JPS62185898A - 多孔質陽極酸化アルミニウム膜及びその製法 - Google Patents
多孔質陽極酸化アルミニウム膜及びその製法Info
- Publication number
- JPS62185898A JPS62185898A JP62023417A JP2341787A JPS62185898A JP S62185898 A JPS62185898 A JP S62185898A JP 62023417 A JP62023417 A JP 62023417A JP 2341787 A JP2341787 A JP 2341787A JP S62185898 A JPS62185898 A JP S62185898A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- membrane
- electrolyte
- anode
- aluminum
- microns
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 25
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 title description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 title description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 41
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 31
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 17
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 238000007743 anodising Methods 0.000 claims description 13
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- -1 aluminum ion Chemical class 0.000 claims description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 16
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 11
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 6
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 230000036571 hydration Effects 0.000 description 2
- 238000006703 hydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010961 commercial manufacture process Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 230000010339 dilation Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940085991 phosphate ion Drugs 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/024—Oxides
- B01D71/025—Aluminium oxide
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0039—Inorganic membrane manufacture
- B01D67/0053—Inorganic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes
- B01D67/006—Inorganic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes by elimination of segments of the precursor, e.g. nucleation-track membranes, lithography or laser methods
- B01D67/0065—Inorganic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes by elimination of segments of the precursor, e.g. nucleation-track membranes, lithography or laser methods by anodic oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/045—Anodisation of aluminium or alloys based thereon for forming AAO templates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D11/00—Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
- C25D11/02—Anodisation
- C25D11/04—Anodisation of aluminium or alloys based thereon
- C25D11/06—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used
- C25D11/08—Anodisation of aluminium or alloys based thereon characterised by the electrolytes used containing inorganic acids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
- Compounds Of Alkaline-Earth Elements, Aluminum Or Rare-Earth Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は実質的に大きな面積及び厚さの多孔質陽極酸化
アルミニウム膜に関し、また燐酸をベースにした電解液
中でアルミニウム金属基板を陽極酸化処理することによ
り上記のような漠を製造する方法に関する。本発明は金
属基板に付着した状態の陽極酸化アルミニウム嘆を包含
するものであるが、殊に本発明は表面上にそのような膜
が形成された金属基板から分離した後の膜に関する。
アルミニウム膜に関し、また燐酸をベースにした電解液
中でアルミニウム金属基板を陽極酸化処理することによ
り上記のような漠を製造する方法に関する。本発明は金
属基板に付着した状態の陽極酸化アルミニウム嘆を包含
するものであるが、殊に本発明は表面上にそのような膜
が形成された金属基板から分離した後の膜に関する。
我々の欧州特許第１７８８３１号明細書にはある特有な
構造（組織）を有する多孔質陽極酸化アルミニウム膜、
ならびにその脇をアルミニウム金属基板から電圧低減技
法により分離する方法が記載されている。そのような膜
は、その他別異の構造（組織）の陽極酸化膜と共に、フ
ィルターとして有用である。この目的のために、膜を貫
通延在する細孔が使用中に、例えば陽極酸化物材料の膨
潤の結果として、縮少したり閉鎖されたりしないことが
重要である。
構造（組織）を有する多孔質陽極酸化アルミニウム膜、
ならびにその脇をアルミニウム金属基板から電圧低減技
法により分離する方法が記載されている。そのような膜
は、その他別異の構造（組織）の陽極酸化膜と共に、フ
ィルターとして有用である。この目的のために、膜を貫
通延在する細孔が使用中に、例えば陽極酸化物材料の膨
潤の結果として、縮少したり閉鎖されたりしないことが
重要である。
アルミニウム基板が電解液中で陽極酸化されるときに、
得られる陽極酸化膜は、電解液由来のアニオンを可成り
の割合で含む。例えば電解液が燐酸をペースにしたもの
である場合に、酸化膜は典型的には２〜３重ｔ％の化学
結合した燐を含みつる。膜中に化学結合した燐が存在す
ると酸化膜の水和及び膨潤を防止することは周知である
。従って酸化膜が、例えばフィルターとして使用される
べき場合には、膜を燐酸中で陽極酸化することにより形
成するのが極めて好ましい。
得られる陽極酸化膜は、電解液由来のアニオンを可成り
の割合で含む。例えば電解液が燐酸をペースにしたもの
である場合に、酸化膜は典型的には２〜３重ｔ％の化学
結合した燐を含みつる。膜中に化学結合した燐が存在す
ると酸化膜の水和及び膨潤を防止することは周知である
。従って酸化膜が、例えばフィルターとして使用される
べき場合には、膜を燐酸中で陽極酸化することにより形
成するのが極めて好ましい。
燐酸陽極酸化は、商業的規模で広〈実施されている。例
えば英国特許第１５３２１１２号明細書には、後で適用
される接着剤のためのベースヲ作るための連続式燐酸陽
極酸化法が記載されている。
えば英国特許第１５３２１１２号明細書には、後で適用
される接着剤のためのベースヲ作るための連続式燐酸陽
極酸化法が記載されている。
アルミニウムの大きな面積を燐酸で陽極酸化して、ＩＪ
）グラフィー（平版印刷）用の印刷版を作る。
）グラフィー（平版印刷）用の印刷版を作る。
しかしこのような場合に、得られる陽極酸化膜は薄く（
何時も約３ミクロン以下であり、しばしば１ミクロンよ
りもはるか罠薄いことがある）、モしてＯ（・′１圧で
製造される。
何時も約３ミクロン以下であり、しばしば１ミクロンよ
りもはるか罠薄いことがある）、モしてＯ（・′１圧で
製造される。
一層厚い燐酸陽に４ｉｆＩｇ！化嘆が製造されているが
、それは実験室規模で製造されるにすぎない。スプーナ
ー氏（Ｒ，Ｃ，５ｐｏｏｎｅｒ ）は文献「ブレーティ
ング（Ｐｌａｔｉｎｇ ）Ｊ １９７１年、５８巻、４
４９〜４５７頁で、７ミクロンまでの厚さのフィルムの
製造を発表しているが、「燐酸陽極酸化膜についての最
大膜厚は、興味を起こさせる通常の厚さの最小値よりも
小さい・・・・ 」と述べている。トンプソン（Ｇ、
Ｅ、 Ｔｈｏｍｐｓｏｎ ）氏等は、文献「トランスア
クションズ・オプ・ジ・インスティチュード・オプ・メ
タル・フィニツシングＪ １９７５年、５３巻、９７〜
１０２頁で、３ｄの電極上での２５ミクロンの厚さの噂
の製造を発表している◎アルミニウムの高電圧陽極酸化
は、良好な耐磨耗性を有する硬質陽極酸化膜の製造に際
して、大規模で実施されている。これは０６Ｃ付近の温
度で１０〜２０％の硫酸中で実施し、良好な耐磨損及び
耐磨耗性を伴なう４００〜５００ ＶＰＮの最小硬度を
有する膜を形成させる。電解液温度の操作条件の良好な
制御がこの目的のために必要とされるが、このような制
御問題は商業的規模での製造については解消されている
。
、それは実験室規模で製造されるにすぎない。スプーナ
ー氏（Ｒ，Ｃ，５ｐｏｏｎｅｒ ）は文献「ブレーティ
ング（Ｐｌａｔｉｎｇ ）Ｊ １９７１年、５８巻、４
４９〜４５７頁で、７ミクロンまでの厚さのフィルムの
製造を発表しているが、「燐酸陽極酸化膜についての最
大膜厚は、興味を起こさせる通常の厚さの最小値よりも
小さい・・・・ 」と述べている。トンプソン（Ｇ、
Ｅ、 Ｔｈｏｍｐｓｏｎ ）氏等は、文献「トランスア
クションズ・オプ・ジ・インスティチュード・オプ・メ
タル・フィニツシングＪ １９７５年、５３巻、９７〜
１０２頁で、３ｄの電極上での２５ミクロンの厚さの噂
の製造を発表している◎アルミニウムの高電圧陽極酸化
は、良好な耐磨耗性を有する硬質陽極酸化膜の製造に際
して、大規模で実施されている。これは０６Ｃ付近の温
度で１０〜２０％の硫酸中で実施し、良好な耐磨損及び
耐磨耗性を伴なう４００〜５００ ＶＰＮの最小硬度を
有する膜を形成させる。電解液温度の操作条件の良好な
制御がこの目的のために必要とされるが、このような制
御問題は商業的規模での製造については解消されている
。
燐酸＠琢酸化法は低い耐層損性を有する軟質膜を与える
。これは、アルミナが硫酸におけるよりも燐酸にはるか
に可溶性であり、燐酸中での陽極酸化膜の形成には可成
りの程度の膜溶解が何時も伴なうことにより、起こる。
。これは、アルミナが硫酸におけるよりも燐酸にはるか
に可溶性であり、燐酸中での陽極酸化膜の形成には可成
りの程度の膜溶解が何時も伴なうことにより、起こる。
実質的に大きな面積の厚い燐酸陽極酸化膜の製造には、
対応する硫酸陽極酸化に必要とされるよりもはるかに慎
重な陽極酸化条件の制御が必要とされる。従来は厚い燐
酸陽極酸化膜には、研究的な唄味が示されただけであっ
た。このような膜の使用について我々が研究した結果、
今やこのような膜を大規模に製造する必要が生じた。本
発明の一目的はその必要を満足させることにある。
対応する硫酸陽極酸化に必要とされるよりもはるかに慎
重な陽極酸化条件の制御が必要とされる。従来は厚い燐
酸陽極酸化膜には、研究的な唄味が示されただけであっ
た。このような膜の使用について我々が研究した結果、
今やこのような膜を大規模に製造する必要が生じた。本
発明の一目的はその必要を満足させることにある。
本発明は一態様において、少なくとも５０ｃｍ２の面積
の一つの主要面及び少なくとも５ミクロンの厚さを有す
る多孔質陽極酸化アルミニウム膜であって、その膜物質
が陽極酸化用電解液由来の燐を含んでいる陽橿酸化アル
ミニウム嘆を提供する。
の一つの主要面及び少なくとも５ミクロンの厚さを有す
る多孔質陽極酸化アルミニウム膜であって、その膜物質
が陽極酸化用電解液由来の燐を含んでいる陽橿酸化アル
ミニウム嘆を提供する。
本発明は別の態様において、少なくとも５０ｉの面積の
一つの主要面を有する多孔質陽極酸化アルミニウム膜で
あって、その細孔同志が主要面において０．１５〜０．
５ミクロン離れ、また膜物質が陽極酸化用電解液由来の
燐を含んでいることを特徴とする酸化アルミニウム膜を
提供する。普通この膜は、１ミクロン以上、好ましくは
３ミクロン以上の厚さである。
一つの主要面を有する多孔質陽極酸化アルミニウム膜で
あって、その細孔同志が主要面において０．１５〜０．
５ミクロン離れ、また膜物質が陽極酸化用電解液由来の
燐を含んでいることを特徴とする酸化アルミニウム膜を
提供する。普通この膜は、１ミクロン以上、好ましくは
３ミクロン以上の厚さである。
本発明はさらに別の態様において、５〜１５０Ｕの濃度
の燐酸に基く電解液、少なくとも１００ｄの有効陽極表
面積及び少なくとも０．５ｍｍの厚さを有する少なくと
も一つのアルミニウム金属陽極、及び陰極を含む電解槽
を準備し；その電解槽に４０〜２００Ｖの電流を通し；
そして電解液温度を５〜５００℃の範囲内のある選定値
に維持する；ことからなる多孔質陽極酸化アルミニウム
膜の製法を提供する。
の燐酸に基く電解液、少なくとも１００ｄの有効陽極表
面積及び少なくとも０．５ｍｍの厚さを有する少なくと
も一つのアルミニウム金属陽極、及び陰極を含む電解槽
を準備し；その電解槽に４０〜２００Ｖの電流を通し；
そして電解液温度を５〜５００℃の範囲内のある選定値
に維持する；ことからなる多孔質陽極酸化アルミニウム
膜の製法を提供する。
この多孔質陽極酸化アルミニウム膜は、それが形成され
たアルミニウム金属基板にまだ付着している状態で若干
の目的のｔ−めには使用できる。しかし、濾過操作等を
含む多くの目的のためには、膜は基板に付着されておら
ず、その場合には各主要面は少なくとも５０ｃ！ｔ、好
ましくは少なくともｔｏｏｉの面積を有する。膜は、一
般的には５〜１００ミクロン、好ましくは１０〜６０ミ
クロンの厚さである。このような膜は自立性（自己支持
性）であり、可成りの竜の機械的損傷に耐えることがで
き、しかもなお、興味ある濾過性を有する。
たアルミニウム金属基板にまだ付着している状態で若干
の目的のｔ−めには使用できる。しかし、濾過操作等を
含む多くの目的のためには、膜は基板に付着されておら
ず、その場合には各主要面は少なくとも５０ｃ！ｔ、好
ましくは少なくともｔｏｏｉの面積を有する。膜は、一
般的には５〜１００ミクロン、好ましくは１０〜６０ミ
クロンの厚さである。このような膜は自立性（自己支持
性）であり、可成りの竜の機械的損傷に耐えることがで
き、しかもなお、興味ある濾過性を有する。
膜は陽極酸化用電解質から誘導された小割合の結合燐を
含み、これはアルミナの水和及び膨潤からもたらされう
る細孔寸法の変化を低減ないしは除くのに効果的である
。そのような燐の割合は、熱借測定法で得る燐酸イオン
濃度から決定して典型的には１〜５原子％の範囲内であ
る。
含み、これはアルミナの水和及び膨潤からもたらされう
る細孔寸法の変化を低減ないしは除くのに効果的である
。そのような燐の割合は、熱借測定法で得る燐酸イオン
濃度から決定して典型的には１〜５原子％の範囲内であ
る。
本発明の膜を製造する方法では、可成りの数の変動因子
の慎重な制御下での陽極酸化処理を行なう。陽極酸化用
電解液は５〜１５０ ｖｌ、好ましくは、２０〜”；
ｏ 、！？／４！の燐酸を含む。これよりも高い濃度を
使用すると、アルミナの溶出が迅速となって厚い膜を形
成するのが困難となる。上記よりも低い濃度を用いると
、膜の形成速度が不均一で、制御不能でしかも遅くなる
。電解液は、多孔質陽極酸化膜を与えることが公知のそ
の他の溶質、例えば修酸、ある、いはアルミナの溶出を
低減するその他の化合物を含んでいてもよく、これらの
添加は化学溶出を低減し、一層厚い噂の形成を可能とす
るために有利である。
の慎重な制御下での陽極酸化処理を行なう。陽極酸化用
電解液は５〜１５０ ｖｌ、好ましくは、２０〜”；
ｏ 、！？／４！の燐酸を含む。これよりも高い濃度を
使用すると、アルミナの溶出が迅速となって厚い膜を形
成するのが困難となる。上記よりも低い濃度を用いると
、膜の形成速度が不均一で、制御不能でしかも遅くなる
。電解液は、多孔質陽極酸化膜を与えることが公知のそ
の他の溶質、例えば修酸、ある、いはアルミナの溶出を
低減するその他の化合物を含んでいてもよく、これらの
添加は化学溶出を低減し、一層厚い噂の形成を可能とす
るために有利である。
主要な三つの変動因子は、電解液温度、電圧、及び電流
密度である。電解液温度は１０〜４０°Ｃ好ましくは１
５〜３５＠Ｃの範囲内のある値に設定するのが好ましい
。この範囲の上限以上では、陽極酸化膜の溶解（溶出）
が迅速化して不都合となるおそれがある。１０°Ｃ以下
では、「焼け」及び低い膜生長速度が問題となるおそれ
がある。
密度である。電解液温度は１０〜４０°Ｃ好ましくは１
５〜３５＠Ｃの範囲内のある値に設定するのが好ましい
。この範囲の上限以上では、陽極酸化膜の溶解（溶出）
が迅速化して不都合となるおそれがある。１０°Ｃ以下
では、「焼け」及び低い膜生長速度が問題となるおそれ
がある。
電圧は４０〜２００ポル）（Ｖ）であるのが好ましい。
４０Ｖ以下での陽極酸化は低い膜生長速度を与え、また
２００Ｖ以上での陽極酸化は誘電破壊のために不可能と
なるおそれがある。電圧は６０Ｖ以上であるのが好まし
い。
２００Ｖ以上での陽極酸化は誘電破壊のために不可能と
なるおそれがある。電圧は６０Ｖ以上であるのが好まし
い。
電流密度は陽極面、積Ｉｎ当り２５〜１００ＯＡである
のが好ましい。高電流密度で発生する熱の消散が困雅で
あるので、一般的には５０〜２５０１Ｖｍの電流密度が
選択される。電流密度は、電圧、電解液濃度及び温度に
より影響され決定される。
のが好ましい。高電流密度で発生する熱の消散が困雅で
あるので、一般的には５０〜２５０１Ｖｍの電流密度が
選択される。電流密度は、電圧、電解液濃度及び温度に
より影響され決定される。
電流は直線的り、 Ｃ，であってもよい。あるいは種々
の形のバイアス電流、断Ｒ，電流あるいは脈流を使用す
ることができ、一層速くかつ均一な膜生長を達成し、し
かも「焼けＪの危険が低いという利点を奏しつる。「焼
け」を防ぐには電圧または電流密度を所望の陽極酸化操
作値まで徐々に上昇する必要がある。例えば、最大電流
密度を喰切に設定し、そして電圧をゼロから０．０２〜
０．５ボルト／秒の速度で所望値まで上昇させる・よう
にできる。
の形のバイアス電流、断Ｒ，電流あるいは脈流を使用す
ることができ、一層速くかつ均一な膜生長を達成し、し
かも「焼けＪの危険が低いという利点を奏しつる。「焼
け」を防ぐには電圧または電流密度を所望の陽極酸化操
作値まで徐々に上昇する必要がある。例えば、最大電流
密度を喰切に設定し、そして電圧をゼロから０．０２〜
０．５ボルト／秒の速度で所望値まで上昇させる・よう
にできる。
陽極酸化は所望の膜厚が得られる時間にわたり継続する
。５〜２４０分の範囲内の時間が本発明方法のために充
分であるようである。膜生長速度は、電流密度とほぼ直
線関係にあり、例えば１５０ルｑの電流密度では０．５
ミクロン／分の膜生長速度となろう。
。５〜２４０分の範囲内の時間が本発明方法のために充
分であるようである。膜生長速度は、電流密度とほぼ直
線関係にあり、例えば１５０ルｑの電流密度では０．５
ミクロン／分の膜生長速度となろう。
電解液温度は系て対して大きな影響を与えるので、選定
された値の１゛Ｃ以内またはそれよりも狭い範囲内に一
定に維持するのが好ましい。このような維持は、商業的
規模の電解槽では発生する大量の熱のために容易ではな
く、好ましくは激しい攪拌と電解液の再循環との組合せ
によって達成される。攪拌すると不均一な膜生長を生じ
させ易い。
された値の１゛Ｃ以内またはそれよりも狭い範囲内に一
定に維持するのが好ましい。このような維持は、商業的
規模の電解槽では発生する大量の熱のために容易ではな
く、好ましくは激しい攪拌と電解液の再循環との組合せ
によって達成される。攪拌すると不均一な膜生長を生じ
させ易い。
壁に孔を付けた管による空気攪拌も適当ではない。
多孔性セラミックポットは空気供給のために適当である
ことが判った。なんとなれば細かい気泡流が陽極表面の
非接触部分を生じさせずに適切な電解液の運動を生じさ
せるからである。
ことが判った。なんとなれば細かい気泡流が陽極表面の
非接触部分を生じさせずに適切な電解液の運動を生じさ
せるからである。
電解液の冷却は、電解液を電解槽と１またはそれ以上の
外部の熱交換器との間に循環させろことにより実施する
のが好ましい。再循環及び冷却の程度は、所要量の熱の
除去のために容易に調整できる。
外部の熱交換器との間に循環させろことにより実施する
のが好ましい。再循環及び冷却の程度は、所要量の熱の
除去のために容易に調整できる。
高電圧陽極酸化処理においてしばしば遭遇する一問題に
前述の「焼け」がある。高電流密度において陽極上の何
らかの点状弱点（低電気抵抗の形での弱点）は、有効電
流のうちの犬ぎな割合部分を通過させ、そして数秒の間
にこの低電気抵抗の点（部位）は、甚大な電流密度に付
され、この結果としての高温度が金属基板の酸化を促進
する。
前述の「焼け」がある。高電流密度において陽極上の何
らかの点状弱点（低電気抵抗の形での弱点）は、有効電
流のうちの犬ぎな割合部分を通過させ、そして数秒の間
にこの低電気抵抗の点（部位）は、甚大な電流密度に付
され、この結果としての高温度が金属基板の酸化を促進
する。
このような「焼け」は他の部分よりも厚い膜の領域ある
いは減少した厚さの膜の領域をもたらしつる。極端な場
合には、金属が局部的に溶出してしまうこともある。「
焼け」を生じさせる諸因子のうちで特記すべきものは、
低い電解液濃度、低い電解液温度、直線状り、 Ｃ，の
使用及び不適切な攪拌である。従ってこれらの因子に注
意を払うと「焼け」を少なくする助けとなろう。
いは減少した厚さの膜の領域をもたらしつる。極端な場
合には、金属が局部的に溶出してしまうこともある。「
焼け」を生じさせる諸因子のうちで特記すべきものは、
低い電解液濃度、低い電解液温度、直線状り、 Ｃ，の
使用及び不適切な攪拌である。従ってこれらの因子に注
意を払うと「焼け」を少なくする助けとなろう。
「焼け」と多少関連すると思われるその他の因子の一つ
は、電解液中のアルミニウムイオン濃度であり、これは
好ましくはＯ〜６９／ｌの範囲とすべきである。従って
アルミニウムイオン濃度を監視しくこれはアルミニウム
イオンの原子吸収スペクト・ルを測定することにより容
易に行なえる）、そしてその４度が高過ぎる場合に処置
を行なうことが有効である。
は、電解液中のアルミニウムイオン濃度であり、これは
好ましくはＯ〜６９／ｌの範囲とすべきである。従って
アルミニウムイオン濃度を監視しくこれはアルミニウム
イオンの原子吸収スペクト・ルを測定することにより容
易に行なえる）、そしてその４度が高過ぎる場合に処置
を行なうことが有効である。
本発明は大規模な陽極酸化膜の商業的製造に関する。従
って本発明では、陽極が少なくとも１００ｄ好ましくは
少なくとも１０００ｄの有効陽極表面積項を有すること
を特定する。薄い陽極が二つの陰極の間に挾まれている
ときには、陽極の両面は、有効陽極表面積の決定におい
て合算される。
って本発明では、陽極が少なくとも１００ｄ好ましくは
少なくとも１０００ｄの有効陽極表面積項を有すること
を特定する。薄い陽極が二つの陰極の間に挾まれている
ときには、陽極の両面は、有効陽極表面積の決定におい
て合算される。
陽極は単一体であっても、あるいはいくつかの別々の片
に分割されていてもよい（各片の面積は余り重要ではな
いが有効表面積が１００ｄ以下の小さい片を使用するこ
とは一装に不都合であろう）。
に分割されていてもよい（各片の面積は余り重要ではな
いが有効表面積が１００ｄ以下の小さい片を使用するこ
とは一装に不都合であろう）。
またこれは余り好ましくないが単一の電解槽を隔壁によ
りいくつかの領域に分割して、それぞれの領域に陽極を
設けるようにでき、そして各領域が電解液の攪拌及び再
循環のための別個の手段を有するようにできる。別法と
して、長尺の陽極を有する単一電解槽を用いることも可
能であり、この場合に長尺陽極上のある点（位置）は、
所望の厚さの陽極酸化膜で被覆されるに足る電解槽内滞
留時間で連続移動される。
りいくつかの領域に分割して、それぞれの領域に陽極を
設けるようにでき、そして各領域が電解液の攪拌及び再
循環のための別個の手段を有するようにできる。別法と
して、長尺の陽極を有する単一電解槽を用いることも可
能であり、この場合に長尺陽極上のある点（位置）は、
所望の厚さの陽極酸化膜で被覆されるに足る電解槽内滞
留時間で連続移動される。
陽極は少なくとも０．５ｍ＋ｍまたは１１ｎｍ、好まし
くは少なくとも１．５朋の厚さである。このような厚さ
の陽極の熱担持容量は「焼け」を避ける助けとなる。
くは少なくとも１．５朋の厚さである。このような厚さ
の陽極の熱担持容量は「焼け」を避ける助けとなる。
陽極の鋭い縁部や深い掻き傷は、「焼げ」の開始部位と
して作用することがある。しかし磨圧延金属は、そのよ
うな問題を回避するのに全く適切であることが見出され
た。陽極と治具との間の毛管作用も「焼け」を開始させ
ることがあるので、治具取り付けにも注意が必要とされ
る。合金成分の含有による「焼け」の開始を避けるには
、少なくとモ９９．５％の純度のアルミニウム金属を用
いるのが好ましい。商業的純度のアルミニウムで適当で
ある。
して作用することがある。しかし磨圧延金属は、そのよ
うな問題を回避するのに全く適切であることが見出され
た。陽極と治具との間の毛管作用も「焼け」を開始させ
ることがあるので、治具取り付けにも注意が必要とされ
る。合金成分の含有による「焼け」の開始を避けるには
、少なくとモ９９．５％の純度のアルミニウム金属を用
いるのが好ましい。商業的純度のアルミニウムで適当で
ある。
陰極の種類はさほど重要ではない。一般的には、慣用的
な炭素陰極を用いることができる。縁部効果の発生の危
険を回避するため（ｈ＆部効果も「焼け」を生じさせつ
る）、陽極はすべての方向において陰極の周辺を越えて
延在するのが好ましい。
な炭素陰極を用いることができる。縁部効果の発生の危
険を回避するため（ｈ＆部効果も「焼け」を生じさせつ
る）、陽極はすべての方向において陰極の周辺を越えて
延在するのが好ましい。
得られる陽極酸化膜において、細孔同志の間隙は、一般
的には１ボルト当り約２．５ ｎｍ （ノナメートル）
であり、また１ボルト当り少なくとも約１ルｍの直径を
有する。本発明の膜において細孔同志の間隔は、０．１
またはｏ、ｔｓミクロンから０．５ミクロンであるのが
好ましく、そして細孔は少なくとも０．０４ミクロンの
寸法（直径）を有するのが好ましい。燐酸陽極酸化法で
は、常に膜の成長（金属／酸化物界面における）及び膜
の溶解（酸化物／電解液界面における）が同時に生じる
。この溶解は細孔の周りで発生し、細孔の外側端部にお
ける細孔の拡張（直径の増大）をもたらす。ある特定の
場合には、溶解が金属の酸化速度と同じ速度で進行し、
陽極酸化処理中に膜の厚さが常に一定のままであること
もある。
的には１ボルト当り約２．５ ｎｍ （ノナメートル）
であり、また１ボルト当り少なくとも約１ルｍの直径を
有する。本発明の膜において細孔同志の間隔は、０．１
またはｏ、ｔｓミクロンから０．５ミクロンであるのが
好ましく、そして細孔は少なくとも０．０４ミクロンの
寸法（直径）を有するのが好ましい。燐酸陽極酸化法で
は、常に膜の成長（金属／酸化物界面における）及び膜
の溶解（酸化物／電解液界面における）が同時に生じる
。この溶解は細孔の周りで発生し、細孔の外側端部にお
ける細孔の拡張（直径の増大）をもたらす。ある特定の
場合には、溶解が金属の酸化速度と同じ速度で進行し、
陽極酸化処理中に膜の厚さが常に一定のままであること
もある。
一旦陽極酸化膜を形成してしまえば、残っているアルミ
ニウム金属基板を単に溶解により除去して、真直ぐに貫
通しているほぼ円筒状の細孔をもつ膜を回収することが
可能である。好ましい方法においては、基板を駆逐する
ことなく基板から陽極酸化膜を分離させる。これは密着
陽極酸化膜付きの基板を電解液に浸漬し、嘩の脱離が生
じるまで次第に低減する電圧のもとでそれを陽極化する
ことにより行なうことができる。その電解液は本来の陽
極酸化のために用いられるものと同一であっても、ある
いは燐酸・または多孔性陽極酸化膜を与えうることが知
られている他の電解質をペースにした別の電解液でもよ
い。前述のようにある特定の電圧低減法は欧州特許第１
７８８３１号明細書に記載されている。このようにする
と一方の面から内側に向かって延在する大きな径の細孔
系と、他方の面から内側に向かって延在する小さな径の
細孔系と、が内部で相互接続している噂が得られる。こ
のような場合、この明細書において称する「主要面」と
は、大きな径の細孔系が形成される方の面である。
ニウム金属基板を単に溶解により除去して、真直ぐに貫
通しているほぼ円筒状の細孔をもつ膜を回収することが
可能である。好ましい方法においては、基板を駆逐する
ことなく基板から陽極酸化膜を分離させる。これは密着
陽極酸化膜付きの基板を電解液に浸漬し、嘩の脱離が生
じるまで次第に低減する電圧のもとでそれを陽極化する
ことにより行なうことができる。その電解液は本来の陽
極酸化のために用いられるものと同一であっても、ある
いは燐酸・または多孔性陽極酸化膜を与えうることが知
られている他の電解質をペースにした別の電解液でもよ
い。前述のようにある特定の電圧低減法は欧州特許第１
７８８３１号明細書に記載されている。このようにする
と一方の面から内側に向かって延在する大きな径の細孔
系と、他方の面から内側に向かって延在する小さな径の
細孔系と、が内部で相互接続している噂が得られる。こ
のような場合、この明細書において称する「主要面」と
は、大きな径の細孔系が形成される方の面である。
以下実施例により本発明を説明する。
実施例
１０６７１の４０ ＶＩＨ８ＰＯ４を電解液として含む
電解槽を設けた。陽極は機械的研磨及び電解研磨により
予備処理した純度９９．９９％のアルミニウム板（１，
５ｍｍ厚）１４枚であり（各々の寸法５００Ｘ１５０Ｗ
１１Ｒ）有効陽極表面積２ぜであった。
電解槽を設けた。陽極は機械的研磨及び電解研磨により
予備処理した純度９９．９９％のアルミニウム板（１，
５ｍｍ厚）１４枚であり（各々の寸法５００Ｘ１５０Ｗ
１１Ｒ）有効陽極表面積２ぜであった。
陽極を、慣用炭素陰極の間に、有効陰極表面積：有効陽
極表面積の比が０．６６となるように配置した。電圧限
度を１６０Ｖに設定し、電流密度限度を１５０ Ａ／ぜ
に設定した。
極表面積の比が０．６６となるように配置した。電圧限
度を１６０Ｖに設定し、電流密度限度を１５０ Ａ／ぜ
に設定した。
電流をゼロから２０分間かけて上記限度値まで増加させ
た。電解液の攪拌は、電極間空隙よりも下位に配着した
セラミック・ポットからの細かい気泡流によって行なっ
た。電解液温度は電解槽と外部熱交換器との間での電解
液の再循環により２５°Ｃに維持した。約１４０ボルト
の定常状態の陽極酸化電圧（約０．３５ミクロンの細孔
間距離に相当）を用いて、上記限度値電流で６０分間陽
極酸化処理したのち３０±２ミクロンの膜厚が達成され
た。陽極酸化処理と同じ電解液中でその最終陽極酸化電
圧から０．３ボルトまで制御下に電圧を低減させ、次い
で化学的溶解、すすぎ洗浄及び乾燥により基板から膜を
分離回収した。コンピューターを用いて、電力供給を制
御して０．３ボルトより大きな、または現在電圧の５％
の電圧の段階的低減を行なった。各段階的低減の後に監
視システムによって電流変化率の最大値（正）を検出し
、電圧の変化率がこの最大値の５０％に低下したときに
次に段階的低減を生じさせた。かかる継続操作の完了時
に膜が検出されたが、アルミニウム基板から分離されて
いなかった。分離は３３（容量）％の）（、ＰＯ４液に
室温で５分間浸漬することにより実施し、次いで丁すぎ
洗い及び乾燥した。
た。電解液の攪拌は、電極間空隙よりも下位に配着した
セラミック・ポットからの細かい気泡流によって行なっ
た。電解液温度は電解槽と外部熱交換器との間での電解
液の再循環により２５°Ｃに維持した。約１４０ボルト
の定常状態の陽極酸化電圧（約０．３５ミクロンの細孔
間距離に相当）を用いて、上記限度値電流で６０分間陽
極酸化処理したのち３０±２ミクロンの膜厚が達成され
た。陽極酸化処理と同じ電解液中でその最終陽極酸化電
圧から０．３ボルトまで制御下に電圧を低減させ、次い
で化学的溶解、すすぎ洗浄及び乾燥により基板から膜を
分離回収した。コンピューターを用いて、電力供給を制
御して０．３ボルトより大きな、または現在電圧の５％
の電圧の段階的低減を行なった。各段階的低減の後に監
視システムによって電流変化率の最大値（正）を検出し
、電圧の変化率がこの最大値の５０％に低下したときに
次に段階的低減を生じさせた。かかる継続操作の完了時
に膜が検出されたが、アルミニウム基板から分離されて
いなかった。分離は３３（容量）％の）（、ＰＯ４液に
室温で５分間浸漬することにより実施し、次いで丁すぎ
洗い及び乾燥した。
（外５名）
Claims (17)
- （１）少なくとも５０ｃｍ＾２の面積の一つの主要面及
び少なくとも５ミクロンの厚さを有する多孔質陽極酸化
アルミニウム膜であって、その膜物質が陽極酸化用電解
液由来の燐を含んでいる上記陽極酸化アルミニウム膜。 - （２）細孔同志が主要面において０．１〜０．５ミクロ
ン離れている特許請求の範囲第１項に記載の膜。 - （３）少なくとも５０ｃｍ＾２の面積の一つの主要面を
有する多孔質陽極酸化アルミニウム膜であって、その細
孔同志が主要面において０．１５〜０．５ミクロン離れ
、また膜物質が陽極酸化用電解液由来の燐を含んでいる
ことを特徴とする上記膜。 - （４）少なくとも５ミクロンの厚さを有する特許請求の
範囲第３項記載の膜。 - （５）少なくとも１０ミクロンの厚さを有する特許請求
の範囲第１〜４項のいずれかに記載の膜。 - （６）金属基板上に形成された後にその基板から分離さ
れた特許請求の範囲第１〜５項のいずれかに記載の膜。 - （７）膜物質は１〜５原子％の燐を含む特許請求の範囲
第１〜６項のいずれかに記載の膜。 - （８）細孔は主要面において少なくとも０．０４ミクロ
ンの寸法を有する特許請求の範囲第１〜７項のいずれか
に記載の膜。 - （９）５〜１５０ｇ／ｌの濃度の燐酸に基く電解液、少
なくとも１００ｃｍ＾２の有効陽極表面積及び少なくと
も０．５ｍｍの厚さを有する少なくとも一つのアルミニ
ウム金属陽極、及び陰極を含む電解槽を備え；その電解
槽に４０〜２００Ｖで電流を通し；そして電解液温度を
５〜５００℃の範囲内のある選定値に維持する； ことからなる多孔質陽極酸化アルミニウム膜の製法。 - （１０）電解液を電解槽と外部熱交換器との間に再循環
させることにより電解液温度を維持する特許請求の範囲
第９項に記載の方法。 - （１１）電流密度が陽極表面積１ｍ＾２当り５０〜２５
０Ａである特許請求の範囲第９または１０項に記載の方
法。 - （１２）電解液のアルミニウムイオン濃度は０〜６ｇ／
ｌである特許請求の範囲第９〜１１項のいずれかに記載
の方法。 - （１３）有効陽極表面積は少なくとも１００ｃｍ＾２で
ある特許請求の範囲第９〜１２項のいずれかに記載の方
法。 - （１４）陽極は少なくとも９９．５％の純度のアルミニ
ウム金属である特許請求の範囲第９〜１３項のいずれか
に記載の方法。 - （１５）少なくとも１００ｃｍ＾２の有効陽極表面積を
有する単一のアルミニウム金属陽極を用いる特許請求の
範囲第９〜１４項のいずれかに記載の方法。 - （１６）陽極が少なくとも１ｍｍの厚さを有する特許請
求の範囲第９〜１５項のいずれかに記載の方法。 - （１７）特許請求の範囲第１〜８項のいずれかに記載の
多孔質陽極酸化アルミニウム膜からなるフィルター。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB8602582 | 1986-02-03 | ||
| GB868602582A GB8602582D0 (en) | 1986-02-03 | 1986-02-03 | Porous anodic aluminium oxide films |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62185898A true JPS62185898A (ja) | 1987-08-14 |
Family
ID=10592424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62023417A Pending JPS62185898A (ja) | 1986-02-03 | 1987-02-03 | 多孔質陽極酸化アルミニウム膜及びその製法 |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4859288A (ja) |
| EP (1) | EP0234727B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62185898A (ja) |
| AU (1) | AU594996B2 (ja) |
| BR (1) | BR8700480A (ja) |
| CA (1) | CA1309374C (ja) |
| DE (1) | DE3779441T2 (ja) |
| DK (1) | DK43187A (ja) |
| GB (1) | GB8602582D0 (ja) |
Families Citing this family (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4213535C1 (en) * | 1992-04-24 | 1993-09-23 | Deutsche Aerospace Airbus Gmbh, 21129 Hamburg, De | Anodising aluminium@ and magnesium@ surfaces - by constantly increasing current to predetermined max. value and holding at this value so that ratio of charge in 1st stage to 2nd stage is approximately 0.5 |
| DE4238242C2 (de) * | 1992-09-17 | 2003-04-24 | Rieger Franz Metallveredelung | Verfahren zur Vorbehandlung von Leichtmetallen nach Patent DE 4231052 C2 |
| US5580825A (en) * | 1993-09-20 | 1996-12-03 | International Technology Exchange Corp. | Process for making multilevel interconnections of electronic components |
| JPH0967173A (ja) * | 1995-08-31 | 1997-03-11 | Univ Tohoku | 多孔性アルミナチューブの製造方法 |
| ES2200219T3 (es) * | 1997-12-17 | 2004-03-01 | Isle Coat Limited | Procedimiento para producir recubrimientos protectores duros sobre articulos fabricados de aleaciones de aluminio. |
| DE10022074A1 (de) * | 2000-05-06 | 2001-11-08 | Henkel Kgaa | Elektrochemisch erzeugte Schichten zum Korrosionsschutz oder als Haftgrund |
| US6500558B2 (en) * | 2000-05-31 | 2002-12-31 | Mitsubishi Aluminum Co. Ltd. | Surface-treated aluminum material with superior adhesive properties and production method therefor |
| US7578921B2 (en) * | 2001-10-02 | 2009-08-25 | Henkel Kgaa | Process for anodically coating aluminum and/or titanium with ceramic oxides |
| US7569132B2 (en) * | 2001-10-02 | 2009-08-04 | Henkel Kgaa | Process for anodically coating an aluminum substrate with ceramic oxides prior to polytetrafluoroethylene or silicone coating |
| US7452454B2 (en) * | 2001-10-02 | 2008-11-18 | Henkel Kgaa | Anodized coating over aluminum and aluminum alloy coated substrates |
| US6916414B2 (en) | 2001-10-02 | 2005-07-12 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Light metal anodization |
| US7820300B2 (en) * | 2001-10-02 | 2010-10-26 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Article of manufacture and process for anodically coating an aluminum substrate with ceramic oxides prior to organic or inorganic coating |
| EP1357626B1 (en) * | 2002-04-15 | 2007-10-03 | Becromal S.p.A. | Process for manufacturing a proton conducting membrane having an alumina matrix |
| US6905777B2 (en) * | 2003-04-18 | 2005-06-14 | Shannon D. Near | Laminate material |
| DE10349471B4 (de) * | 2003-10-23 | 2009-07-23 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Nanoporöse Filter- oder Trägermembran sowie Verfahren zur Herstellung |
| US20060191796A1 (en) * | 2004-12-06 | 2006-08-31 | Greatbatch, Inc. | Anodizing Valve Metals By Controlled Power |
| US7727372B2 (en) * | 2004-12-06 | 2010-06-01 | Greatbatch Ltd. | Anodizing valve metals by self-adjusted current and power |
| CN100378254C (zh) * | 2005-05-19 | 2008-04-02 | 上海交通大学 | 厚度可控、自由独立超薄多孔氧化铝模板的制备方法 |
| US7879217B2 (en) * | 2005-12-02 | 2011-02-01 | Greatbatch Ltd. | Method of forming valve metal anode pellets for capacitors using forced convection of liquid electrolyte during anodization |
| EP1900418A1 (de) | 2006-09-07 | 2008-03-19 | Becromal S.p.A. | Membran für eine Brennstoffzelle und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US8172561B2 (en) * | 2008-06-06 | 2012-05-08 | Jtekt Corporation | Metal part and method of manufacturing metal part |
| US20100116733A1 (en) * | 2008-11-12 | 2010-05-13 | Korea Electrotechnology Research Institute | Nanoporous oxide ceramic membranes of tubular and hollow fiber shape and method of making the same |
| JP5691135B2 (ja) * | 2009-03-31 | 2015-04-01 | スズキ株式会社 | 陽極酸化皮膜及び陽極酸化処理方法 |
| US9701177B2 (en) | 2009-04-02 | 2017-07-11 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Ceramic coated automotive heat exchanger components |
| CN102618904A (zh) * | 2012-04-23 | 2012-08-01 | 福州大学 | 一种纳米微孔刚玉薄膜及其制备方法 |
| WO2017183965A1 (en) * | 2016-04-18 | 2017-10-26 | Fokker Aerostructures B.V. | Method of anodizing an article of aluminium or alloy thereof |
| US11230786B2 (en) * | 2019-06-17 | 2022-01-25 | Nanopec, Inc. | Nano-porous anodic aluminum oxide membrane for healthcare and biotechnology |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5398380A (en) * | 1977-02-09 | 1978-08-28 | Boeing Co | Environmentally resistant metallic homeycomb construction material and its production method |
| JPS60156176A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-16 | Sanyo Electric Co Ltd | デ−タ処理における補正方式 |
| JPS60177198A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 薄膜状Ａｌ↓２Ｏ↓３多孔質体の製造方法 |
| JPS60235609A (ja) * | 1984-05-08 | 1985-11-22 | Nippon Koki Kk | イオン選択膜の製造方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3671410A (en) * | 1970-02-16 | 1972-06-20 | Philip Morris Inc | Method for making metal oxide membranes |
| US3850762A (en) * | 1973-08-13 | 1974-11-26 | Boeing Co | Process for producing an anodic aluminum oxide membrane |
| DE2444541A1 (de) * | 1973-12-14 | 1975-06-19 | Horizons Research Inc | Verfahren zum herstellen von selbsttragenden filmen aus poroesen aluminiumoxydschichten, danach hergestelltes produkt und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens |
| US4085012A (en) * | 1974-02-07 | 1978-04-18 | The Boeing Company | Method for providing environmentally stable aluminum surfaces for adhesive bonding and product produced |
| FR2342356A1 (fr) * | 1976-02-26 | 1977-09-23 | Boeing Co | Procede pour la liaison de pieces contenant de l'aluminium |
| JPS5331883A (en) * | 1976-09-06 | 1978-03-25 | Honda Senriyouten Kk | Rotary screen apparatus for flat screen printing machine |
| GB8426264D0 (en) * | 1984-10-17 | 1984-11-21 | Alcan Int Ltd | Porous films |
-
1986
- 1986-02-03 GB GB868602582A patent/GB8602582D0/en active Pending
-
1987
- 1987-01-22 EP EP87300565A patent/EP0234727B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-01-22 DE DE8787300565T patent/DE3779441T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1987-01-27 DK DK043187A patent/DK43187A/da not_active Application Discontinuation
- 1987-02-02 CA CA000528697A patent/CA1309374C/en not_active Expired - Fee Related
- 1987-02-02 AU AU68212/87A patent/AU594996B2/en not_active Ceased
- 1987-02-03 JP JP62023417A patent/JPS62185898A/ja active Pending
- 1987-02-03 BR BR8700480A patent/BR8700480A/pt unknown
-
1988
- 1988-11-16 US US07/273,113 patent/US4859288A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5398380A (en) * | 1977-02-09 | 1978-08-28 | Boeing Co | Environmentally resistant metallic homeycomb construction material and its production method |
| JPS60156176A (ja) * | 1984-01-24 | 1985-08-16 | Sanyo Electric Co Ltd | デ−タ処理における補正方式 |
| JPS60177198A (ja) * | 1984-02-22 | 1985-09-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 薄膜状Ａｌ↓２Ｏ↓３多孔質体の製造方法 |
| JPS60235609A (ja) * | 1984-05-08 | 1985-11-22 | Nippon Koki Kk | イオン選択膜の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB8602582D0 (en) | 1986-03-12 |
| DK43187A (da) | 1987-08-04 |
| AU6821287A (en) | 1987-08-06 |
| DK43187D0 (da) | 1987-01-27 |
| CA1309374C (en) | 1992-10-27 |
| US4859288A (en) | 1989-08-22 |
| BR8700480A (pt) | 1987-12-08 |
| AU594996B2 (en) | 1990-03-22 |
| DE3779441T2 (de) | 1993-01-21 |
| DE3779441D1 (de) | 1992-07-09 |
| EP0234727B1 (en) | 1992-06-03 |
| EP0234727A1 (en) | 1987-09-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS62185898A (ja) | 多孔質陽極酸化アルミニウム膜及びその製法 | |
| EP1967616B1 (en) | Microstructure and method of manufacturing the same | |
| US7838105B2 (en) | Microstructure and method of manufacturing the same | |
| US8231789B2 (en) | Cross-flow filtration method and cross-flow filtration device | |
| Chernyakova et al. | Effect of Joule heating on formation of porous structure of thin oxalic acid anodic alumina films | |
| EP2039808A2 (en) | Microstructure | |
| JPH07112532B2 (ja) | 濾過膜の製造方法 | |
| JPS63232855A (ja) | 陽極酸化アルミニウム基材を含む触媒およびその製法 | |
| US4722771A (en) | Process for manufacturing a partially permeable membrane | |
| DE2444541A1 (de) | Verfahren zum herstellen von selbsttragenden filmen aus poroesen aluminiumoxydschichten, danach hergestelltes produkt und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
| US4717455A (en) | Process for manufacturing a microfilter | |
| Lin et al. | Challenges to Fabricate Large Size-Controllable Submicron-Structured Anodic-Aluminum-Oxide Film | |
| JP2008144248A (ja) | 酸化アルミニウムの陽極酸化ナノ構造体 | |
| JP2009114470A (ja) | 微細構造体の製造方法 | |
| JP2008093652A (ja) | 微細構造体および製造方法 | |
| JPH02254192A (ja) | 多孔性材料の作製方法 | |
| JP2692108B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
| JP2009030079A (ja) | 微細構造体の製造方法および微細構造体 | |
| JP3328796B2 (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔 | |
| KR20120084042A (ko) | 비대칭 균일기공 알루미나 분리막 및 이의 제조방법 | |
| JP2638038B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
| JP5642342B2 (ja) | 陽極酸化ポーラスアルミナおよびその製造方法 | |
| JPH02114620A (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 | |
| JPS6230510A (ja) | 濾過膜の製造方法 | |
| JP2629241B2 (ja) | アルミ電解コンデンサ用電極箔の製造方法 |