JPS62175651A - Icp分析方法 - Google Patents
Icp分析方法Info
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- JPS62175651A JPS62175651A JP1844386A JP1844386A JPS62175651A JP S62175651 A JPS62175651 A JP S62175651A JP 1844386 A JP1844386 A JP 1844386A JP 1844386 A JP1844386 A JP 1844386A JP S62175651 A JPS62175651 A JP S62175651A
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- 239000000443 aerosol Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 30
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、ICP(高周波誘導結合プラズマ)分析方法
に係り、とくには、プラズマトーチに供給される高周波
電力のインピーダンスの整合方法に関する。
に係り、とくには、プラズマトーチに供給される高周波
電力のインピーダンスの整合方法に関する。
(ロ)従来技術とその問題点
一般に、ICP分析装置は、プラズマトーチに設けられ
た誘導コイルに同軸ケーブルを介して高周波電力を供給
することで高周波磁界を発生し、この高周波磁界の時間
変化によって生じる電界でプラズマトーチに導入される
ガスを電離し、これによって試料を含むエアロゾルをプ
ラズマ発光させて試料の分析を行なう。
た誘導コイルに同軸ケーブルを介して高周波電力を供給
することで高周波磁界を発生し、この高周波磁界の時間
変化によって生じる電界でプラズマトーチに導入される
ガスを電離し、これによって試料を含むエアロゾルをプ
ラズマ発光させて試料の分析を行なう。
このようにICP分析装置では、誘導コイルに高周波電
力を供給する関係上、高周波電源とプラズマの負荷との
インピーダンスを整合させる必要がある。すなわち、イ
ンピーダンス整合か不十分であると、反射損が生じて負
荷に電力を効率良く供給することができなくなる。しか
も、反射波が最小値でないと、負荷側にドリフトが生じ
た場合には反射率が大幅に変動してプラズマ炎が不安定
になるなどの不具合を生じる。
力を供給する関係上、高周波電源とプラズマの負荷との
インピーダンスを整合させる必要がある。すなわち、イ
ンピーダンス整合か不十分であると、反射損が生じて負
荷に電力を効率良く供給することができなくなる。しか
も、反射波が最小値でないと、負荷側にドリフトが生じ
た場合には反射率が大幅に変動してプラズマ炎が不安定
になるなどの不具合を生じる。
このため、従来は、第3図に示すように、プラズマトー
チAに設けた誘導コイルBと高周波電源りとの間に複数
の可変容竜コンデンザC1、Ctを備えたマッヂングボ
ックスEと、高周波電源りから供給される電圧電流の位
相差を検出する位相検出器Fとを設け、位相検出器Fか
ら出力される位相差信号をモータMに与え、位相差が零
となるように可変容量コンデンサC3の容量を調整する
。
チAに設けた誘導コイルBと高周波電源りとの間に複数
の可変容竜コンデンザC1、Ctを備えたマッヂングボ
ックスEと、高周波電源りから供給される電圧電流の位
相差を検出する位相検出器Fとを設け、位相検出器Fか
ら出力される位相差信号をモータMに与え、位相差が零
となるように可変容量コンデンサC3の容量を調整する
。
これに伴ない、反射係数は、第4図に示すように、図中
a点からb点に向けて順次移行し、負荷と高周波電源と
のインピーダンスが整合した場合には、反射波が零とな
る。
a点からb点に向けて順次移行し、負荷と高周波電源と
のインピーダンスが整合した場合には、反射波が零とな
る。
このようにしてインピーダンスを整合する場合には、可
変容量コンデンサを始めとして機械的な駆動部分が多く
なるので装置が故障し易く、また、インピーダンス整合
用の複雑な回路が必要となるなどの問題がある。
変容量コンデンサを始めとして機械的な駆動部分が多く
なるので装置が故障し易く、また、インピーダンス整合
用の複雑な回路が必要となるなどの問題がある。
そこで、本発明者らは、この問題について検討したとこ
ろ、プラズマトーチに導入するエアロゾルの濃度と種類
、ガスの流量と種類の少なくとも一つを変化させること
により、プラズマ点灯状態の下でプラズマの負荷として
の回路定数を段階的に移行できることを見出だした。
ろ、プラズマトーチに導入するエアロゾルの濃度と種類
、ガスの流量と種類の少なくとも一つを変化させること
により、プラズマ点灯状態の下でプラズマの負荷として
の回路定数を段階的に移行できることを見出だした。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、機械的な駆動部分なくして、高周波電源とプラズマ
トーチにおける負荷とのインピーダンスを整合し、これ
により、部品点数を削減し、また、装置の故障原因を無
くして装置寿命を向上さ仕ることを目的とする。
て、機械的な駆動部分なくして、高周波電源とプラズマ
トーチにおける負荷とのインピーダンスを整合し、これ
により、部品点数を削減し、また、装置の故障原因を無
くして装置寿命を向上さ仕ることを目的とする。
(ハ)問題点を解決するための手段
本発明は、上記の目的を達成するために、プラズマトー
ヂヘ導入するエアロゾルの濃度と種類、ガスの流量と種
類の少なくとも一つを順次変化さUoでプラズマトーヂ
ヘ供給する高周波電力のインピーダンスを整合さUoる
ようにしている。
ヂヘ導入するエアロゾルの濃度と種類、ガスの流量と種
類の少なくとも一つを順次変化さUoでプラズマトーヂ
ヘ供給する高周波電力のインピーダンスを整合さUoる
ようにしている。
(ニ)実施例
第1図は、本発明方法を適用するためのICP分析装置
のブロック図である。同図において、1はICP分析装
置、2はプラズマトーチ、4はこのプラズマトーチに設
けられた誘導コイル、6はこの誘導コイルに高周波電力
を供給するための高周波電源、8はマツチングボックス
、9は高周波電源6から供給される高周波電流電圧の位
相差を検出する位相検出器、10は同軸ケーブルである
。
のブロック図である。同図において、1はICP分析装
置、2はプラズマトーチ、4はこのプラズマトーチに設
けられた誘導コイル、6はこの誘導コイルに高周波電力
を供給するための高周波電源、8はマツチングボックス
、9は高周波電源6から供給される高周波電流電圧の位
相差を検出する位相検出器、10は同軸ケーブルである
。
上記マツチングボックス8は、容量固定のコンデンサ8
aと可変容量コンデンサ8bとを備えており、装置の初
期セット時に可変容量コンデンサ8bの容量を調整する
以外は、分析時においても両コンデンサ8a、8bの容
量は固定されたままになっている。
aと可変容量コンデンサ8bとを備えており、装置の初
期セット時に可変容量コンデンサ8bの容量を調整する
以外は、分析時においても両コンデンサ8a、8bの容
量は固定されたままになっている。
12はプラズマトーチ2へ導入するガスの流量およびガ
スの種類を制御するガスコントローラである。
スの種類を制御するガスコントローラである。
次に、本発明方法について第2図を参照して説明する。
なお、第2図はインピーダンスの整合特性を示すもので
あり、図中の曲線S。はプラズマが点灯していない場合
、曲線SIはプラズマ点灯後でかつプラズマトーチ2に
エアロゾルを導入していない場合、曲線S2は水質系の
エアロゾルを導入した場合、曲線S3とS、は有機溶媒
系のエアロゾルを導入しつつ導入ガスの種類を変化させ
た場合の各整合特性を示している。そして、この実施例
では曲線S4の有機溶媒系のエアロゾルに分析対象とな
る試料が含まれているものとする。
あり、図中の曲線S。はプラズマが点灯していない場合
、曲線SIはプラズマ点灯後でかつプラズマトーチ2に
エアロゾルを導入していない場合、曲線S2は水質系の
エアロゾルを導入した場合、曲線S3とS、は有機溶媒
系のエアロゾルを導入しつつ導入ガスの種類を変化させ
た場合の各整合特性を示している。そして、この実施例
では曲線S4の有機溶媒系のエアロゾルに分析対象とな
る試料が含まれているものとする。
分析にあたり、まず、高周波電源6から出力される高周
波電力を同軸ケーブル10によりマツチングボックス8
を介して誘導コイル4に供給する。
波電力を同軸ケーブル10によりマツチングボックス8
を介して誘導コイル4に供給する。
この場合のマツチングボックス8のコンデンサ8a18
bの容量はたとえば、図中符号C6に固定したままであ
る。誘導コイル4に高周波電力を与える一方で、ガスコ
ントローラI2からアルゴンガスを供給し、図外のイグ
ナイタでこのガスをコロナ放電させてプラズマトーチ2
に導入し、プラズマを点灯させる。プラズマが点灯する
と、反射係数は第2図中a点からb点に遷移する。
bの容量はたとえば、図中符号C6に固定したままであ
る。誘導コイル4に高周波電力を与える一方で、ガスコ
ントローラI2からアルゴンガスを供給し、図外のイグ
ナイタでこのガスをコロナ放電させてプラズマトーチ2
に導入し、プラズマを点灯させる。プラズマが点灯する
と、反射係数は第2図中a点からb点に遷移する。
この状態で、試料を含む有機溶媒系のエアロゾルをその
ままプラズマトーチ2に導入したのでは、高周波電源6
に対する負荷としての回路定数が大幅に変化し、プラズ
マが消えてしまう。そこで、回路定数の変化が比較的少
ない水質系のエアロゾルをプラズマトーチ2に導入する
。これにより、反射係数はb点から0点に遷移する。
ままプラズマトーチ2に導入したのでは、高周波電源6
に対する負荷としての回路定数が大幅に変化し、プラズ
マが消えてしまう。そこで、回路定数の変化が比較的少
ない水質系のエアロゾルをプラズマトーチ2に導入する
。これにより、反射係数はb点から0点に遷移する。
次に、プラズマトーチ2に有機溶媒系のエアロゾルを導
入しつつガスコントローラI2によって導入ガスの種類
を、たとえばアルゴンガスに対してメタンガス、エチレ
ンガス、ヘリウムガスを混入するなどして変化させると
、インピーダンスの整合特性は曲線S3からS4まで変
化する。これに伴ない、反射係数は0点からd点を経て
最小値のe点まで移行する。
入しつつガスコントローラI2によって導入ガスの種類
を、たとえばアルゴンガスに対してメタンガス、エチレ
ンガス、ヘリウムガスを混入するなどして変化させると
、インピーダンスの整合特性は曲線S3からS4まで変
化する。これに伴ない、反射係数は0点からd点を経て
最小値のe点まで移行する。
あるいは、位相検出器9でプラズマトーチ2 (nil
の負荷の位相差を検出し、これに応じて出力される位相
差信号をガスコントローラ12に与えて、高周波電源6
からの電圧電流の位相差が零となるように導入ガスのガ
ス流量を制御するようにしてもよい。この場合でも、上
記と同様に、インピーダンスの整合特性を曲線S3から
S4まで変化させることができ、これに伴ない、反射係
数を0点からd点を経て最小値のe点まで移行すること
になる。
の負荷の位相差を検出し、これに応じて出力される位相
差信号をガスコントローラ12に与えて、高周波電源6
からの電圧電流の位相差が零となるように導入ガスのガ
ス流量を制御するようにしてもよい。この場合でも、上
記と同様に、インピーダンスの整合特性を曲線S3から
S4まで変化させることができ、これに伴ない、反射係
数を0点からd点を経て最小値のe点まで移行すること
になる。
このように、プラズマトーチ2へ導入するエアロゾルの
種類と導入ガスの種類を変化させたり、あるいは、ガス
流量を変化さけるなどして、プラズマ点灯状態の下でプ
ラズマの負荷としての回路定数を段階的に移行させ、こ
れによって反射係数が最小値となるようにインピーダン
スの整合を行なうことができる。
種類と導入ガスの種類を変化させたり、あるいは、ガス
流量を変化さけるなどして、プラズマ点灯状態の下でプ
ラズマの負荷としての回路定数を段階的に移行させ、こ
れによって反射係数が最小値となるようにインピーダン
スの整合を行なうことができる。
なお、上記実施例では、インピーダンスの整合をプラズ
マトーチへ導入するエアロゾルの種類と導入ガスの種類
を変化させて行なっているが、その他、エアロゾルの濃
度などを変化させてインピーダンスを整合させるること
も可能である。
マトーチへ導入するエアロゾルの種類と導入ガスの種類
を変化させて行なっているが、その他、エアロゾルの濃
度などを変化させてインピーダンスを整合させるること
も可能である。
(ポ)効果
以上のように本発明によれば、プラズマトーチに導入す
る試料エアロゾルの溶媒、ガスの種類、ガス流量の少な
くとも一つを順次変化させることにより、プラズマ点灯
状態の下でプラズマの負荷としての回路定数を段階的に
移行させるので、従来のようなインピーダンス整合用の
機械的な駆動部分を設けなくても高周波電源とプラズマ
トーチにおける負荷とのインピーダンスを整合できるよ
うになる。これにより、部品点数が削減でき、また、装
置の故障原因が少なくなり装置寿命が向上する等の優れ
た効果が発揮される。
る試料エアロゾルの溶媒、ガスの種類、ガス流量の少な
くとも一つを順次変化させることにより、プラズマ点灯
状態の下でプラズマの負荷としての回路定数を段階的に
移行させるので、従来のようなインピーダンス整合用の
機械的な駆動部分を設けなくても高周波電源とプラズマ
トーチにおける負荷とのインピーダンスを整合できるよ
うになる。これにより、部品点数が削減でき、また、装
置の故障原因が少なくなり装置寿命が向上する等の優れ
た効果が発揮される。
第1図および第2図は本発明の実施例を示すもので、第
1図は本発明方法を適用するためのICP分析装置の要
部ブロック図、第2図は本発明のICP分析方法の実施
例を説明するためのインピーダンスの整合特性図、第3
図は従来のICP分析装置のブロック図、第4図は第3
図の装置のインピーダンス整合方法の説明図である。 l・・・ICP分析装置、2・・・プラズマトーチ、6
・・・高周波電源、9・・・位相検出器、12・・・ガ
スコントローラ。
1図は本発明方法を適用するためのICP分析装置の要
部ブロック図、第2図は本発明のICP分析方法の実施
例を説明するためのインピーダンスの整合特性図、第3
図は従来のICP分析装置のブロック図、第4図は第3
図の装置のインピーダンス整合方法の説明図である。 l・・・ICP分析装置、2・・・プラズマトーチ、6
・・・高周波電源、9・・・位相検出器、12・・・ガ
スコントローラ。
Claims (1)
- (1)プラズマトーチへ導入するエアロゾルの濃度と種
類、ガスの流量と種類の少なくとも一つを変化させてプ
ラズマトーチへ供給する高周波電力のインピーダンスを
整合させることを特徴とするICP分析方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1844386A JPS62175651A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | Icp分析方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1844386A JPS62175651A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | Icp分析方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62175651A true JPS62175651A (ja) | 1987-08-01 |
Family
ID=11971775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1844386A Pending JPS62175651A (ja) | 1986-01-30 | 1986-01-30 | Icp分析方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62175651A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0602764A1 (en) * | 1992-12-17 | 1994-06-22 | FISONS plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio - frequency power supply therefor |
US5977715A (en) * | 1995-12-14 | 1999-11-02 | The Boeing Company | Handheld atmospheric pressure glow discharge plasma source |
JP2007205897A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp用高周波電源装置 |
JP2007205899A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP2011124191A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | インピーダンス整合装置 |
-
1986
- 1986-01-30 JP JP1844386A patent/JPS62175651A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0602764A1 (en) * | 1992-12-17 | 1994-06-22 | FISONS plc | Inductively coupled plasma spectrometers and radio - frequency power supply therefor |
US5977715A (en) * | 1995-12-14 | 1999-11-02 | The Boeing Company | Handheld atmospheric pressure glow discharge plasma source |
JP2007205897A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp用高周波電源装置 |
JP2007205899A (ja) * | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Shimadzu Corp | Icp分析装置 |
JP2011124191A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Shindengen Electric Mfg Co Ltd | インピーダンス整合装置 |
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