JPS62176141A - Waver carrier elevator apparatus - Google Patents
Waver carrier elevator apparatusInfo
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- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims abstract description 86
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 30
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000000428 dust Substances 0.000 abstract description 8
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は発塵による悪影響を防止したウェハキャリアエ
レベータ装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a wafer carrier elevator apparatus that prevents the adverse effects of dust generation.
一般に半導体装置の製造工種においては、ウェハは箱状
のウェハキャリアなどに収容されて取扱われている。こ
れは例えば第５図に示すように、対向した一対の測板（
１） 、 ＴＩ）を設け、これらの対向内壁に支持溝（
２）、・・・を刻設して構成され、これらの間にウェハ
（３）、・・・を挿入支持させて、多数のウェハ（３）
、・・・を離間した状態で積層して貯蔵している。そし
て例えば加工装置にウェハ（３）、・・・を供給する場
合は、これを加工装置ｌの供給部に装着してウェハ（３
）を下から一枚ずつ取出し、加工部に搬送するようにな
っている。この＋ｉＡは開放された下面に設けられた搬
送コンベア（５）に乗せて取出され、一枚が取出される
と、１ピツチずつウェハキャリア（６）全体を下降させ
、間けつ駆動される搬送コンベア（５）により順次下段
から供給して行くようになっている。Generally, in the manufacturing process of semiconductor devices, wafers are handled while being housed in box-shaped wafer carriers. For example, as shown in Figure 5, a pair of opposing measuring plates (
1), TI) are provided, and support grooves (
2),... are carved, and wafers (3),... are inserted and supported between these to form a large number of wafers (3).
, ... are stacked and stored in a spaced state. For example, when supplying wafers (3),...
) are taken out one by one from the bottom and transported to the processing section. This +iA is placed on a transport conveyor (5) provided on the open bottom surface and taken out. When one wafer is taken out, the entire wafer carrier (6) is lowered one pitch at a time, and the transport conveyor is driven intermittently. According to (5), the water is supplied sequentially from the lower stage.
ｔた、ウエノ・）３）をウエノ・キャリア（６）に収容
する場合は、反対に１枚のウエノ・（３）が収容される
ｌｆｆ１Ｋ１ピツチずつウエノ・キャリア（６）を上昇
させて多数のウェー（３）を収容するようＫなっている
。When storing Ueno (3) in the Ueno carrier (6), conversely, the Ueno carrier (6) is raised one pitch at a time to accommodate one Ueno (3). K is designed to accommodate way (3).
さて、ウェハキャリア（６）を１ピツチずつ上昇させる
には一般にキャリアエレベータ装置が使用されている。Now, a carrier elevator device is generally used to raise the wafer carrier (6) one pitch at a time.
これは第６図、第７図に示すように、外部に対し固定し
て設けられたベース体αυに一対の支持体（１ｙ 、
ｕ３を離間対向して設けて、ＩＪ ニアガイドＱ３ 、
ｔ１３１を支持立設し、また、支持体Ｕ、３．１．１
７Ｊの間に上部のみ図示した中央支持体０をベース体、
■から立設して送りねじ体（１５１を回転自在に支持し
ている。そしてこの送りねじ体−に嵌合するナツト体部
と、リニアガイド冒１３） 、 （ｌ濁に移動自在に嵌
合したリニアガイドホルダ（１，７） 、 ａＴＪとが
固定はれた板状のキャリアステージｌが設けられている
っさらにまたベース体σＤの下側にはモータ１２１）、
歯車列のなどからなる。駆動手段のが取付けられていて
こればより送りねじ体■が回転すると、キャリアステー
ジα＆が上昇、下降する。さらにまた中間支持体■には
搬送コンベア（至）、（２ｅが取付けられている。As shown in Figs. 6 and 7, this is a base body αυ fixedly provided to the outside, and a pair of supports (1y, 1y,
IJ near guide Q3,
t131 is supported and erected, and the support U, 3.1.1
Between 7J and 7J, the central support body 0 whose upper part is only shown is a base body,
The feed screw body (151) is erected from (1) and rotatably supported.The nut body that fits into this feed screw body (151) and the linear guide (13), (151) are fitted so as to be freely movable. A linear guide holder (1, 7), a plate-shaped carrier stage l to which aTJ is fixed is provided, and furthermore, a motor 121) is provided below the base body σD.
It consists of a gear train, etc. The drive means is attached, and when the feed screw body (2) rotates, the carrier stage α& is raised and lowered. Furthermore, a conveyor (to) and (2e) are attached to the intermediate support (2).
次に使用状態につき説明すると、ウェハキャリア（６）
１１：１′キヤリアステージａｅ上に載置して使用する
。Next, to explain the usage condition, wafer carrier (6)
11:1' Used by placing it on carrier stage ae.
第５図はウェハキャリア（６）が順次上昇してウェハ（
３）を上段から収容する場合であり、第６図は最上位に
あって収容が終った状態であり、また同時にウェハキャ
リア（６）が順次下降してウェハ（３）が下段から搬出
される場合の最初の状態でもある。いま第５図において
、コンベア四により１枚のウェハ（３）が搬送されて来
て、支持溝（２）に支持でれると、駆動手段のにより、
送りねじ体（１９が所定量回転して１ピツチだけウェハ
キャリア（６）は上昇する。このようにして全支持溝（
２）、・・・にウェハ（３）が収容さ火
れると、ウェハキャリア（６）は尖換される。また反対
に第６図に示すように、ウェハキャリア（６）からウェ
ハ（３）を搬出する場合は、ウェハキャリア（６）は最
上位に１１かれて順次１ピツチずつ下降して、下からウ
ェハ（３）が搬出されて行く。Figure 5 shows that the wafer carrier (6) is raised sequentially and the wafer (
3) is accommodated from the upper stage, and Fig. 6 shows the state in which the wafer carrier (6) is at the top level and has been accommodated, and at the same time, the wafer carrier (6) is sequentially lowered and the wafer (3) is carried out from the lower stage. It is also the initial state of the case. Now, in FIG. 5, when one wafer (3) is conveyed by the conveyor 4 and is supported by the support groove (2), the driving means causes
The feed screw body (19) rotates by a predetermined amount and the wafer carrier (6) rises by one pitch. In this way, all the support grooves (
2) When the wafers (3) are stored in and fired, the wafer carrier (6) is sharpened. On the other hand, as shown in FIG. 6, when the wafer (3) is to be unloaded from the wafer carrier (6), the wafer carrier (6) is placed at the top and is lowered one pitch at a time, and the wafer is removed from the bottom. (3) is being carried out.
ところで、上述した従来のものは、送りねじ体ｑ５）は
上下方向の移動が拘束された伏、侭で回転するようにな
っているので、キャリアステージＧ槌が上下動し、ウェ
ハキャリア（６）は下降につれて送りねじ体（１５）や
リニアガイドｆ１．（と対向するようになり、内部に収
容されているウェハ（３）も同様にこれら昇降機構に順
次対向する。このためウェハ（３）はこれら機構からの
塵埃に常にさらされている不都合があった。By the way, in the conventional device described above, the feed screw body q5) rotates in the upside down position with its vertical movement restricted, so the carrier stage G mallet moves up and down, and the wafer carrier (6) As it descends, the feed screw body (15) and the linear guide f1. (The wafers (3) housed inside also face these elevating and lowering mechanisms one after another. Therefore, the wafers (3) are always exposed to dust from these mechanisms, which is disadvantageous. Ta.
本発明は上述の不都合を除去するためになされたもので
、ウェハキャリアのウェハが昇降機構からの塵埃にさら
されるのを防止したウェハキャリアエレベータ装置を提
供することを目的とする。The present invention has been made to eliminate the above-mentioned disadvantages, and an object of the present invention is to provide a wafer carrier elevator apparatus that prevents wafers in a wafer carrier from being exposed to dust from the lifting mechanism.
本発明はウェハキャリアを載置するキャリアステージを
最上部に設け、これと離間して下方にベース体を設けて
エレベータ本体を構成し、これにエレベータ本体を外部
に対して昇降させる昇降機構を設けて構成したものでエ
レベータ本体と共にウェハキャリアが昇降するようにす
るとともに、昇降機構をキャリアステージよシ下方のエ
レベータ本体に設けて一諸に昇降させてウェハキャリア
内のウェハが昇降機構に対向しないようくし、昇降機構
からの塵埃がウェハに付着するのを防止したものである
。In the present invention, a carrier stage on which a wafer carrier is placed is provided at the top, a base body is provided below apart from this to constitute an elevator main body, and this is provided with a lifting mechanism for raising and lowering the elevator main body with respect to the outside. The wafer carrier is configured to move up and down together with the elevator main body, and an elevating mechanism is provided in the elevator main body below the carrier stage so that the wafer carrier is raised and lowered all at once so that the wafers in the wafer carrier do not face the elevating mechanism. This prevents dust from the comb and lifting mechanism from adhering to the wafer.
以下、本発明の詳細を第１図なめし第３図に示す一実施
例によシ説明する。なおウェハキャリアは前述のものと
同様である。本実施例はエレベータ本体Ｇυと、昇降機
構国と、検出手段鰻とから構成されている。エレベータ
本体３υを説明すると、（至）は上部に設けられたキャ
リアステージで、ｆ方に４個の結合部材前、・・・を介
して板状のベース体μｓを一体的に設けて構成されてい
る。キャリアステージ（ト）は上面がウェハキャリア（
６）を載置する載置面一になっていて、四隅にウェハキ
ャリア（６）の位置決めをするＬ字状の位置決め金具Ｌ
４１） 、 山が取付けられている。また、ウェハ（３
）を搬出する方向には前方切欠きｊ４２が形成されてい
て、破線で示す搬送コンベア（４りが入り込むようにな
っており、これの後方に後方切欠き（４４）が形成され
ていて、後述する検出手段−が突出設置されるよう釦な
っており、ざらにｔ−た後述する昇降機構国の取付は部
になっている。下方のベース体間は矩形板状部材からな
っていて、表裏面は載置面Ｃ３！ｊに平行になっていて
、昇降機構ｃ３つの取付は部になっている。The details of the present invention will be explained below with reference to an embodiment shown in FIG. 1 and FIG. 3. Note that the wafer carrier is the same as that described above. This embodiment is composed of an elevator main body Gυ, a lifting mechanism, and a detection means. To explain the elevator main body 3υ, (to) is a carrier stage provided at the top, and is constructed by integrally providing a plate-shaped base body μs in front of four coupling members in the f direction. ing. The carrier stage (G) has a wafer carrier (
L-shaped positioning metal fittings L that position the wafer carrier (6) on the four corners and are flush with the mounting surface on which the wafer carrier (6) is placed.
41), the mountain is attached. Also, wafer (3
) is formed in the direction in which the conveyor (4) is carried out, into which the transport conveyor (4) shown by the broken line enters, and a rear notch (44) is formed behind this, which will be described later. There is a button so that the detecting means for detecting the detection is installed protrudingly, and the lifting mechanism, which will be briefly described later, is attached at the bottom. The back surface is parallel to the mounting surface C3!j, and the three elevating mechanisms C are attached at the same time.
次に昇降機構Ｃ３２を説明する。（４ツは送りねじ体で
上端部はキャリアステージ鰻に回転自在に支持され、下
端部はベース俸給に回転自在に支持されて上下方向に延
在して設けられている。またこれと平行に一対の棒状の
案内体ｉ４Ｇ 、 １４Ｅ９が両端をキャリアステージ
（３６）、ベース体側にそれぞれ固定されて設けられて
いて、この案内体＋４６） 、 ｂｔｕに移動自在に嵌
合した移動案内体（４！３ 、 （４つ、送りねじ体（
４りに嵌合したナツト体１５Ｇがそれぞれ固定された固
定体５１）が外部に固定されて設けられている。さらに
またベース体（至）の裏面には、駆動手段ａが設けられ
ているっこれはモータ秀と、歯車列間と、図示しないフ
劾回路などからなっていて、モータ６９の回転は歯１列
置により送りねじ体（４９に伝えられるようになってい
る。Next, the elevating mechanism C32 will be explained. (The four are feed screw bodies, whose upper end is rotatably supported by the carrier stage eel, and whose lower end is rotatably supported by the base and extends vertically.Also, parallel to this A pair of rod-shaped guide bodies i4G and 14E9 are provided with both ends fixed to the carrier stage (36) and the base body, respectively, and the movable guide body (4! 3, (4, feed screw body (
A fixed body 51) to which the nut bodies 15G fitted in the four holes are respectively fixed is provided and fixed to the outside. Furthermore, a driving means a is provided on the back side of the base body (toward). This consists of a motor shaft, a gear train, a feed circuit (not shown), etc., and the rotation of the motor 69 is controlled by the teeth Due to the arrangement, it is transmitted to the feed screw body (49).
次に検出手段１３３につき説明する。これは上述の固定
体ｃｉ１）に取付けられていて、第４図に示すように、
ウェハキャリア（６）に収容されたウェハ（３）に対向
した投光体（発光ダイオード）６υと受光体（ＣｄＳ）
口と図示しない検出回路などから構成されていて電気信
号を発するようになっていて、ウェハ（３）が所定位置
にないときは反射光（２）は受光せず、電気信号は送出
されない。Next, the detection means 133 will be explained. This is attached to the above-mentioned fixed body ci1), and as shown in Fig. 4,
A light emitter (light emitting diode) 6υ and a light receiver (CdS) facing the wafer (3) housed in the wafer carrier (6)
It is composed of a port and a detection circuit (not shown) and is designed to emit an electrical signal. When the wafer (3) is not in a predetermined position, the reflected light (2) is not received and no electrical signal is sent out.
４）ＩＩ
次に上述の実ｍ料の作動につき説明する。いま第２図に
示す状態すなわち、ウェハ（３）が収容されたウェハキ
ャリア（６）が最上位にあ）、順次搬出される場合で、
最下位置のウェハ（３）が搬送コンベア（４３の上にあ
る。外部指令、例えば図示しないウェハ加工装置からの
信号によυ、搬送コンベア４ｊが走行して、最下位のウ
ェハ（３）が搬出されると、直ち罠駆動手段５４）のモ
ータ（ト）が始動して送りねじ体（４つが回転する。固
定体ｌ！５１）は外部に固定されているので、ナツト体
６１は上下動せず送りねじ体（４９が下降するのでエレ
ベータ本体６１）が下降を始める。これ【よりウェハキ
ャリア（６）も下降し、次のウェハ（３）が所定の位置
に来るまで、すなわち検出手段（至）によりウェハ（３
）が検出されて停止信号が出るまで下降し、検出信号に
よりモータＩ５！９が停止して、次のウェハ（３）が搬
送コンベア（４３上に乗った状態でエレベータ本体３υ
は下降を停止する。これを繰返して、第３図の状態にな
るが、ウェハ（３）は常に昇降機構国の上部に位置して
昇降機構曽に対向することはない。4) II Next, the operation of the above-mentioned real charge will be explained. In the state shown in FIG. 2, the wafer carrier (6) containing the wafers (3) is at the top) and is being carried out one by one.
The wafer (3) at the lowest position is on the conveyor (43). According to an external command, for example, a signal from a wafer processing device (not shown), the conveyor 4j runs, and the wafer (3) at the lowest position is placed on the conveyor (43). Immediately after being carried out, the motor (g) of the trap drive means 54) starts, and the feed screw bodies (four of them rotate.Fixed body l!51) are fixed outside, so the nut body 61 can be moved up and down. Without moving, the feed screw body (49 descends, so the elevator main body 61) begins to descend. As a result, the wafer carrier (6) also descends until the next wafer (3) comes to a predetermined position, that is, the detection means (to) detects the wafer (3).
) is detected and a stop signal is issued, the motor I5!9 is stopped by the detection signal, and the next wafer (3) is placed on the conveyor (43) and moved down to the elevator main body 3υ
stops descending. This is repeated until the state shown in FIG. 3 is reached, but the wafer (3) is always located above the lifting mechanism and never faces the lifting mechanism.
反対に第３図に示すようにウェハキャリア（６）が最下
位にあって、ウェハキャリヤ（６）が空の場合は上述と
反対に最上段の支持溝（２）にウェハ（３）が搬入され
ると、１ピツチだけウェハキャリア（６）が上昇して順
次ウェハ（３）が収容されて行く。これは上述の場合と
反対に作動するだけなので説明を省略するが、この場合
もウェハ（３）は昇降機４ｐｔｅａに対向することはな
い。On the other hand, as shown in Fig. 3, if the wafer carrier (6) is at the lowest position and is empty, the wafer (3) is carried into the uppermost support groove (2), contrary to the above. When the wafer carrier (6) is moved up by one pitch, the wafers (3) are sequentially accommodated. This operation is simply the opposite of the above case, so the explanation will be omitted, but in this case as well, the wafer (3) does not face the elevator 4ptea.
なお本実施例においては昇降機構を送りねじ体とナツト
体とで構成したが、これに限定されずラチェット機構、
歯車機構やベルト、チェーン機構など所定のピッチ上Ｆ
動させる機構ならよい。またベース体は板状に限定され
ず、種々な形状に形成したものでも・よい。In this embodiment, the elevating mechanism is composed of a feed screw body and a nut body, but it is not limited to this, and a ratchet mechanism,
Above the specified pitch F for gear mechanisms, belts, chain mechanisms, etc.
Any mechanism that moves it is fine. Further, the base body is not limited to a plate shape, and may be formed in various shapes.
以上詳述したように、本発明のウェハキャリアエレベー
タ装置は、最上部にウェハキャリアを載置スルエレベー
タ本体を設け、このエレベータ本体に昇降機構を設けて
、ウェハキャリアとともにエレベータ本体を昇降するよ
うに構成したので、エレベータ本体に取付けられた昇降
機構は常例ウェハキャリアより下方にあってウェハキャ
リア内のウェハに対向することがないから昇降機構の発
塵にさらされることがない。またクリーンルーム内のよ
うにダウン７０−の環境において！″ｉ塵は常に下方に
流されるので一層つエバの汚染防止に効果を奏する。As detailed above, the wafer carrier elevator apparatus of the present invention is provided with an elevator main body on which a wafer carrier is placed at the top, and a lifting mechanism is provided in this elevator main body so that the elevator main body is raised and lowered together with the wafer carrier. With this structure, the elevating mechanism attached to the elevator main body is normally located below the wafer carrier and does not face the wafer in the wafer carrier, so it is not exposed to dust generated by the elevating mechanism. Also in a down 70-degree environment like in a clean room! Since the dust is always swept downward, it is even more effective in preventing contamination of the evaporator.
第１図は本発明の一実施例の斜視図、第２図および第３
図は同じく作＃Ｊ説明図、第４図は同じく要部正面図、
第５図は本実施例および従来例において使用したウェハ
キャリアの斜視図、第６図および第７図は従来例の作動
を説明する構成図である。
（３）・・・ウェハ、 （６）・・・ウェハキャリア
、（３１）・・・エレベータ本体、 ６２・・・昇降機
構、（至）・・・キャリアステージ、 （至）・・・ベ
ース体、ｔａ・・・送りねじ体、 −・・・案内体、（
４ト・・移動案内体、 ■・・・ナツト体、らυ・・・
固定体、 （財）・・・駆動手段。
代理人 弁理士 則 近 憲 佑
同 竹 花 喜久男
第１Ｒ
第６図 第７Ｉ２１
１− −ｍFIG. 1 is a perspective view of one embodiment of the present invention, FIG. 2 and FIG.
The figure is also an explanatory diagram of work #J, and Figure 4 is a front view of the main parts.
FIG. 5 is a perspective view of a wafer carrier used in this embodiment and the conventional example, and FIGS. 6 and 7 are configuration diagrams explaining the operation of the conventional example. (3)...Wafer, (6)...Wafer carrier, (31)...Elevator body, 62...Elevating mechanism, (To)...Carrier stage, (To)...Base body , ta...Feed screw body, -...Guide body, (
4...Moving guide body, ■...Natsuto body, raυ...
Fixed body (goods)...driving means. Agent Patent Attorney Nori Ken Yudo Takehana Kikuo 1st R Figure 6 Figure 7I21 1- -m
Claims (2)
リアステージを上端部に設けこれの下方にこれと離間し
てベース体を一体的に設けたエレベータ本体と、上記エ
レベータ本体に設けられて外部に対し上記エレベータ本
体を昇降させる昇降機構とを具備したことを特徴とする
ウェハキャリアエレベータ装置。(1) An elevator main body with a carrier stage on the upper end on which a wafer carrier containing wafers is placed, and a base body integrally provided below the carrier stage apart from the carrier stage; On the other hand, a wafer carrier elevator apparatus comprising a lifting mechanism for lifting and lowering the elevator main body.
ベース体にそれぞれ回転自在に支持された送りねじ体と
、この送りねじ体に平行に設けられて上端部が上記キャ
リアステージに下端部が上記ベース体にそれぞれ取付け
られた案内体と、外部に固定されて上記キャリアステー
ジおよび上記ベース体の間に設けられた固定体と、この
固定体に取付けられて上記送りねじ体に嵌合したナット
体と、上記固定体に取付けられて上記案内体に移動自在
に嵌合した移動案内体と、上記ベース体に設けられて上
記送りねじ体を回転させる駆動手段とを具備したことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のウェハキャリア
エレベータ装置。(2) The elevating mechanism includes a feed screw body whose upper end is rotatably supported by the carrier stage and its lower end is rotatably supported by the base body. A guide body attached to each of the base bodies, a fixed body fixed to the outside and provided between the carrier stage and the base body, and a nut attached to the fixed body and fitted to the feed screw body. A movable guide body attached to the fixed body and movably fitted to the guide body, and a driving means provided on the base body for rotating the feed screw body. A wafer carrier elevator apparatus according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1681686A JPS62176141A (en) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | Waver carrier elevator apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1681686A JPS62176141A (en) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | Waver carrier elevator apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62176141A true JPS62176141A (en) | 1987-08-01 |
Family
ID=11926695
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1681686A Pending JPS62176141A (en) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | Waver carrier elevator apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62176141A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01125844A (en) * | 1987-11-10 | 1989-05-18 | Tokyo Electron Ltd | Probe device |
| CN104229433A (en) * | 2013-06-19 | 2014-12-24 | 苏州矽微电子科技有限公司 | Semiconductor lead frame feeding device |
-
1986
- 1986-01-30 JP JP1681686A patent/JPS62176141A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01125844A (en) * | 1987-11-10 | 1989-05-18 | Tokyo Electron Ltd | Probe device |
| CN104229433A (en) * | 2013-06-19 | 2014-12-24 | 苏州矽微电子科技有限公司 | Semiconductor lead frame feeding device |
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