JPH01125844A - Probe device - Google Patents

Probe device

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JPH01125844A
JPH01125844A JP62284005A JP28400587A JPH01125844A JP H01125844 A JPH01125844 A JP H01125844A JP 62284005 A JP62284005 A JP 62284005A JP 28400587 A JP28400587 A JP 28400587A JP H01125844 A JPH01125844 A JP H01125844A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
carrier
measurement
shelf
wafers
Prior art date
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Pending
Application number
JP62284005A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Abe
祐一 阿部
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
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Publication of JPH01125844A publication Critical patent/JPH01125844A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make possible a continuous and automatic measurement using a probing device for a longer time and to contrive the improvement of productivity by a method wherein carriers provided in a stocker, in which a plurality of the carriers are housed, are installed at a previously set carrier installing position. CONSTITUTION:Each carrier placing shelf 6 is descended at a point of time when the measurement of wafers 2 on the lowest stage of the carrier placing shelf 6 ends and the central stage of the carrier placing shelf 6 is installed at a height position where wafers 2 can be carried-out and carried-in by a vacuum pincette 10 located at a previously set height position. Here, the measurement of wafers 2 housed in wafer carriers 5 placed on this central stage of the shelf 6 is again repeated, each shelf 6 is again descended at a point of time when the measurement of the wafers 2 on the central stage of the shelf 6 ends, the upper stage of the cassette placing shelf 6 is installed at the prescribed position and the measurement of wafers 2 is executed. By enabling a multitude of the wafer carriers 5 to house in a probing devide in such a way, a long time continuous measurement in the probing device becomes possible.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 (産業上の利用分野) この発明は、プローブ装置に関する。[Detailed description of the invention] [Purpose of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a probe device.

(従来の技術) プローブ装置は、被測定体例えば半導体ウェハに多数形
成されたICチップの夫々の電気的特性を測定し、不良
と判定されたICチップをアセンブリ工程の前で排除す
ることにより、コストダウンや生産性の向上に寄与させ
るための装置である。
(Prior Art) A probe device measures the electrical characteristics of each of a large number of IC chips formed on an object to be measured, such as a semiconductor wafer, and eliminates IC chips determined to be defective before the assembly process. This is a device that contributes to cost reduction and productivity improvement.

近年、高集積化および高速化された高性能ICチップの
需要が増加している。このことに対応して高性能ICチ
ップを測定するプローブ装置も対策が必要である。特に
プローブ測定において、連続自動測定を長時間する必要
がある。このプローブ連続自動測定は、通常ウェハ25
枚を1キヤリアに収納して、最高4キャリア程度につい
て行なわれ、この4キヤリアの測定が終了すると、オペ
レータがマニュアルでキャリア交換を行なっていた。
In recent years, demand for high-performance IC chips with higher integration and higher speed has increased. Corresponding to this, probe devices that measure high-performance IC chips must also take measures. Particularly in probe measurements, it is necessary to perform continuous automatic measurements for a long time. This continuous automatic probe measurement is usually performed on 25 wafers.
The measurement was carried out on a maximum of four carriers, with the sheets stored in one carrier, and after the measurement of these four carriers was completed, the operator manually replaced the carriers.

(発明が解決しようとする問題点) このためオペレータによる動作が繁雑となり、オペレー
タから塵が大量に発生し、半導体製造工程における無人
化および無塵化に相反するもので、品質および歩留りの
向上は望めず、しいては、生産性の低下を招く恐れがあ
った。
(Problems to be solved by the invention) As a result, operations by the operator become complicated and a large amount of dust is generated by the operator, which is contradictory to unmanned and dust-free semiconductor manufacturing processes, and improves quality and yield. This could lead to a decrease in productivity.

この発明は、上記点に対処してなされたもので、プロー
ブ装置による連続自動測定を長時間可能とし、生産性の
向上を得ることを可能とするプローブ装置を提供するも
のである。
The present invention has been made in response to the above-mentioned problems, and provides a probe device that enables continuous automatic measurement using the probe device over a long period of time and improves productivity.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

(問題点を解決するための手段) この発明は、予め定められた位置に設けられたキャリア
から被測定体を測定部に搬送し測定するプローブ装置に
おいて、上記キャリアが複数収納されたストッカに設け
られた各キャリアを上記予め定められたキャリアを設置
する位置に設置する手段を具備したことを特徴とするプ
ローブ装置を得るものである。
(Means for Solving the Problems) The present invention provides a probe device that transports and measures an object to be measured from a carrier provided at a predetermined position to a measuring section, in which a plurality of carriers are provided in a stocker in which a plurality of carriers are stored. The present invention provides a probe device characterized in that it is equipped with means for installing each of the carriers at the predetermined carrier positions.

(作用効果) キャリアが複数収納されたストッカに設けられた各キャ
リアを予め定められたキャリアを設置する位置に設置す
るようにしたことにより、プローブ装置による連続自動
測定をより長時間可能とし、生産性の向上を得ることを
可能とする効果が得られる。
(Effect) By installing each carrier provided in a stocker containing multiple carriers at a predetermined position for installing a carrier, continuous automatic measurement using the probe device can be performed for a longer period of time, and production can be improved. The effect of making it possible to improve sexual performance can be obtained.

(実施例) 次に本発明プローブ装置の一実施例を図面を参照して説
明する。
(Embodiment) Next, an embodiment of the probe device of the present invention will be described with reference to the drawings.

このプローブ装置ωは、第3図に示すように。This probe device ω is as shown in FIG.

被測定体例えば半導体ウェハ■を収納するウェハストッ
カ■と、このストッカ■から搬送された半導体ウェハ■
を正確にアライメントし、電気特性試験を行なう測定部
(イ)から構成されている。上記ウェハ収納部であるウ
ェハストッカ0には、第1図に示すように、多数のウェ
ハキャリア0が収納されている。各ウェハキャリア■に
は、第4図に示すように、半導体ウェハ■を板厚方向に
所定の間隔を設けて平行に例えば25枚縦列状に収納可
能とされている。このように半導体ウェハ■が多数収納
されたウェハキャリア■は、第1図に示すように長方形
状の板状体からなるキャリア載置棚■に載置されている
。この載置は、ウェハキャリア■のウェハ■の搬出入方
向側を前向きとして、横一列に所定の間隔を設けて例え
ば4カセツト載置されている。又、キャリア載置棚(へ
)のキャリア■載置位置には、図示しないマイクロスイ
ッチがネジ止め等で取付けられていて、ウェハキャリア
■が所定の位置に載置されると、マイクロスイッチがオ
ンするので、これによりキャリア載置棚0上の所定の位
置にウェハキャリア■が載置されていることを確実に検
出することが可能となる。尚、ここでウェハキャリア0
の上面および下面の形状を非対称に構成し、なおかつ下
面両端部においても非対称に構成すると、ウェハキャリ
ア■の下部に設けられた端部■がマイクロスイッチ上に
設置された時のみマイクロスイッチがオンし、下面の他
端および上面ではマイクロスイッチがオンしないように
設定可能である。mち、キャリア載置棚0上のウェハキ
ャリア■Φ単純な方向を簡単に検出可能とされている。
A wafer stocker ■ that stores objects to be measured, such as semiconductor wafers ■, and semiconductor wafers transported from this stocker ■
It consists of a measuring section (a) that accurately aligns the electrical characteristics and tests the electrical characteristics. As shown in FIG. 1, a large number of wafer carriers 0 are stored in the wafer stocker 0, which is the wafer storage section. As shown in FIG. 4, each wafer carrier (2) can accommodate, for example, 25 semiconductor wafers (25) in tandem in parallel with predetermined intervals in the thickness direction. The wafer carrier (2) in which a large number of semiconductor wafers (2) are stored in this manner is placed on a carrier mounting shelf (2) made of a rectangular plate-like body, as shown in FIG. For example, four cassettes are placed in a horizontal row at predetermined intervals, with the wafer carrier (2) facing forward in the loading/unloading direction of the wafers (4). In addition, a microswitch (not shown) is attached to the carrier ■ placement position of the carrier placement shelf (to) with screws, etc., and when the wafer carrier ■ is placed in a predetermined position, the microswitch is turned on. Therefore, it becomes possible to reliably detect that the wafer carrier (2) is placed at a predetermined position on the carrier placement shelf 0. In addition, here wafer carrier 0
If the top and bottom surfaces are configured asymmetrically, and both ends of the bottom surface are also configured asymmetrically, the microswitch will turn on only when the edge ■ provided at the bottom of the wafer carrier ■ is placed on the microswitch. , the microswitch can be set so as not to turn on at the other end of the bottom surface and the top surface. It is possible to easily detect the simple direction of the wafer carrier ■Φ on the carrier mounting shelf 0.

上記のようにマイクロスイッチが取付けられ、ウェハキ
ャリア■が4キヤリア載置可能なキャリア載tameは
、図示しないモータに係合された回転軸(8)により、
両端部が保持されている。この回転軸(8)には、複数
例えば3つのキャリア載置棚0が所定の間隔を設けて縦
列状に平行に保持可能とされている。又、各キャリア載
置棚■の四角には、ガイド軸(9)が設けられ、キャリ
ア載5!棚0が平行は保たれている。ここで図示しない
モータを正逆方向に選択的に駆動させることにより、各
キャリア載置棚0は同期して上下方向に昇降動作が行な
われる。このことにより、各キャリア載置棚(0は、所
望した高さ位置に設置可能とされている。上記のように
構成されたストッカ■から被測定体である半導体ウェハ
■を測定部(イ)に搬送する。この搬送において、ウェ
ハキャリア■に多数収納された半導体ウェハ■を一枚づ
つ搬出入するための搬出入機構例えばバキュームピンセ
ット(10)が設けられている。このバキュームピンセ
ット(10)は、第2図に示すようにウェハキャリア■
のウェハ■搬出入面に対し、ウェハ■と平行にスライド
移動可能である。さらに、バキュームピンセット(10
)上面先端部のウェハ■載置面には、バキューム孔が設
けられている。又バキュームピンセット(10)は、上
下方向に移動可能な昇降機構に取付けられている。上記
バキュームピンセット(10)で搬出されたウェハ■は
、予備位置決めをするためのプリアライメントステージ
(11)上に載置される。このプリアライメントステー
ジ(11)のウェハ■載置面には、バキューム孔が設け
られていて、ウェハ■載置面の中心を軸として回転可能
とされている。ここでウェハ■を回転させた時に、ウェ
ハ■の周縁等を検出するために、レーザ光を使用したセ
ンサ例えばフォトインタラプタが設けられている。予備
位置決めされたウェハ■は、搬送機構例えば回転アーム
等で測定部(イ)のウェハ載置台(12)に搬送される
。このウェハ載置台(12)のウェハ■載置面には、ウ
ェハ■を真空吸着するためのバキューム孔が設けられて
いる。又、X方向・Y方向・Z方向・回転方向に移動可
能である。又ウェハ載置台(12)の移動範囲内には、
ウェハ■を正確に位置決めするためにアライメント部が
設けられており、このアライメント部には、レーザによ
る認識機構又は、CODカメラを用いたパターン認i機
構が設置されている。又、ウェハ載置台(12)の予め
定められた位置の上方向には、ブロービングカード(1
3)が設置されている。このブロービングカード(13
)には、多数のプローブ針(14)が装着されている。
As mentioned above, the carrier mounting tame on which the microswitch is attached and on which four wafer carriers can be mounted is rotated by a rotating shaft (8) engaged with a motor (not shown).
Both ends are held. A plurality of carrier mounting shelves 0, for example, three carrier mounting shelves 0, can be held in parallel in a vertical column at a predetermined interval on this rotating shaft (8). In addition, a guide shaft (9) is provided in the square of each carrier mounting shelf (■), and the carrier mounting shelf 5! Shelf 0 remains parallel. By selectively driving a motor (not shown) in the forward and reverse directions, each carrier mounting shelf 0 is synchronously moved up and down in the up and down direction. As a result, each carrier mounting shelf (0) can be installed at a desired height position.The semiconductor wafer (i), which is the object to be measured, is transferred from the stocker (i) configured as described above to the measurement unit (a). During this transportation, a loading/unloading mechanism such as a vacuum tweezers (10) is provided for loading/unloading a large number of semiconductor wafers (1) stored in the wafer carrier (1) one by one.The vacuum tweezers (10) , as shown in Figure 2, the wafer carrier ■
It is possible to slide parallel to the wafer ■ on the wafer loading/unloading surface. In addition, vacuum tweezers (10
) A vacuum hole is provided on the wafer placement surface at the tip of the top surface. Further, the vacuum tweezers (10) are attached to a lifting mechanism that is movable in the vertical direction. The wafer (1) carried out by the vacuum tweezers (10) is placed on a pre-alignment stage (11) for preliminary positioning. A vacuum hole is provided in the wafer placement surface of this pre-alignment stage (11), and the pre-alignment stage (11) is rotatable about the center of the wafer placement surface. Here, a sensor using laser light, such as a photointerrupter, is provided to detect the peripheral edge of wafer (2) when the wafer (2) is rotated. The pre-positioned wafer (2) is transported to the wafer mounting table (12) of the measuring section (A) by a transport mechanism such as a rotating arm. The wafer mounting surface (12) of the wafer mounting table (12) is provided with a vacuum hole for vacuum suctioning the wafer (2). Furthermore, it is movable in the X direction, Y direction, Z direction, and rotational direction. Also, within the movement range of the wafer mounting table (12),
An alignment section is provided to accurately position the wafer (2), and this alignment section is equipped with a recognition mechanism using a laser or a pattern recognition mechanism using a COD camera. Further, above a predetermined position of the wafer mounting table (12), a blobbing card (1
3) is installed. This broving card (13
) is equipped with a large number of probe needles (14).

この各プローブ針(14)の先端配列パターンは、測定
対象品種ウェハ■に形成されたICチップの電極パッド
配列パターンに対応した位置に、夫々絶縁状態で装着さ
れている。上記のようなブロービングカード(13)の
上方向には、顕微鏡(15)又はTVカメラが設置され
ている。この顕微鏡(I5)を監視しなから、図示しな
いジョイスティック等を操作することにより、ウェハ載
置台(12)の移動を微調整し1例えばブロービングカ
ード(13)に装着された各プローブ針(14)とIC
チップの電極パッド配列パターンの位置合わせ等の測定
動作をティーチングし、このティーチングした内容を、
プローブ装置に内蔵されたメモリ機構に記憶させる。
The tip arrangement pattern of each of the probe needles (14) is installed in an insulated state at a position corresponding to the electrode pad arrangement pattern of the IC chip formed on the wafer (1) of the type to be measured. A microscope (15) or a TV camera is installed above the blobbing card (13) as described above. While monitoring this microscope (I5), the movement of the wafer mounting table (12) is finely adjusted by operating a joystick or the like (not shown). ) and IC
We teach measurement operations such as positioning the electrode pad arrangement pattern of the chip, and then use the taught contents to
The information is stored in a memory mechanism built into the probe device.

次に上述したプローブ装置■の動作作用を説明する。Next, the operation of the above-mentioned probe device (2) will be explained.

まず、ストッカ■に設けられた各カセット載置棚0の予
め定められた位置に、被測定体である半導体ウェハ■が
例えば25枚収納されているウェハキャリア■を、夫々
4キヤリアづつ載置する。この載置は、オペレータがマ
ニュアル動作で行なうか又は、FA対応オートメーショ
ンシステムなどのロボット等により行なっても良い。こ
の時、各ウェハキャリア■が、正確な位置に載置された
かの判断は、予め定められた位置に設けられたマイクロ
スイッチにより検出することが可能である。ここで、各
キャリア載置棚0に、所定のウェハキャリア0の載置が
終了した時点で、このことをプローブ装置(1)に内蔵
されているCPUに合図する。この合図は、オペレータ
がマニュアル操作しても良いが、上記マイクロスイッチ
からの信号を解析制御して自動的に合図することが望ま
しい。次に予め定められたカセット載置棚■例えば最下
段のカセット載置棚0を所定の高さ位置に設置する。即
ち、バキュームピンセット(10)でウェハ■を搬出入
可能な高さ位置に設置する。この設置は、図示しないモ
ータを正逆方向に選択的に駆動させ、各ガイド軸(9)
でカセット載置棚0の平行を保ちなから、モータに係合
している回転軸により、各キャリア載置棚0を同期して
昇降動作させて設置する。
First, four wafer carriers ■ each containing, for example, 25 semiconductor wafers ■, which are objects to be measured, are placed on predetermined positions of each cassette mounting shelf 0 provided in the stocker ■. . This placement may be performed manually by an operator, or by a robot such as an automation system compatible with FA. At this time, it is possible to determine whether each wafer carrier (2) has been placed at an accurate position by using a microswitch provided at a predetermined position. Here, when a predetermined wafer carrier 0 has been placed on each carrier placement shelf 0, this is signaled to the CPU built in the probe device (1). Although this signal may be manually operated by the operator, it is preferable that the signal from the microswitch is analyzed and controlled to automatically signal. Next, a predetermined cassette mounting shelf (eg, the lowest cassette mounting shelf 0) is installed at a predetermined height position. That is, the wafer (1) is placed at a height position where it can be carried in and out using vacuum tweezers (10). In this installation, a motor (not shown) is selectively driven in the forward and reverse directions, and each guide shaft (9)
While maintaining the parallelism of the cassette mounting shelves 0, each carrier mounting shelf 0 is moved up and down synchronously by a rotary shaft engaged with a motor to install it.

次にキャリア載置棚■に11置され予め定められた位置
のウェハキャリア■から被測定体である半導体ウェハ■
を測定部(イ)に搬送する。この搬送は、ストッカ■内
に収納され、予め定められたウェハキャリア■に多数収
納された所定の半導体ウェハ■の裏面の間隙に、搬出入
機構例えばバキュームピンセット(lO)を挿入する。
Next, the semiconductor wafer ■ which is the object to be measured is placed on the carrier mounting shelf ■ from the wafer carrier ■ at a predetermined position.
is transported to the measuring section (a). This transportation is carried out by inserting a loading/unloading mechanism, such as vacuum tweezers (lO), into a gap on the back surface of a predetermined number of semiconductor wafers (2) stored in a stocker (1) and stored in a predetermined number of wafer carriers (2).

ここでバキュームピンセット(10)を上昇させるか又
は、ウェハキャリア0を下降させて、半導体ウェハ■の
裏面をバキュームピンセット(10)の上面に設けらた
バキューム孔により真空吸着する。バキュームピンセッ
ト(10)上に固定されたウェハ■をバキュームピンセ
ット(lO)をスライドさせて搬出し、予備位置決めす
るためのプリアライメントステージ(11)上に載置す
る。載置されたウェハ■は、プリアライメントステージ
(11)に真空吸着固定された後、プリアライメントス
テージ(11)を例えば360°回転し、レーザにより
ウェハ■のオリエンテーションフラット等を検出する。
Here, the vacuum tweezers (10) are raised or the wafer carrier 0 is lowered, and the back surface of the semiconductor wafer (1) is vacuum-adsorbed by the vacuum hole provided on the upper surface of the vacuum tweezers (10). The wafer (1) fixed on the vacuum tweezers (10) is carried out by sliding the vacuum tweezers (10) and placed on the pre-alignment stage (11) for preliminary positioning. The placed wafer (2) is fixed to the pre-alignment stage (11) by vacuum suction, and then the pre-alignment stage (11) is rotated, for example, by 360 degrees, and the orientation flat etc. of the wafer (2) is detected by a laser.

このようにプリアライメントステージ(11)で精度±
1°位まで予11アライメントした後に、搬送機構例え
ば回転アーム等で測定部に)のウェハ載置台(12)に
a[する。このウェハ載置台(12)は、X方向・Y方
向・Z方向・回転方向に移動可能であり、ウェハ■を真
空吸着固定した後に、アライメント部に設けられたレー
ザ認識機構又は、  CODカメラを用いたパターン認
識機構により、ウェハ■のスクライブライン等を基準と
して正確にアライメントする。このアライメント後、ウ
ェハ載置台(12)を移動して、ブロービングカード(
13)下方向の対向位置にウェハ■を設置する。即ち、
半導体ウェハ■には、ICチップが多数規則的に形成さ
れていて、予め定められた位置に形成されたICチップ
が、ブロービングカード(13)のプローブ針(14)
の先端位置に設置されている。
In this way, the pre-alignment stage (11) can improve the accuracy by ±
After preliminary alignment up to about 1°, the wafer is placed on the wafer mounting table (12) of the measuring section using a transport mechanism such as a rotating arm. This wafer mounting table (12) is movable in the X direction, Y direction, Z direction, and rotational direction, and after fixing the wafer by vacuum suction, it is moved using the laser recognition mechanism provided in the alignment section or the COD camera. Accurate alignment is achieved using the wafer's scribe line etc. as a reference using the pattern recognition mechanism. After this alignment, move the wafer mounting table (12) and move the blobbing card (
13) Place the wafer (■) in a downward facing position. That is,
A large number of IC chips are regularly formed on the semiconductor wafer (2), and the IC chips formed at predetermined positions are attached to the probe needle (14) of the blobbing card (13).
It is installed at the tip of the

この時、ICチップの電極パッド配列パターンとブロー
ビングカード(13)のプローブ針(14)配列パター
ンは上記ティーチング動作により位置合わせされている
。次にウェハ■とブロービングカード(13)が近接す
る如く相対的に上下方向に移動する。
At this time, the electrode pad arrangement pattern of the IC chip and the probe needle (14) arrangement pattern of the probing card (13) are aligned by the above teaching operation. Next, the wafer (1) and the blobbing card (13) are moved relative to each other in the vertical direction so that they approach each other.

例えばウェハ■を載置したウェハ載置台(12)を上昇
させて各プローブ針(14)をウェハ■に形成されたI
Cチップの電極パッドに当接させる。ここで電極パッド
に被覆した酸化膜を破壊する目的でさらにウェハ■を連
続動作で上昇させる。即ちオーバードライブを例えば6
0〜100μmかけ、プローブ針(14)で酸化膜を破
壊し、各電極パッドと各プローブ針(I4)を電気的に
接続し導通可能とする。この接続状態で、テスタから出
力されたテスト信号をICチップの入力電極に接続した
プローブ針(14)より印加し、このことにより発生す
る電気的信号をICチップの出力電極に接続したプロー
ブ針(14)からテスタに出力し、テスタで期待される
信号と比較して半導体チップの良否やレベルを判定する
For example, the wafer mounting table (12) on which the wafer ■ is placed is raised, and each probe needle (14) is attached to the I formed on the wafer ■.
Bring it into contact with the electrode pad of the C chip. Here, the wafer (2) is further raised in a continuous motion for the purpose of destroying the oxide film coated on the electrode pad. In other words, set the overdrive to 6, for example.
The probe needle (14) is used to destroy the oxide film over a thickness of 0 to 100 μm, and each electrode pad and each probe needle (I4) are electrically connected to each other to enable conduction. In this connection state, the test signal output from the tester is applied through the probe needle (14) connected to the input electrode of the IC chip, and the electrical signal generated thereby is applied to the probe needle (14) connected to the output electrode of the IC chip. 14) is output to a tester and compared with the expected signal by the tester to determine the quality and level of the semiconductor chip.

上記のような接続測定動作を繰返し、ウェハ■に形成さ
れた全てのICチップの測定を実行する。
The connection measurement operation as described above is repeated to measure all the IC chips formed on the wafer (2).

測定が終了したウェハ■は、各搬送機構によりウェハキ
ャリア■のもとの位置に搬送する。このように各ウェハ
■の測定動作を繰返し、最下段のキャリア載置tll 
(69に載置した各ウェハキャリア■に収納したウェハ
■の測定動作を行なう。この最下段のキャリア載置棚0
におけるウェハ■の測定が終了した時点で、各キャリア
載置棚0を下降して。
After the measurement, the wafer (2) is transported to its original position on the wafer carrier (2) by each transport mechanism. Repeat the measurement operation for each wafer in this way, and place the carrier on the bottom tll.
(Measurement operation is performed for the wafers ■ stored in each wafer carrier ■ placed on the wafer carrier ■69.
When the measurement of wafer (3) is completed, each carrier mounting shelf 0 is lowered.

中段のキャリア載置棚(0が予め定められた高さ位置で
あるバキュームピンセット(10)でウェハ■を搬出入
可能な高さ位置に設置する。ここで再び。
Using the vacuum tweezers (10), where 0 is a predetermined height position, place the wafer 2 at a height position where it can be carried in and out.Here again.

この中段のキャリア載置棚0に載置したウェハ゛そヤリ
ア■に収納されたウェハ■の測定を、上記同様に繰返し
、中段のキャリア載置棚0におけるウェハ■の測定が終
了した時点で、再び各キャリア載置棚■を下降して、上
段のカセット載置棚0を所定の位置に設置し、ウェハ■
の測定を実施する。
The measurement of the wafer ■ stored in the wafer carrier ■ placed on the middle carrier shelf 0 is repeated in the same manner as above, and when the measurement of the wafer ■ on the middle carrier shelf 0 is completed, the measurement is repeated again. Lower each carrier mounting shelf ■, set the upper cassette mounting shelf 0 in the predetermined position, and place the wafer
Measurements will be carried out.

上述したようにプローブ装置に多数のウェハキャリアを
収納可能としたことにより、プローブ装置における長時
間連続測定を可能とし、工場内における無人化システム
にも対応可能とする。
As described above, by making it possible to store a large number of wafer carriers in the probe device, the probe device can perform long-term continuous measurements, and can also be used in an unmanned system within a factory.

この発明は、上記実施例に限定するものではなく、プロ
ーブ装置に被測定体を収納したキャリアを多数設置でき
るものなら何れでも良い。例えば第5図に示す構成のス
トッカ(16)をプローブ装置に設置しても良い。この
ストッカ(16)において、ウェハを収納したウェハキ
ャリア(17)を例えば4キヤリア載置可能なL字状の
キャリア載置棚(18)の予め定められた位置に載置す
る。このキャリア載置棚(18)の両側面には、夫々支
持部(19)が、縦方向に所定の間隔を設けて2個設け
られている。
The present invention is not limited to the above-mentioned embodiments, but any probe device may be used as long as a large number of carriers containing objects to be measured can be installed in the probe device. For example, a stocker (16) having the configuration shown in FIG. 5 may be installed in the probe device. In this stocker (16), a wafer carrier (17) containing wafers is placed at a predetermined position on an L-shaped carrier placement shelf (18) on which, for example, four carriers can be placed. Two supporting parts (19) are provided on both sides of the carrier mounting shelf (18) at a predetermined interval in the vertical direction.

この各支持部(19)で、キャリア載置棚(18)の両
側面において、夫々長方形外枠よりなるガイドレール(
20)の予め定められた位置に夫々嵌合する。
At each support part (19), on both sides of the carrier mounting shelf (18), guide rails (
20) respectively fit into the predetermined positions.

このことにより、キャリア載置m(18)は、その位置
に平行に保持される。又ガイドレール(20)には。
As a result, the carrier mounting m (18) is held parallel to that position. Also on the guide rail (20).

複数例えば4個のキャリア載置棚(18)が設置可能で
ある。ここでガイドレール(20)に係合したモータ(
21)によりガイドレール(20)を移動して、各キャ
リア載置棚(18)をガイドレール(20)に沿って移
動させて、所定のキャリア載置棚(18)を予め定めら
れた位置に設置する。即ち、所定のキャリア載置棚(1
8)に載置されたウェハキャリア(17)から、被測定
体であるウェハを搬出入可能な位置にこのキャリア載置
棚(18)を設置する。次にウェハキャリア(17)か
らウェハをバキュームピンセット(22)等で搬出し、
上記実施例と同様なプローブ測定動作を繰返し実行する
。又このキャリア載置棚(18)におけるすべてのウェ
ハの測定を終了後、各キャリア載置棚(18)をガイド
レールに沿って移動させ。
A plurality of carrier mounting shelves (18), for example four, can be installed. Here, the motor (
21) moves the guide rail (20), moves each carrier mounting shelf (18) along the guide rail (20), and places a predetermined carrier mounting shelf (18) at a predetermined position. Install. That is, a predetermined carrier mounting shelf (1
The carrier mounting shelf (18) is installed at a position where a wafer, which is an object to be measured, can be carried in and out from the wafer carrier (17) mounted on the carrier (17). Next, remove the wafer from the wafer carrier (17) using vacuum tweezers (22), etc.
Probe measurement operations similar to those in the above embodiment are repeatedly performed. After completing the measurement of all wafers on this carrier mounting shelf (18), each carrier mounting shelf (18) is moved along the guide rail.

所定の位置に他のキャリア載置棚(18)を設置する。Another carrier mounting shelf (18) is installed at a predetermined position.

上記のような動作を繰返し行なうことにより、プローブ
装置における長時間連続自動測定が可能となる。
By repeating the above operations, it becomes possible to perform continuous automatic measurements over a long period of time with the probe device.

さらに、プローブ装置に設置する他のストッカの例とし
ては、例えば保持棒を中心に円板状のキャリアa置棚を
複数所定の間隔を設けて積設する。
Furthermore, as another example of a stocker installed in the probe device, for example, a plurality of disc-shaped carrier a storage shelves are stacked at predetermined intervals around a holding rod.

この各キャリア載置棚の所定の位置に、ウェハキャリア
を搬出入面を外側に向けて、円形状に載置する。ここで
保持棒をモータ等により回転して、各ウェハキャリアを
所定の位置に設置可能な構成としても良い。
The wafer carriers are placed in a circular shape at a predetermined position on each carrier mounting shelf with the loading/unloading surface facing outward. Here, the holding rod may be rotated by a motor or the like so that each wafer carrier can be installed at a predetermined position.

ざらに又、ストッカに収納されたキャリアをロボットア
ーム等により所定の位置に搬送し、この搬送されたキャ
リアからウェハを測定部に搬送するようにしても良い。
Alternatively, the carrier stored in the stocker may be transported to a predetermined position by a robot arm or the like, and the wafer may be transported from this transported carrier to the measurement section.

又、キャリアを複数同時でなくとも、一つづつ所定の位
置に設置しても良い6 上記各ストッカの実施例において、駆動系はモータとし
ていたが、シリンダ等を駆動系に使用しても良く、又ス
トッカ内にタウンフローをかけてエアを流通させて、無
塵化をより推進させることが可能となる。
Also, it is not necessary to install multiple carriers at the same time, but one by one may be installed at a predetermined position.6 In the above embodiments of each stocker, the drive system is a motor, but a cylinder or the like may also be used as the drive system. Also, by applying a town flow to circulate air within the stocker, it becomes possible to further promote dust-free operation.

さらに、プローブ装置の測定部構成も何れのものでも良
く、例えば不良ICチップにインク等のマークを付加す
るマーキング専用プローバであっても良い。このマーキ
ング専用プローバは、処理時間が速いので、多数の被測
定体が収納可能となると効果は非常に大きなものとなる
Further, the measuring section of the probe device may have any configuration, and may be a marking-only prober that adds marks such as ink to defective IC chips, for example. Since this marking-only prober has a fast processing time, the effect becomes very large when a large number of objects to be measured can be accommodated.

さらに又、バキュームピンセットでウェハを搬出入可能
な高さ位置に、順次ウェハキャリアを横スライドさせて
設置し、未検査ウェハを収納したキャリアと、検査済の
キャリアとを所定位置で入れ換えるような構成にしても
かまわない。この場合ウェハを搬出入する位置は一定で
あり、キャリアを1個づつ入れ換えれば良いのでストッ
カは小型となる。
Furthermore, the configuration is such that the wafer carriers are sequentially slid horizontally and installed at a height position where wafers can be carried in and out using vacuum tweezers, and the carrier containing uninspected wafers and the inspected carrier are exchanged at a predetermined position. It doesn't matter if you do it. In this case, the position at which the wafers are loaded and unloaded is constant, and carriers can be replaced one by one, so the stocker can be made smaller.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を説明するためのストッカの
図、第2図は第1図のスl−ツカに載置されたウェハキ
ャリアからウェハを搬出する説明図。 第3図は第1図のストッカを設置したプローブ装置の図
、第4図は第1図のストッカに収納されたウェハキャリ
アの図、第5図は第1図の他の実施例を説明するための
図である。 1・・・プローブ装置  3・・・ストッカ5・・・ウ
ェハキャリア 6・・・キャリア載置棚8・・・回転軸
     9・・・ガイド軸特許出願人 東京エレクト
ロン株式会社第1図 真 2 図 第3図 第4図 第5図 (A)
FIG. 1 is a diagram of a stocker for explaining one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an explanatory diagram of unloading a wafer from a wafer carrier placed on the stocker of FIG. 1. 3 is a diagram of a probe device equipped with the stocker of FIG. 1, FIG. 4 is a diagram of a wafer carrier stored in the stocker of FIG. 1, and FIG. 5 explains another embodiment of FIG. 1. This is a diagram for 1... Probe device 3... Stocker 5... Wafer carrier 6... Carrier mounting shelf 8... Rotating shaft 9... Guide shaft Patent applicant Tokyo Electron Ltd. Figure 1 True 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 (A)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)予め定められた位置に設けられたキャリアから被
測定体を測定部に搬送し測定するプローブ装置において
、上記キャリアが複数収納されたストッカに設けられた
各キャリアを上記予め定められたキャリアを設置する位
置に設置する手段を具備したことを特徴とするプローブ
装置。
(1) In a probe device that transports an object to be measured from a carrier provided at a predetermined position to a measurement section for measurement, each carrier provided in a stocker in which a plurality of the carriers are stored is transferred to the predetermined carrier. A probe device characterized by comprising means for installing the probe at a position where the probe is installed.
(2)キャリアを載置した載置板を上下方向に移動して
、キャリアを予め定められた設置する位置に設置するこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のプローブ装
置。
(2) The probe device according to claim 1, wherein the carrier is placed at a predetermined position by moving the placement plate on which the carrier is placed in the vertical direction.
(3)予め定められたキャリアを設置する位置にキャリ
アを1つづつ設置することを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載のプローブ装置。
(3) The probe device according to claim 1, wherein the carriers are installed one by one at predetermined carrier installation positions.
JP62284005A 1987-11-10 1987-11-10 Probe device Pending JPH01125844A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6131052A (en) * 1996-10-08 2000-10-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor manufacturing non-processing apparatuses with storage equipment

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