JPS62185367A - 画像読み取り装置 - Google Patents
画像読み取り装置Info
- Publication number
- JPS62185367A JPS62185367A JP61026210A JP2621086A JPS62185367A JP S62185367 A JPS62185367 A JP S62185367A JP 61026210 A JP61026210 A JP 61026210A JP 2621086 A JP2621086 A JP 2621086A JP S62185367 A JPS62185367 A JP S62185367A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- photoelectric conversion
- layer
- sensor
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 31
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 6
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 11
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 abstract description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 4
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(III) oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/14665—Imagers using a photoconductor layer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、画像読み取り装置に係り、特に2次元のイメ
ージセンサに関する。
ージセンサに関する。
水素化アモルファスシリコン等のアモルファス半導体薄
膜あるいは硫化カドミウム(CdS)−セレン化カドミ
ウム(CdSe)等の多結晶薄膜を光導電体層として使
用したサンドイッチ型の光電変換素子は、優れた光電変
換特性を有しており、かつ構造が簡単で大面積化が容易
であることから、原稿と同一幅のセンサ部を有する密着
型イメージセンサ、すなわち縮小光学系を必要としない
大面積デバイスとして原稿読み取り装置への幅広い利用
が注目されている。
膜あるいは硫化カドミウム(CdS)−セレン化カドミ
ウム(CdSe)等の多結晶薄膜を光導電体層として使
用したサンドイッチ型の光電変換素子は、優れた光電変
換特性を有しており、かつ構造が簡単で大面積化が容易
であることから、原稿と同一幅のセンサ部を有する密着
型イメージセンサ、すなわち縮小光学系を必要としない
大面積デバイスとして原稿読み取り装置への幅広い利用
が注目されている。
この密着型イメージセンサは、微細な光電変換素子を原
稿の読み取り幅に相当する長さ分だけ直線上に配列し、
原稿からの反射光により生じた個々の素子の抵抗変化を
選択回路により時系列信号としてとり出すもので、通常
、第2図に示す如く、左右の発光ダイオード(LED)
アレイからなる光源11により、照射された原稿12か
らの反射光をライトフォーカシングロッドレンズアレイ
と呼ばれる導光系13で、光電変換素子からなる受光素
子アレイ14に導き、そこで原稿の像を等倍の正立像と
して結像するように構成されており、受光素子アレイは
受光した光量の大小を光電流の大小に変換し、原積め読
み取りが行なわれる。
稿の読み取り幅に相当する長さ分だけ直線上に配列し、
原稿からの反射光により生じた個々の素子の抵抗変化を
選択回路により時系列信号としてとり出すもので、通常
、第2図に示す如く、左右の発光ダイオード(LED)
アレイからなる光源11により、照射された原稿12か
らの反射光をライトフォーカシングロッドレンズアレイ
と呼ばれる導光系13で、光電変換素子からなる受光素
子アレイ14に導き、そこで原稿の像を等倍の正立像と
して結像するように構成されており、受光素子アレイは
受光した光量の大小を光電流の大小に変換し、原積め読
み取りが行なわれる。
このような装置では、原稿の長尺化に伴い、光電変換素
子の数も多くなっており、信号線も多く、処理回路が慢
雑である。
子の数も多くなっており、信号線も多く、処理回路が慢
雑である。
またこのライトフォーカシングロッドレンズアレイは光
ファイバを用いているため、その屈折率変化を大きくす
ることができないことから開口率が小さく、高価である
という欠点があった。
ファイバを用いているため、その屈折率変化を大きくす
ることができないことから開口率が小さく、高価である
という欠点があった。
また、光源は原稿面と受光素子アレイとの間に配置され
ねばならない上、光源と原稿面との間には必ずある一定
の間隔が必要であり、真の意味で密着とすることができ
なかった。
ねばならない上、光源と原稿面との間には必ずある一定
の間隔が必要であり、真の意味で密着とすることができ
なかった。
そこで、開口率が大きく先便用効率の高い導光系を備え
た密着型イメージセンサを形成すべく、透明基板の1方
の面に受光素子を配設すると共に他方の面に多層薄膜か
らなる導光系を形成し、他□方の面を入射面としたもの
(特開昭59−121947号公報)等も提案されてい
る。
た密着型イメージセンサを形成すべく、透明基板の1方
の面に受光素子を配設すると共に他方の面に多層薄膜か
らなる導光系を形成し、他□方の面を入射面としたもの
(特開昭59−121947号公報)等も提案されてい
る。
しかしながら、依然として光源は原稿面と受光素子アレ
イとの間に配置されねばならず、装置の小型化には限界
があった。
イとの間に配置されねばならず、装置の小型化には限界
があった。
ところで、OA化が進むにつれて、マークシート等を利
用した処理もしばしば用いられるようになっている。
用した処理もしばしば用いられるようになっている。
このようなマークシートの読み取りには、上記密着型イ
メージセンサのような高い解像度は不要であり、例えば
、マトリックス状に分割された光電変換素子を配置する
と共に各光電変換素子に対応してLEDアレイをマトリ
ックス状に配置し、各位置におけるマークの有無を検出
するという方法がとられている。
メージセンサのような高い解像度は不要であり、例えば
、マトリックス状に分割された光電変換素子を配置する
と共に各光電変換素子に対応してLEDアレイをマトリ
ックス状に配置し、各位置におけるマークの有無を検出
するという方法がとられている。
しかしながら、このような装置においても信号処理が曳
雑である玉検出しようとするマーク数に対応した数のL
EDを配設しなければならず、装置か大型となるという
欠点は解消し得なかった。
雑である玉検出しようとするマーク数に対応した数のL
EDを配設しなければならず、装置か大型となるという
欠点は解消し得なかった。
また、読み取り精度を高めるためには各素子を同一特性
となるように形成する必要があり、製造技術的にも高度
なものが要求される。
となるように形成する必要があり、製造技術的にも高度
なものが要求される。
本発明は、前記実情に鑑みてなされたもので、構造が簡
単でかつ製造が容易な小型の画像読み取り装置を提供す
ることを目的とする。
単でかつ製造が容易な小型の画像読み取り装置を提供す
ることを目的とする。
〔問題点を解決するための手段および作用〕そこで、本
発明では、透光性の上部電極と遮光性の下部電極とによ
って、光電変換層を挾んだサンドイッチ構造の光電変換
素子に所定の間隔で上部電極から下部電極まで貫通する
窓部を配設してなるセンサの」二部電極側に原稿を配置
すると共に、下部電極側から、前記窓部を介してスポッ
ト光を原稿面上に順次照射し、原稿面からの反射光を該
センサによって検出し、検出信号をスポット光の照射位
置と同期して取り出すことにより、原稿の読み取りを行
なうようにしている。
発明では、透光性の上部電極と遮光性の下部電極とによ
って、光電変換層を挾んだサンドイッチ構造の光電変換
素子に所定の間隔で上部電極から下部電極まで貫通する
窓部を配設してなるセンサの」二部電極側に原稿を配置
すると共に、下部電極側から、前記窓部を介してスポッ
ト光を原稿面上に順次照射し、原稿面からの反射光を該
センサによって検出し、検出信号をスポット光の照射位
置と同期して取り出すことにより、原稿の読み取りを行
なうようにしている。
かかる構成では、レンズ系も不要である上、センサは1
個の素子で(1が成されているため、位置による各層の
膜厚のバラツキがある場合にも複数のセンサを分割形成
した場合のように検出信号のバラツキとなることもない
。
個の素子で(1が成されているため、位置による各層の
膜厚のバラツキがある場合にも複数のセンサを分割形成
した場合のように検出信号のバラツキとなることもない
。
また、解像度には限界かあるが、あまり高い解1象度を
必要としないものについては、信頼性の高い読み取りが
可能となる。
必要としないものについては、信頼性の高い読み取りが
可能となる。
以下、本発明の実施例について、図面を参照しつつ詳細
に説明する。
に説明する。
第1図(a)(b)および(c)は、マークシート用の
原稿読み取り装置を示す図である。(第1図(b)およ
び(c)は、夫々第1図(a)のA−A断面およびB−
B断面を示す図である。)このマークシート用の原稿読
み取り装置は、透光性の182mmX257mm (B
5サイズ)のガラス基板1上に形成されたクロム層から
なる遮光性の下部電極2と、酸化インジウム錫層からな
る透光性の上部電極3とによって、水素化アモルファス
シリコン層からなる光電変換層4を挾んだサンドイッチ
型の光電変換素子からなり、等間隔で横方向に6個たて
方向に7個計42個の窓部5が7トリツクス状に穿孔さ
れてなるセンサ部と、ヘリウム(He)−ネオン(Ne
)レーザからなる光源6を具え、該窓部5を介して、原
稿7を順次スポット照射し、原稿7θらの反射光によっ
て前記センサ部の光電変換層に発生する抵抗変化を検出
し、これを、前記光源の照射位置(どの窓を照射したか
)に同期させ、前記窓部に対応する原稿位置におけるマ
ークの有無を検出するものである。
原稿読み取り装置を示す図である。(第1図(b)およ
び(c)は、夫々第1図(a)のA−A断面およびB−
B断面を示す図である。)このマークシート用の原稿読
み取り装置は、透光性の182mmX257mm (B
5サイズ)のガラス基板1上に形成されたクロム層から
なる遮光性の下部電極2と、酸化インジウム錫層からな
る透光性の上部電極3とによって、水素化アモルファス
シリコン層からなる光電変換層4を挾んだサンドイッチ
型の光電変換素子からなり、等間隔で横方向に6個たて
方向に7個計42個の窓部5が7トリツクス状に穿孔さ
れてなるセンサ部と、ヘリウム(He)−ネオン(Ne
)レーザからなる光源6を具え、該窓部5を介して、原
稿7を順次スポット照射し、原稿7θらの反射光によっ
て前記センサ部の光電変換層に発生する抵抗変化を検出
し、これを、前記光源の照射位置(どの窓を照射したか
)に同期させ、前記窓部に対応する原稿位置におけるマ
ークの有無を検出するものである。
次にこのセンサ部を構成する光電変換素子の製造方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
まず、透光性のガラス基板1上に、下部電極としてのク
ロム層を真空蒸着法によって成膜する。
ロム層を真空蒸着法によって成膜する。
次いで、第2図(b)に示す如くモノシラン(SiH4
)ガスのグロー放電分解法により、アモルファスシリコ
ン9層4p1アモルファスシリコンi層41%アモルフ
ァスシリコンn層4nの3層からなるアモルファスシリ
コン層4を形成する。このときアモルファス99329
層、アモルファス99321層、アモルファスシリコン
n層の各層の厚さは夫々100人、5000人、500
人とし、p層を形成するためのドーパントとしてはジボ
ラン(82H6)、n層を形成するためのドーパントと
してはホスフィン(PH3)を夫々添加した。
)ガスのグロー放電分解法により、アモルファスシリコ
ン9層4p1アモルファスシリコンi層41%アモルフ
ァスシリコンn層4nの3層からなるアモルファスシリ
コン層4を形成する。このときアモルファス99329
層、アモルファス99321層、アモルファスシリコン
n層の各層の厚さは夫々100人、5000人、500
人とし、p層を形成するためのドーパントとしてはジボ
ラン(82H6)、n層を形成するためのドーパントと
してはホスフィン(PH3)を夫々添加した。
続いて、酸化インジウム95mo1%十酸化錫(Sn0
2)5moj!%からなるターゲットを用いてスパッタ
リングを行ない、膜厚約5000人の酸化インジウム錫
層を形成する。
2)5moj!%からなるターゲットを用いてスパッタ
リングを行ない、膜厚約5000人の酸化インジウム錫
層を形成する。
この後、フォトリソ法により、レジストパターンを形成
する。そして、これをマスクとして前期酸化インジウム
錫層をパターニングし、続いて、この酸化インジウム錫
電極3をマスクとして水素化アモルファスシリコン層を
、更に、クロム層をというふうに順次選択的にエツチン
グし、42個のマトリックス状の窓部5を有する光電変
換素子を形成する。ここで酸化インジウム錫層およびク
ロム層のパターニングには塩酸(H(1) 系のエツチ
ング液を用いたウェットエツチング法を使用し、水素化
アモルファスシリコン層のパターニングにはテトラフル
オルメタン(CFa)をエツチングガスとして用いたド
ライエンチング法を使用した。
する。そして、これをマスクとして前期酸化インジウム
錫層をパターニングし、続いて、この酸化インジウム錫
電極3をマスクとして水素化アモルファスシリコン層を
、更に、クロム層をというふうに順次選択的にエツチン
グし、42個のマトリックス状の窓部5を有する光電変
換素子を形成する。ここで酸化インジウム錫層およびク
ロム層のパターニングには塩酸(H(1) 系のエツチ
ング液を用いたウェットエツチング法を使用し、水素化
アモルファスシリコン層のパターニングにはテトラフル
オルメタン(CFa)をエツチングガスとして用いたド
ライエンチング法を使用した。
このようにして形成された光電変換素子からなるセンサ
部は、上部電極3側が原稿面側にくるように設置されて
、原稿の読み取りを行なう。
部は、上部電極3側が原稿面側にくるように設置されて
、原稿の読み取りを行なう。
読み取りに際しては、まず原稿すなわちマークシートの
端部に設けられた位置合わせマークを用いて、位置合わ
せを行ない、読み取るべきマークの位置にセンサ部の窓
部5が対応するように原稿を設置する。
端部に設けられた位置合わせマークを用いて、位置合わ
せを行ない、読み取るべきマークの位置にセンサ部の窓
部5が対応するように原稿を設置する。
この後、光源を駆動系(図示せず)によって動かし、前
記窓部を基板1側から順次スポット照射していく。
記窓部を基板1側から順次スポット照射していく。
そして、照射された窓部にマークMが存在するときは、
光源からの光は、窓部を介して原稿面に当り矢印しに示
すように、原稿面で反射し、光電変換素子に入光する。
光源からの光は、窓部を介して原稿面に当り矢印しに示
すように、原稿面で反射し、光電変換素子に入光する。
このとき、光電変換素子には、光電流が流れ、電気信号
として出力される。
として出力される。
また、マークが存在しないときは、矢印L′に示す如く
、原稿面での反射はないため、光電変換素子からの電気
信号はない。
、原稿面での反射はないため、光電変換素子からの電気
信号はない。
このようにして、順次とり出される電気信号を前期光源
の走査位置を決定する駆動系(図示せず)と同期して前
記電気信号を読み出すことにより、マークシートの読み
取りが行なイっれる。
の走査位置を決定する駆動系(図示せず)と同期して前
記電気信号を読み出すことにより、マークシートの読み
取りが行なイっれる。
この原稿読み取り装置では、光学系も不要であり原稿と
センサ而とを真に密着した状態で設置できるため、装置
の大幅な小型化が可能である。
センサ而とを真に密着した状態で設置できるため、装置
の大幅な小型化が可能である。
また、光を走査することにより、光電変換素子すなわち
センサ部を、画素に分割する必要がなく、1個の光電変
換素子であればよいため、製造が極めて容易で、センサ
をマトリックス状に配列したマトリックス型のイメージ
センサのように、各センサのセンサ特性のバラツ牛によ
る読み取り誤差もない。更には、マトリックス型のイメ
ージセンサに比べ、信号線数が大幅に減少し、処理回路
が簡単になる。
センサ部を、画素に分割する必要がなく、1個の光電変
換素子であればよいため、製造が極めて容易で、センサ
をマトリックス状に配列したマトリックス型のイメージ
センサのように、各センサのセンサ特性のバラツ牛によ
る読み取り誤差もない。更には、マトリックス型のイメ
ージセンサに比べ、信号線数が大幅に減少し、処理回路
が簡単になる。
なお、光電変換素子の窓部の形状については、1E方形
に限らず、適宜変更可能である。
に限らず、適宜変更可能である。
また、使用する光源については実施例に限定されるもの
ではないが、実施例で使用したHe−Neレーザの如く
、ビーム径の小さいスポット光を発することのできるも
のが望ましい。。
ではないが、実施例で使用したHe−Neレーザの如く
、ビーム径の小さいスポット光を発することのできるも
のが望ましい。。
更に、基板上部電極、下部電極、光電変換層の材質につ
いては、実施例に限定されることなく、適宜変更可能で
ある。また、基板をステンレス等の導電性の基板で形成
し、基板まで貫通するような窓部を形成してもよい。
いては、実施例に限定されることなく、適宜変更可能で
ある。また、基板をステンレス等の導電性の基板で形成
し、基板まで貫通するような窓部を形成してもよい。
更に、また、実施例では二次元センサについて説明した
が、−次元センサにも適用可能であることはいうまでも
ない。
が、−次元センサにも適用可能であることはいうまでも
ない。
加えて、本発明の原稿読み取り装置は、マークシートの
読み取りのみならず、通常の画像の読み取りにも使用可
能である。通常の画像の読み取り用の場合は窓部の配列
を密にかつ小さくすると共にできる限りビーム径の小さ
い光源を使用することが必要である。
読み取りのみならず、通常の画像の読み取りにも使用可
能である。通常の画像の読み取り用の場合は窓部の配列
を密にかつ小さくすると共にできる限りビーム径の小さ
い光源を使用することが必要である。
以上説明してきたように、本発明によれば、センサを構
成する上部電極と遮光性の下部電極とで光電変換層を挾
んだ光電変換素子を分割することなく、窓部を形成する
のみで1個の素子として使用し、この素子の遮光性の下
部電極側から該窓部を介して原稿面をスポット光によっ
て順次照射し、原稿面からの反射光を該光電変換素子に
よって検出し、検出信号をスポット光の照射位置と同期
してとり出すことにより画像の読み取りを行なうように
しているため、センサの構造は極めて簡単で、製造が容
易であり、信号線数も少なく処理回路も簡単である。ま
た読み取り誤差も少なく信頼性の高いものとなっている
。
成する上部電極と遮光性の下部電極とで光電変換層を挾
んだ光電変換素子を分割することなく、窓部を形成する
のみで1個の素子として使用し、この素子の遮光性の下
部電極側から該窓部を介して原稿面をスポット光によっ
て順次照射し、原稿面からの反射光を該光電変換素子に
よって検出し、検出信号をスポット光の照射位置と同期
してとり出すことにより画像の読み取りを行なうように
しているため、センサの構造は極めて簡単で、製造が容
易であり、信号線数も少なく処理回路も簡単である。ま
た読み取り誤差も少なく信頼性の高いものとなっている
。
第1図(a)、(b)、(c)は、本発明実施例のマー
クシート読み取り装置を示す図(第1図(b)、(c)
は、夫々第1図(a)のA−A断面およびB−B断面を
示す。)、第2図は通常の密着型イメージセンサを示す
図である。 1・・・ガラス基板、2・・・下部電極、3・・・」二
部電極、4・・・光電変換層、5・・・窓部、6・・・
光源、7・・・原稿、M・・マーク。 い、、l :、1 第1図(0) 1λ 第1図(C) 第2図
クシート読み取り装置を示す図(第1図(b)、(c)
は、夫々第1図(a)のA−A断面およびB−B断面を
示す。)、第2図は通常の密着型イメージセンサを示す
図である。 1・・・ガラス基板、2・・・下部電極、3・・・」二
部電極、4・・・光電変換層、5・・・窓部、6・・・
光源、7・・・原稿、M・・マーク。 い、、l :、1 第1図(0) 1λ 第1図(C) 第2図
Claims (4)
- (1)透光性の上部電極と、遮光性の下部電極とによっ
て光電変換層を挟んだサンドイッチ構造の光電変換素子
からなり、所定の間隔で上部電極から下部電極まで貫通
する複数の窓部を穿孔してなるセンサと、 走査可能なスポット光源からなる光照射手段とを具え、 該センサの前記上部電極側に原稿を配置すると共に、前
記下部電極側から、前記窓部を介して、前記光照射手段
により原稿面を順次スポット照射し、 原稿面からの反射光を、前記センサによって検出し、 検出信号を前記光照射手段の照射位置に同期して取り出
すようにしたことを特徴とする画像読み取り装置。 - (2)前記光電変換素子の光電変換層はアモルファスシ
リコン層から構成されていることを特徴とする特許請求
の範囲第(1)項記載の画像読み取り装置。 - (3)前記上部電極は、酸化インジウム錫(ITO)層
から構成されていることを特徴とする特許請求の範囲第
(1)項又は第(2)項記載の画像読み取り装置。 - (4)前記下部電極は、クロム(Cr)層から構成され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第(3)項記載
の画像読み取り装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61026210A JPS62185367A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | 画像読み取り装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61026210A JPS62185367A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | 画像読み取り装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62185367A true JPS62185367A (ja) | 1987-08-13 |
Family
ID=12187078
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61026210A Pending JPS62185367A (ja) | 1986-02-08 | 1986-02-08 | 画像読み取り装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62185367A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01302762A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-06 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 密着型イメージセンサ |
JPH0210965A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-16 | Nec Corp | イメージセンサと入出力装置 |
-
1986
- 1986-02-08 JP JP61026210A patent/JPS62185367A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01302762A (ja) * | 1988-05-30 | 1989-12-06 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 密着型イメージセンサ |
JPH0210965A (ja) * | 1988-06-28 | 1990-01-16 | Nec Corp | イメージセンサと入出力装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4644406A (en) | Large scale contact type image reading unit using two-dimensional sensor array | |
KR920010921B1 (ko) | 이미지 센서(Image Sensor) | |
US4233506A (en) | Photo-sensor | |
US4659920A (en) | Image sensor arrays with series redundancy | |
US4634883A (en) | Image sensor comprising a plurality of photosensors and switches | |
JPH06291935A (ja) | 完全密着型イメージセンサ | |
JPS62185367A (ja) | 画像読み取り装置 | |
JPS628951B2 (ja) | ||
US20070278486A1 (en) | Scanning Head for Optical Position-Measuring Systems | |
JP2769812B2 (ja) | 原稿読み取り装置 | |
JPS62209850A (ja) | 画像読み取り装置 | |
JPS62198987A (ja) | 画像読み取り装置 | |
JPH07301730A (ja) | 導波路型縮小イメージセンサ | |
JPS6317554A (ja) | 光導電装置 | |
JP4244125B2 (ja) | 光電式エンコーダ | |
JPH01108765A (ja) | 密着型イメージセンサ作製方法 | |
JPH0617323Y2 (ja) | 完全密着型イメ−ジセンサ | |
JP2639664B2 (ja) | 光電変換素子 | |
JP2639663B2 (ja) | 光電変換素子 | |
JP2511315Y2 (ja) | 光源一体型イメ―ジセンサ | |
JPS62139481A (ja) | 光学像情報対電気信号変換装置 | |
JPH0510450Y2 (ja) | ||
JPH02230862A (ja) | 画像読取装置 | |
JP2573342B2 (ja) | 受光素子 | |
JPS62142353A (ja) | 直接読取り型イメ−ジセンサの製造方法 |