベータ線検出器が連設されている電離箱で構成さ
    れてなる特許請求の範囲第2項記載のベータ線厚さ計。
  5. (5)較正用信号入力手段が、一定量の光束を放射する
    較正用光源と、この較正用光源から光束を導いて、各セ
    ンサのベータ線検出器のシンチレータまたは光電子増倍
    管の光電面に、ほぼ等量の光束を入射させる光ガイドと
    、較正モード時のみ閉じてベータ線源からベータ線検出
    器に入射するベータ線を遮蔽する線源シャッタと、較正
    モード時のみ開いて上記較正用光源から放射された較正
    用光束を上記光ガイド内に入射させる光シャッタとで構
    成されてなる特許請求の範囲第3項記載のベータ線厚さ
    計。
  6. (6)較正用信号入力手段が、較正モード時に、較正用
    のベータ線源もしくはガンマ線源を各センサのベータ線
    検出器の近傍をガイドレールに沿つて移動せしめる手段
    であり、各センサの最初の較正モード時のピーク出力値
    と、最近の較正モード時のピーク出力値とから各センサ
    のドリフトを各別に補正するように構成された特許請求
    の範囲第3項または第4項記載のベータ線厚さ計。
  7. (7)光ガイドが光ファイバで構成されてなる特許請求
    の範囲第3項記載のベータ線厚さ計。
  8. (8)光ガイドが、各ベータ線検出器への分枝を有する
    帯板状の光ガイド部材と、上記各分枝とベータ線検出器
    との間に介挿されている光アツテネータとで構成されて
    なる特許請求の範囲第3項記載のベータ線厚さ計。
  9. (9)光ガイドが、各センサのベータ線検出器のシンチ
    レータが挿入される複数の透孔が形成されている帯板状
    の光ガイド部材と、上記各透孔の内周面と各シンチレー
    タとの間に介挿されている光アツテネータとで構成され
    てなる特許請求の範囲第3項記載のベータ線厚さ計。
  10. (10)光ガイド部材の各透孔と各シンチレータとの間
    に介挿され、光ガイド部材から各シンチレータへ入射す
    る較正用光束の光量を調節する絞り部材を備えてなる特
    許請求の範囲第9項記載のベータ線厚さ計。
JP61029701A 1986-02-13 1986-02-13 ベ−タ線厚さ計 Pending JPS62187201A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61029701A JPS62187201A (ja) 1986-02-13 1986-02-13 ベ−タ線厚さ計

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP61029701A JPS62187201A (ja) 1986-02-13 1986-02-13 ベ−タ線厚さ計

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62187201A true JPS62187201A (ja) 1987-08-15

Family

ID=12283416

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP61029701A Pending JPS62187201A (ja) 1986-02-13 1986-02-13 ベ−タ線厚さ計

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62187201A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252068A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Nippon Steel Corp 塗装膜厚調整装置
JP2020095011A (ja) * 2018-11-28 2020-06-18 Jfeスチール株式会社 異常監視機能付き放射線式厚さ計および放射線式厚さ計の異常監視方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252068A (ja) * 1988-08-12 1990-02-21 Nippon Steel Corp 塗装膜厚調整装置
JPH0565230B2 (ja) * 1988-08-12 1993-09-17 Nippon Steel Corp
JP2020095011A (ja) * 2018-11-28 2020-06-18 Jfeスチール株式会社 異常監視機能付き放射線式厚さ計および放射線式厚さ計の異常監視方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4868034B2 (ja) 放射線検査装置
EP0250959B1 (en) Method of calibrating reflectance measuring devices
CA2014893A1 (en) Thickness/density measuring apparatus
EP0903572A3 (en) Window contamination detector
CA1186813A (en) Apparatus for measuring the thickness profile of strip material
KR20120137265A (ko) 반사광 측정 장치와 이러한 장치의 캘리브레이션 방법
KR101279066B1 (ko) 코팅 처리의 광학 모니터링을 위한 측정 시스템
EP0400342A1 (en) Method of infra red analysis
JPH0439004B2 (ja)
EP0250764B1 (en) Film thickness measuring method and device therefor
US4247205A (en) Gas measuring apparatus with standardization means, and method therefor
EP0296259A1 (en) Spectrometer with combined visible and ultraviolet sample illumination
CN102650602A (zh) 放射线检查装置
JPS62187201A (ja) ベ−タ線厚さ計
CA1257408A (en) System for determining the basis weight of cord reinforced tire fabric
US20110035189A1 (en) Spectroscopic reflectometer
JPH0512676B2 (ja)
JPS58156837A (ja) 光学式ガス分析用測定装置
RU2367978C1 (ru) Способ калибровки сцинтилляционного тракта
CN109119355A (zh) 断面倾斜角检测装置
JPS61114120A (ja) 走査形厚さ測定装置
IT201800000652A1 (it) Metodo e sistema di determinazione di caratteristiche di pellicole radio-cromiche in tempo reale
JPH0833358B2 (ja) 全反射螢光x線分析装置
SU855409A1 (ru) Фотометр
JPS6255549A (ja) β線吸収型浮遊塵連続測定装置