JPS62183888A - フロス分離装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は化学原料等の粒体のガス輸送ラインに−３いて
、粒体に混入しているフロス（薄いテープ状フィルムや
粉体）を分離するための装置に関づる。

（従来の技術） 一般にポリエヂレン等合成樹脂の粒子を空気輸送する場
合、１１！擦熱により管壁向に粒子が融着し、これがテ
ープ状に剥離してフィルムが形成される。

又、管壁面に人工的な凹凸が形成されている場合等にお
いては、摩耗粉が形成される。これらフィルムや摩耗粉
は商品価値をＦげるだけではなく、絡みあって「毛玉」
状となり、ホッパーからの粒子の排出が困難になる場合
がある。又摩耗粉については使用方法により粉体公害等
の問題を生じさせることがある。そのために輸送段階に
おいてテープ状フィルムや粉体（以下単に「フロス」と
呼ぶ）を分離する必要があり、そのための装置として次
のような装置が既に提案されている。

１なわち、実公昭５５−６４３２号では、下向きに空気
輸送される粉粒体に対して横方向から分離用の空気を噴
出させ、フロスを側方へ除去するようにした装置が提案
されている。ところが、ここで開示されている考案は、
自由落下中の粉体と混在しているフロスを浮遊速度の差
を利用して分離しようとＪるらのＣ１エアーカーテンの
流速を、フ［１スの浮遊速度以上でかつ粒体の浮Ｍ速度
を大幅に下回った値に設定するものである。Ｊ：って浮
遊達磨の差の小ざい物質を分！！１（分級）する場合に
は分離効率は低く、又、テープ状フィルムについては分
離部では浮遊状態にあるため、毛玉になりやずく、Ｘ！
ＪＭがふえて流体の排出口へ混入することにより分離効
率が低下する欠点がある。

又特開昭５８−１３３８７８号では、下向きに空気輸送
される粉粒体に対して下方から分離用の空気を噴出させ
、フロスを上方へ除去するようにした装置が提案されて
いる。ところがこの発明においては、上記自由落下によ
る分離方式の効率をより向上させるために、粒体をガス
流により輸送し、２次ガスとの相対速度差を利用してい
るが、分級と分離が同一場所で行なわれているため、せ
っかく分離したものが上から連続的に落下してくる粉体
に巻き込まれて、再混合される機会を有しているため、
分離効率が低下する欠点がある。

以上の理由により、これらの装置ではいずれもフ［］ス
を充分に除去することが難しい。

なお上記以外の先行技術文献としては特公昭５４−１６
６２６号、特開昭５１−８００６３号、特公昭５ａ−１
１２６４号、実公昭５４−２５０９６号があるが、これ
らに記載された装置でも上記従来例と同様に、フロスを
充分に除去することが難しい。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は、ガス輸送システム等に使用されるフロス分離
方法及び装置において、フロスの分離効率が低いという
従来の問題点を解決しようとするものである。

（問題点を解決するための手段） 本発明は、２次ガス及び３次ガスを利用してフロスを効
果的に分離しようとするもので、筒状壁部を有する閉鎖
構造のホッパーを上下に延びる姿勢で配置し、ホッパー
の中心部に上下に延びる管状構造体を配置し、小ツバ−
壁部と管状構造体の間に環状断面の通路用空間を形成し
、該通路用空間により、上側から順に、粒体流下部、フ
ロス分離部、粒体排出通路を形成し、ホッパー上端部の
空間により粒体分散部を形成し、１次ガスにより粒体を
輸送づる粒体輸送通路の出口を粒体分散部の中央部に連
通させ、上記出口と対向する位置に衝突板を設け、粒体
流下部の上端を粒体分散部の外周部に連通ざゼ、粒体排
出通路の外周に隔壁構造体を設け、隔壁構造体の外側に
フロス排出用の環状フロス通路を形成し、フロス通路の
上端をフロス分離部の外周に連通させ、上記管状構造体
の内部に２次ガス通路を形成し、フ［ｌス分離部に而す
る部分において管状構造体に複数の２次ガス噴出口を該
構造体の全周に分散させて設け、上記隔壁１Ｍ造体を中
空構造にして内部に３次ガス室を形成し、３次ガス室と
粒体排出通路の間の隔壁に複数の３次ガス噴出口を該隔
壁の全周に分散させで設け、粒体排出通路の下部出口を
ガスの流通を概ね遮断した状態で粒体を排出できる粒体
排出機構に接続したことを特徴としている。

又実施例によると、上記環状構造体を外管と内管を有す
る２重管構造体で形成し、上記内管の内部空間により粒
体輸送通路を形成し、内管の上端間１］により粒体輸送
通路の上記出口を形成し、内管と外管の間の環状断面の
空間により上記２次ガス通路を形成している。

（作用） フ［１スの混入し／＝粉粒体１次ガスにより粒体輸送通
路を輸送され、該通路の出口から粒体分散部の中央部に
流出する。

この流出した粒体は衝突板に衝突して分散部の外周部へ
均等に分散し、分散部から粒体流下部の上端へ流入する
。

粒体は環状断面の粒体流下部を全周にわたって均等に分
散した状態で流下し、その間に整流化されて筒状の膜状
流（流速：約１０〜３０１／Ｓ　）となり、その状態で
フロス分離部へ流入する。

ここで第４図の説明図に示すように、フロス分離部にお
いて、粒体流下部の直近部では、前記の膜状流に直交す
るように、内周側に形成された多数の２次ガス噴出口か
ら横向きに２次ガスが高速（８０〜２！ｉｏｎ／ｓ）で
噴出しており、又、下方の粒体排出通路からは、３次ガ
スが粒体の淫遊速度以下の達磨（３〜７ｍ／ｓ）で上向
きに吹き上げている。

このような２次ガス及び３次ガスの流れに対し、フロス
分離部へ流入した粒体は、慣性力をと６なった加速状態
にあるため、そのまま横向きの２次ガス流及び上向きの
３次ガス流を突扱けて下方の粒体排出通路へ流出する。

一方、フロスは、（質量が小さく）慣性力が小さいため
、フロス分離部へ流入するとただちに、横向きに噴出す
る高速の２次ガス流により外周側へ吹き飛ばされ、その
まま１次ガス、２次ガス及び３次ガスの合流した外周方
向への気流に乗って、フロス通路へと流出する。

フロス通路へ流出したフロスはフロス通路を経て外部へ
排出され、一方、粒体排出通路に流入した粒体は、粒体
排出機構を通って排出される。

上記粒体排出ｎＷ！は、ガスの流通を概ね遮断している
ので、前記２次ガスや３次ガスが該機構を通って外部に
流出することを防止でき、前述の如く半径方面外向きの
２次ガス流及び上向きの３次ガス流を確実に形成するこ
とができる。

（実施例） 垂直断面略図である第１図において、ホッパー１は概ね
筒状の壁部２を備えており、全体として垂直方向に長く
延びている。壁部２は上Ｗ！３、中間壁４、下壁５なら
びに隔壁構造体６等で構成されている。

上壁３は小径で、上端が衝突板７により１！１鎖されて
おり、下端部８がテーパ状に拡開して中間壁４の上端に
連結されている。中間壁４は大径で、下端の内向き７ラ
ンジ状の下端部９の内周が隔壁構造体６の上下方向中間
部の外周まで延びている。

隔壁構造体６は筒状の外壁１０と内壁１１等を備えた中
空構造であり、内壁１１の下端が下壁５の上端に連続（
又は接続）している。下壁５は傾斜テーバ状の上部１５
と、斜め下方へ一定直径で延びる中間部１６と、垂直下
向ぎに延びる下部１７とを備えている。下部１７の下端
はロータリバルブ１８（粒体排出機構）に接続している
。ロータリパルプ１８はガスの流通を概ね遮断し、粒体
のみを排出できるようになっている。

ホッパー１の内部には、はぼその全長にわたって管状構
造体２０が垂直に配置しである。管状構造体２０は上壁
３や中間ｖ１４と同芯に延びており、上端が衝突板７の
下方近傍に位置している。管状構造体２０の下部は下壁
土部１５を貫通して下方へ突出している。管状構造体２
０は外管２１と内管２２を有する２ｍ管であり、内管２
２の内部に粒体輸送通路２３が形成され、外管２１と内
管２２の間に２次ガス通路２４が形成されている。粒体
輸送通路２３はその下端の入口が外部の粒体供給通路（
図示せず）に接続している。２次ガス通路２４は外管２
１の下部に設けた継手管２５を介して外部の２次ガス供
給通路（図示せず）に接続している。

粒体輸送通路２３上端の出口２８は分散部２９に連通し
ている。分散部２９は環状構造体２０の上端と衝突板７
の間の空間で形成されており、外周部が粒体流下部３０
の上端に連通している。粒体流下部３０は上壁３と外管
２１の間の環状断面の空間で形成されている。粒体流下
部３０は全周にわたって一定の半径方向幅かつ仝良にわ
たって一定の断面積で真直ぐに延びており、下端がフロ
ス分離部３１に連通しでいる。

フロス分離部３１は上壁３のテーバ状下端部８と隔壁構
造体６の上端との間の空間で形成されており、粒体流下
部３０よりも半径方向外方へ広がっている。前記中間壁
４と隔壁構造体６の外壁１０の間には環状のフロス通路
３２が形成されている。フロス分離部３１の外周部はフ
ロス通路３２の上端に連通している。

又フロス分離部３１の下端は、隔壁構造体６の内壁１１
と前記外管２１との間及び下壁５の内部に形成されてい
る粒体排出通路３４に連通している。なお内壁１１の直
径は前記上壁３の直径よりも若干大きい。

前記フロス分離部３１に面した部分の外管２１において
、粒体流Ｆ部直近部には４段のスリット又は細孔等から
なる多数の２次ガス噴出口３９が全面にわたって形成し
である。

中間壁４の下半部には半径方向外方へ突出したフ１コス
排出管４０が設けである。フロス排出管４０の内部のフ
ロス排出通路４１は一端がフロス通路３２に連通し、他
端が外部のフロス排出通路（ｌｉＸｌ示せず）に接続し
ている。

隔壁構造体６の外壁１０と内！１１の間の環状断面の空
間は３次ガス室４２を形成している。３次ガス室４２は
下半部が通路４３を介して外部の３次ガス供給通路（図
示せず）に接続している。

通路４３は、外壁１０の下半部から半径方向外方へ突出
した管継手４４により形成されている。内壁１１の下部
にはスリット又は細孔等からなる多数の３次ガス噴出口
４５が全周にわたって形成しである。

第１図のＩ−Ｉ矢視略図である第２図の如く、フロス排
出管４０はホッパー１の直径方向に対向する２箇所に設
番プである。３次ガス用の管継手４４は、ホッパー１の
直径方向に対向する２１所、かつフロス排出管４０に対
して９０度の角度間隔を隔てた位置に設けである。

次に実施例の装置の作用を説明する。

フロスＦの混入した粒体Ｇは１次ガスＱ１（例えば空気
）により粒体輸送通路２３に下方から供給され、粒体輸
送通路２３を上昇して出口２８から分散部２９へ流出し
、衝突板７に衝突して分散部２９の外周部へ分散する。

このようにして分散した粒体ＧやフロスＦは粒体流下部
３０に流入してフロス分離部３１に達する。

しかるに２次ガス通路２４には外部から２次ガスＱ２（
空気）が供給されており、フロス分離部３１において、
粒体流下部３０の直近部に形成された多数の２次ガス噴
出口３９から横向きに高速で放射状に噴出している。又
、３次ガス室４２には、外部から３次ガスＱ３（空気）
が通路４３を経て供給されており、３次ガス噴出口４５
から粒体排出通路３４へ放射状かつ半径方向内向きに噴
出した後、該通路３４を粒体Ｇの浮遊速度以下の速度で
上向きに吹き上げている。

従って、上’＞’／ｆ＝の如くフロス分離部３１へ流入
したフロスＦは、ただちに横向きに噴出する高速の２次
ガス流により外周側へ吹き飛ばされ、そのまま１次ガス
、２次ガス及び３次ガスの合流した外周方向への気流に
乗ってフロス通路３２へ流出する。

一方、フロス分離部３１へ流下した粒体Ｇは、慣性力を
もった加速状態にあるため、そのまま横向きの２次ガス
流及び上向きの３次ガス流を突抜けて、ド方の粒体排出
通路３４へ流出し、その後ロータリーパルプ１８から外
部通路又は外部容器へ送られる。

上述の如くフロス通路３２へ流入したフロスＦはフロス
排出通路４１から外部の集囚機等（図示ゼず）へ回収さ
れる。又１コータリパルプ１８はホッパ−１内部のガス
がロータリバルブ１８を通って外部に流出することを防
止するので、前述の如く２次ガスＱ２の半径方向外向き
の流れ及び３次ガスＱ３の上向きの流れを確実に形成す
ることができる。

上記動作において、粒体輸送通路２３は一定の断面積で
真直ぐに長く延びている。従って、仮に粒体Ｇ及びフロ
スにが粒体輸送通路２３の下部入口に不均一な分布状態
で流入しても、粒体輸送通路２３を流れる間にその分布
密度は均一化される。

従って、衝突板７に衝突した粒体Ｇ及びフロスＦは均等
に分散した状態で粒体流下部３０へ流入する。又粒体流
下部３０は一定の断面積で真直ぐに延びているので、粒
体Ｇ及びフロストは粒体流下部３０を流下する問に整流
化される。従って粒体Ｇ及びフロスＦは分布密度の均一
な筒状の膜状流となってフロス分離部３１へ流入する。

２次ガスＱ２の噴出口３９は、フロス分離部３１の内周
側全周に多数のスリット又は細孔等で形成されているた
め。その供給通路２４は均圧室となり、２次ガスＱ２は
全周から均一かつ放射状に噴出する。

又、３次ガスＱ３についても、３次ガス室４２が均圧室
となり、粒体排出通路２３の外周側全周に形成された多
数の噴出口から全周均一に放射状かつ半径方向内向きに
噴出する。しかも粒体排出通路２３の下部はロータリー
バルブによりエアー［１ツクされているので、３次ガス
Ｑ３は、概ね均一な流量で粒体排出通路２３を吹き上げ
る。これらの結果により、フロスＦは、フロス分離部全
周にわたり、均一に効率良く粒体Ｇから分離されること
ができる。

更に第２図の如く、通路４３は３次ガス室４２の円周方
向に間隔を隔てた複数箇所（図示の実施例では２箇所）
に設番プであるので、１箇所だけから３次ガス室４２ヘ
ガスを供給する場合に比べ、３次ガス室４２での圧力の
均一化を促進できる。

更に図示の実施例では、フロス排出通路４１もフロス通
路３２の円周方向にＩＮ隔を隔°Ｃた２＠所に設けであ
るので、フロス通路３２の全周にわたってフロスＦを効
率良く排出することができ、フロス通路３２の一部分に
フロスＦが滞留することを防止できる。従ってフロス通
路３２内のフ［１スＦがフロス分離部３１へ逆流するこ
とはない。

（発明の効果） 以上説明したように本発明によると、２次ガスＱ２及び
３次ガスＱ３を利用してフロスＦを効率良く分離するこ
とができる。特に本発明によると、前述の如く、粒体流
の均一・整流化ならびに２次ガス流及び３次ガス流の均
一化を促進できるので、フロス分離効果を充分に高める
ことができる。

更に、ホッパー１を円筒構造にし、粒体流下部３０やフ
ロス分離部３１等を円筒状に形成したので、粒体流ド部
３０やフロス分離部３１を平板状に形成する場合に比べ
ると、全体の寸法が同一の場合（本発明の円筒状ホッパ
ー１の直径と本発明以外の偏平なホッパーの幅が同一の
場合）、粒体流下部３０の断面積やフロス分離部３１の
表面面１ｆｉ（２次ガス噴出口３９に面する面の面積）
を大きくでき、装置の処理能力を高めることができる。

換言すれば、処理能力が同一の場合、本発明の方が装置
の寸法を小ざくすることができる。

（別の実施例） 第３図の如く、管状構造体２０の上端を衝突板７ａによ
り開鎖し、衝突板７ａに向けてホッパー１の上端に粒体
輸送通路２３の出口２８を下向きに形成することもでき
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明実施例の垂直断面略図、第２図は第１図
のＩ−ｎ矢視略図、第３図は別の実施例の垂直断面略図
、第４図はフロス分離部でのガスの流れを説明する垂直
断面略図である。１・・・ホッパー、２・・・壁部、６
・・・隔壁構造体、７・・・衝突板、１８・・・０−タ
リバルブ（粒体排出機構）、２０・・・管状構造体、２
３・・・粒体輸送通路、２４・・・２次ガス通路、２８
・・・粒体輸送通路、２９・・・粒体分散部、３０・・
・粒体流下部、３２・・・フロス通路、３４・・・粒体
Ｕｔ出通路、３９・・・２次ガス噴出口、４１・・・フ
ロス排出通路、４２・・・３次ガス室、４５・・・３次
ガス噴出口

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）筒状壁部を有する閉鎖構造のホッパーを上下に延
   びる姿勢で配置し、ホッパーの中心部に上下に延びる管
   状構造体を配置し、ホッパー壁部と管状構造体の間に環
   状断面の通路用空間を形成し、該通路用空間により、上
   側から順に、粒体流下部、フロス分離部、粒体排出通路
   を形成し、ホッパー上端部の空間により粒体分散部を形
   成し、１次ガスにより粒体を輸送する粒体輸送通路の出
   口を粒体分散部の中央部に連通させ、上記出口と対向す
   る位置に衝突板を設け、粒体流下部の上端を粒体分散部
   の外周部に連通させ、粒体排出通路の外周に隔壁構造体
   を設け、隔壁構造体の外側にフロス排出用の環状フロス
   通路を形成し、フロス通路の上端をフロス分離部の外周
   に連通させ、上記管状構造体の内部に２次ガス通路を形
   成し、フロス分離部に面する部分において管状構造体に
   複数の２次ガス噴出口を該構造体の全周に分散させて設
   け、上記隔壁構造体を中空構造にして内部に３次ガス室
   を形成し、３次ガス室と粒体排出通路の間の隔壁に複数
   の３次ガス噴出口を該隔壁の全周に分散させて設け、粒
   体排出通路の下部出口をガスの流通を概ね遮断した状態
   で粒体を排出できる粒体排出機構に接続したことを特徴
   とするフロス分離装置。
2. （２）上記環状構造体を外管と内管を有する２重管構造
   体で形成し、上記内管の内部空間により粒体輸送通路を
   形成し、内管の上端開口により粒体輸送通路の上記出口
   を形成し、内管と外管の間の環状断面の空間により上記
   ２次ガス通路を形成したことを特徴とする特許請求の範
   囲第１項に記載のフロス分離装置。