JPS62174802A - プロセス制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は入力と出力の関係を表わす静特性曲線が変曲点
をもつ各種工業プロセスの出力を変曲点附近に制御する
方法に関する０ 〔従来技術とその問題点〕 入出力関係が非線形となる各種プロセスの中には、それ
らの静特性が変曲点をもっているものが多く存在する。

例えば酸を含む水を連続的に中和するプロセスでは酸と
アルカリの当量点でｐＨが急変するため、アルカリ注入
速度を入力、ｐＨを出力とするとこの両者の間の静特性
は当量点で変曲点をもつ曲線となる。このような関係は
酸化還元プロセスにもみられ、酸化還元電位（ＯＲＰ）
は酸化性物質と還元性物質の当量点に変曲点を有する。

変曲点を示すプロセスは上記のような化学プロセスに限
ることなく、例えば固液分離槽において超音波または光
の透過量の変化を利用して汚泥界面を検出する場合など
にも、透過量が界面で急変するために水深に対する透過
量の特性曲線に変白点が存在する。

以上の例から変曲点のもつ共通性として、多くの場合変
曲点は広い意味で状態の急激な変化に対応するプロセス
の限界点と見ることができる。このことからプロセスを
その限界点に制御しようとするとき、変曲点を確実に検
出して、プロセスをこの変曲点に制御することができれ
ば、プロセスの制御は極めて容易となり、効果的である
ことがわかる。

これに対して従来用いられているプロセス出力を変曲点
に制御する方法は主として次の二つである０ ■変曲点における出力の値をあらかじめ求めておき、出
力がその値になるように制御する。

■入力に関する出力の１次微分が最大になるように、ま
たは２次微分が零になるように入力を調整する。

これらのうち、■の方法は変曲点と出力値との関係が常
に一定であれば最も確実であり、この場合は変曲点をと
くに考慮することなく出力を定値制御することができる
。しかし、このようなケースはむしろまれであると考え
た方がよい。例えば前述のｐＨもしくはＯＲＰの変曲点
は共存物質の影響を受けるし、才た電極の特性が変れば
変曲点も変動する。このことは汚泥界面を検出する場合
にも当てはまり、汚泥密度の変化、光源の変化。

受光面の汚れなど変曲点の位置を変動させる要因が非常
に多（ある。したがって■の方法は十分な効果を期待す
ることができない。

次に微分を用いる■の方法はノイズの問題が最も深刻で
ある。人力に関する出力の微係数を求めるためには、入
力および出力の時間微分を求め、それらの比を求めなけ
ればならない。ところが微分演算は一種の高域フィルタ
であるためノイズが拡大され、そのような信号から有効
な情報を得るのは極めて困難である。さらにプロセス制
御の場合、入出力とも広い範囲で変化させることができ
ないことと、入力の変化に対して出力は遅れをもって応
答し、その時定数も条件によって変動することなども微
分演算を困難にする要因となっているＯ これに対し、本発明者らはプロセス出力に基準値を設け
、出力がこの基準値より小さいときの入出力静特性曲線
の傾きすなわちゲインに、と、出力がこの基準値より大
きいときの入出力静特性曲線の傾きすなわちゲインＫｌ
をオンライン同定し、ＫＩとＫ２とが等しくなるように
入力を操作することにより、安定した高い信頼性をもっ
て各種プロセス出力を変曲点に制御することが可能な方
法（以下変曲点制御法と称する）を見出し、特開昭６０
−２５１４０２号公報に開示している。但し同公報には
に１をｇ、、に、をｇ、として記載しである。

次に第６図を参照してこの変曲点１１」御法の概要を述
べる。第６図は変曲点をもつ入出力の静特性曲線および
Ｋｌとに、の関係を示した線図であって変曲点とは曲線
の曲率が零になる点のことである。

令弟６図において出力の平均値が点Ｂ上にあり、出力は
その平均値の上下で変動しているとする。

そこで出力がその平均値より下にあるときのゲインに、
と上にあるときのゲインに！を同定すると、それらのゲ
インＫｌ、　ＫＩは第６図に示した二つの直線の傾きに
相当する。したがってに、とＫｌの差は一種の曲率を表
わすことになり、Ｋｌとに、が等しくなるよう１こ出力
レベルを調節することにより、出力を変曲点に制御する
ことができる。このように非線形特性の折線近似をオン
ラインで行なう方法をここでは以下適応折線近似と呼ぶ
。

本発明者らにより特開昭６０−２５１４０２号公報に開
示した方法は以上の原理に基づくものであり、ノイズに
強く、またに、とに、の差を用いるため両者に共通に含
まれる誤差要因が除去されるという利点を有している。

この方法ではプロセス出力８第６図の点Ｂに対応する基
準値と比較し、その大小関係によりに１の同定とに２の
同定を切り換えるが、この際重要なことは出力と基準値
に何を用いるかという点であって、本発明者らの発明に
よればそれぞれ出力の現在値および移動平均を用いてい
る。

しかしながら、その後の研究の進展とともに以上の方法
は次に述べるような問題点を生ずることが判明した。

移動平均は過去のデータを用いて計算されるために遅れ
を伴う。したがって負荷変動があったり、出力レベルを
変曲点に調節するための制御設定値の変化が大きい場合
は、出力の現在値にとって移動平均は真の平均値とはな
り得す、Ｋ１に対応する領域とに２に対応する領域を公
平に区分することができない。

もう一つの問題は低周波成分の除去Ｉこ関するものであ
る。適応折線近似を行なう場合、ゲインの同定性能を維
持するためには、プロセスの時定数と同程腿かまたはそ
の２ないし３倍の周期の信号でプロセスが常に励起され
ていなければならない。

したがってプロセスに加えられるノイズがプロセスを励
起させるために利用できる場合を除いて、プロセス励起
のためのテストシグナルを用いて同定を行なう。すなわ
ち、プロセスの入力信号は負荷変動や設定値の変化など
の外乱に基づく比較的大きな低周波成分とテストシグナ
ルによる高周波成分の重ね合わせとなる。ゲインの同定
に必要なのはテストシグナルによる信号成分であるから
、入出力信号から低周波成分を除く必要があるが、その
ためには出力から基準値を引く方法が最も妥当であるこ
とは第６図からもわかる。ところが出力としてその現在
値を用い、基準値として移動平均を用いる限り、外乱の
影響は両者に時間的なずれを伴って現われるため、たと
え低周波外乱であってもその影響を十分に除くことはむ
ずかしい。

これは別の言い方をすると、移動平均を基準値とするた
めには平均時間を長くする必要があるが、そうすると低
周波成分を除去するための高帯域フィルタとしての性能
が低下し、比較的長周期の外乱の影響も除去することが
できなくなるということである。そこで前述の本発明者
らの発明になる適応折線近似を行なうに当っては、新た
に高帯域フィルタを設け、入出力信号をこのフィルタを
通し、その出力を用いてパラメータ同定を行なっている
。しかしフィルタ通過周波数を高くとることは、フィル
タの特性が微分的性格を強めるということであり、した
がって入出力信号の急変時のみが大きく増幅されるとい
う不都合を生ずる〇〔発明の目的〕 本発明は上述の特開昭６０−２５１４０２号公報に開示
した本発明者らの発明になるプロセス制御法の問題点を
解決するためになされたものであり、その目的は負荷変
動があったり設定値が変化する場合でも良好なゲイン切
り換えを行なうことができ、安定な変曲点制御の実施が
可能な方法を提供することにある。

〔発明の要点〕

本発明は一定区間の入力Ｆの移動平均Ｆおよび同一区間
の出力Ｃの移動平均Ｃを求め、次いでこの時間区間の中
間点のＦのＷＬＦｈｈとＣの値ｃｈδを求めて、それぞ
れの差ｕ＝Ｆｈｈ−Ｆおよびｙ＝（Ｊｔｂ　−Ｃを用い
て得られたＫ１とＫ２が等しくなるように出力レベルを
訴］整することにより達成される。

〔発明の実施例〕

はじめに本発明における基本的な考え方を述べ、次（こ
具体的な実施例に基づき本発明の詳細な説明する。

先に述べた本発明者らの発明になるプロセス制御法の二
つの問題点すなわちＫｌ領域とに２領域の区分の問題お
よび低周波成分の除去の問題は、いずれも出力の現在値
から移動平均値を引く方法では入出力信号から低周波外
乱の影響を十分に除去できないという点１こ起因してい
る。そこで本発明者らは、この問題を解決するために、
移動平均の周波数特性に着目した。

時間区間りの移動平均を伝達関数で表わすと、ＧＭＡＬ
（”沖１ヨｉ鳳　　　　　　　　　　（１）Ｌ ここでＧＬ（８）はおくれ時間りのむだ時間要素の伝達
関数であり Ｇ　Ｌ（３）：　ｅ　−３Ｉ’　　　　　　　　　　　
　　　＋、２）である。なおＳはラプラス変換パラメー
タである。

周波数特性を検討するために式（１月ζｓ＝Ｊωを代が
得られる。ここでωは角周波数＋ｊ＝Ｓ／１である。

式（３）をｅ　”Ｌ＝ｃｏｓωＬ−ｊｓｉｎωＬを用い
て変形すると　　　　ＧＭＡＬ（Ｊω）＝、ｚ［：ｓｌ
ｎωＬ　　　ｊ（１−ｃｏｓωＬ））　　　（４）とな
り、さらにｓｉｎωＬ＝２ａｉｎ（ωＬ／２　）　＊　
ｃｏａ　（ωＬ、／’２Ｌ１−ｃｏｓωＬ　＝２　ｓ　
ｉｎ”（ωＬ／２　）であるから、ＧＭＡＬ（ｊω）＝
　’　ｓｉｎ　’　（ｃｏｓ’！’　３　、ｉｎりωＬ
　　　　２　　　　２　　　　　２となる。また５ｉｎ
（シ／２）を級数展開すると式（５月まＧＭＡＬ（Ｊω
）＝（１−ａ’Ｈ（？）４吉（寸）４　、　、　、　）
　ｅ　−Ｊ　赫）＝〔□−１（馬・＋１（町−９−）　
８−ｊａ＋（セ）（６）１Ｔ５１Ｔ とも表わすことができる。ここでＴは周期である。

これかられかるように、平均時間に比べて長い時間の信
号、すなわち（１／３１　’）　（πＬ／Ｔ）”＜＜ｉ
の信号＝ＧＬ、／２（ｊω）（７） となる。すなわち移動平均は、平均時間に比べて長い周
期の信号に対しては、その平均時間の１／２のおくれを
もつむだ時間要素として働く。また式が得られ、これを
グラフで表わすと第１図に示すように移動平均要素のゲ
イン曲線が得られる。第１図から移動平均のゲインはＬ
／Ｔ：２１で急激に低下し、とくにＬ／Ｔ＝ｎ　（ｎ＝
１．２．−）の４３号は移動平均操作により完全に消滅
することがわかる〇 本発明は上記の移動平均の特性を利用している。

すなわち基準値として移動平均を用いる点は前の方法と
同じであるが、本発明ではプロセス出力としては現在値
ではなく、平均時間の１／２に相当する時間だけ過去の
値を用いる。またテストシグナルを用いる場合はその周
期を指定することができるため、平均時間はその周期の
整数倍になるように設定する。今、出力の現在値Ｃａｔ
を低周波成分Ｃ／＆とテストシグナルによる変動分ΔＣ
の和で表わすと Ｃｏ＝Ｃｄ＋ΔＣ（９） であるから、これを前記の移動平均要素に通すとＧＭＡ
Ｌ（８）ｃｏ＝Ｇ、Ｌ（ｓ）ｃｄ＋ＧＭＡＬ（ｓ）ΔＣ
：Ｇ　Ｌ／２（８）Ｃｄ　　　　　　　　　　（１１と
なる。一方むだ時間要素に通した信号はＧ　Ｌ／２（８
）Ｃｏ　＝ＣＬ／２（８）Ｃｄ　＋Ｇ　Ｌ７２（ｓ）Δ
Ｃ（ＩＩ）であるから、両者の差ｙは ｙ　＝　ＧＶ２（８）Ｃｏ−ＧＭＡＬ（＋１）Ｃ０ｚＧ
　、／２（ｓ）ΔＣ（２） となり、テストシグナルによる変動分だけが得られる。

入力についても同じ処理を行なうことにより、　　ｎ＝
ＧＬ／２（ｓ）ΔＦ　　　　　　　　　　　　　（１を
得る。ここでΔＦはテストシグナルによる入力の変動分
である◇ 本発明はｙとＵを用いて適応折線近似により入出力特性
曲線の曲率を求め、変曲点制御を行なうものである。

以下本発明の方法を活性汚泥プロセスの溶存酸素（以下
ＤＯと略称する）濃度制御に適用した例について具体的
に説明する。

活性汚泥プロセスは、好気性微生物の一種の混層 合培養係であり、プロセスを安定に維持するためにはエ
アレーションを十分に行ない、ＤＯ濃度を適正なレベル
に維持しなければならない。しかし電力節減などの観点
から、微性物の性状が悪化しない範囲で、できるだけ少
ない空気量でプロセス、を運転することが望ましい。

活性汚泥プロセスにおけるエアレーションタンク内のあ
る個所で出力としてのＤｏ濃度Ｃを測定し、入力として
のエアレーション空気流量Ｆとの関係を求めると第２図
に示す曲線が得られる。エアレーション空気流量Ｆの増
加に対してＤＯ濃度Ｃはある点で急激に増加するため、
第２図に示した特性曲線上には変曲点ＩＰが現われる。

本発明者らはＤＯ＆度Ｃを変曲点ＩＰにおけるＣの値と
一致するように制御することにより、必要最小限の空気
量が維持されることを見出し、出力を変曲点に制御する
ために本発明を適用した。なお実際の変曲点の場所は、
プロセスの状態により多少上下するが、第２図中に示し
た斜線の範囲にあると考えてほぼ間違いない。

第３図は本発明の適用される活性汚泥プロセスの機器構
成と機能の概要を示す系統図である。第３図では水と空
気の流れは実線、電気信号系統を破線で示しであるが、
いずれも流れの方向を矢印で表わしである。

第３図において、エアレーションブロア１から送られる
空気は、流量計２を経てエアレーションタンク３の底部
から散気管４により曝気される。

また図示してない装置により一次処理された原水は、エ
アレーションタンク３に流入し、汚濁物質が分解された
後最終沈澱池５に貯留され、上澄水を二次処理水として
放流するが、沈澱した汚泥は再びエアレーションタンク
３に戻される。

−万゛通気信号はエアレーションタンク３内に位置する
ＤＯセンサ６の出力を信号変換器７により伝送信号に変
換し、流量計２により測定されたエアレーション空気量
の（Ｍ号とともに演算装置８に入力する。演算部［８は
本発明による制御演算を行なって設定値としての目標空
気量を調節計９に入力する。調節計９からエアレーショ
ン空気量を設定値に制御するための操作信号を、インバ
ータ１０に入力することによりインバータ１０でエアレ
ーションブロア１の回転数の調節が行なわれる。

第４図は第３図の演算装置８の機能をブロック線図とし
て表わしたものである。第４図において２１は活性汚泥
プロセス、２２はＤＯ濃度Ｃを設定値に制御するための
比例＋積分（ＰＩ　）制御装置、２３は入出力信号から
低周波成分を除くための高域フィルタ、２４は適応折線
近似を行なうための演算部、２５は割算器、２６は設定
値を調節するための積分器、２７はテストシグナル発生
器である。

この制御システムはＤＯ濃度ＣをＣｒ（設定値Ｃｒ＋テ
ストシグナル）に制御するためのＤｏ制御ループと設定
値を変曲点に制御するためのゲイン極大化ループからな
っている。入力Ｆおよび出力Ｃから低周波成分を除く処
理は高域フィルタ２３で行なわれる。ここでの演算は である。ここでＦ（ロ）、Ｃ（ト）はそれぞれにステッ
プ目のＦおよびＣであり、それぞれ現在値とする。

したがって式（１４，＜１１の右辺第２項は現在値を含
むｍ個のデータの移動平均ＣおよびＦＳ第１項はそれら
のデータの中間データ（Ｊ４およびＦｈ”４でありすな
わち平均時間の１／２だけ過去のデータである。なおｍ
が偶数のときは中間の二つのデータの平均を用いる。

適応折線近似演算部２４はＵとｙをもとに演算を行なう
。活性汚泥プロセスにおけるＵとｙの関係は１次遅れで
表わすことができる。すなわち、）’　（ｋ＋１　）＝
ａｙ（ｋ）＋（１−ａ　）Ｋｕ（ｋ）　　　　　　　（
１１となる。ここでＫはゲイン、ａはプロセスの時定数
とサンプリング時間に関係する係数である。ゲインＫを
同定するためにはこの式（１→を次のよう齋こ変形する
。

ＱΔｙ（ｋ）＋ｙ（ｋ）＝Ｋｕ（ｋ）　　　　　　　　
　　　　　ＨここでΔｙ（ｋ）＝ｙ　（ｋ＋１）−ｙ（
ｋ）、　Ｑ＝１／（１−ａ　）である。

ＱとＫはプロセスの非線形特性のために変化するが、こ
れはＤＯ濃度Ｃの関数と考えることができる。そしてこ
れらのパラメータの値がＤＯ濃度Ｃによって二つの不連
続な値をとるとするのが適応折線近似の考え方でありこ
れは と表わすことができる。ここでｒ（ｋｌ＝ｙ　（ｋ＋１
　）十ｙ（ｋｌである。式（至）はパラメータベクトル
Ｐおよび信号ベクトルズを用いて次のように表わすこと
もできる。

したがって方程式誤差ｅは ｅ＝Ｐｅｆｋｌｘ（ｋ−１）＋ｙ（ｋ−１）　　　　　
　　　　Ｃｍとなる。ここでＰｅ（ｋｌは可調節パラメ
ータベクトルＣＱ、＋ｋ）、Ｑ＠、（ｋ）、　−Ｋｓｌ
（ｋＬ−に、ｔ＋ｋ１１である。式■から式ＵＳを引く
と誤差方程式として ｅ　＝　（Ｐｇｆｋｌ−Ｐ〕ｒ（ｋ−１）　　　　　　
　　　　”υが得られる。したがってパラメータは次の
漸加式により同定することができる。

ここでｅｏはｅの暫定値、Ｇは同定動作の感度を調節す
るためのゲイン行列である。

このようにして求められたに６１とＫｈは第６図のに、
　、Ｋｔに対応するものであるから、Ｋ６．とＫｅｔの
差は特性曲線の曲率を表わし、この差を零とするように
設定値を調節することにより、出力レベルを変曲点に制
御することができる。適応折線近似演算部２４は式のの
演算を行ない、Ｋ、Ｉとに、。

を出力する。そしてに６．とに６１の差をそれらの平均
に０で割った値（Ｋ、、　−に、、　）／に、が積分器
２６に入力され、設定値Ｏｒが調節される。Ｏｒにテス
トシグナルを加えたものがＯ’ｒであって、ＤＯ濃変Ｃ
はｃｒに追従するように、ＰＩ制御器２２で制御する。

適応折線近似の性能を維持するためには、出力Ｃが一定
の範囲で変動することが望ましい。そのためにはａｒか
らＣに至る閉ループ伝達関数が一定である必要がある。

そこで本実施例ではＰＩ制御のパラメータをプロセスパ
ラメータの同定値に基づいて調節するようにしである。

ＰＩ制御動作をＺ変換形の伝達関数で表わすと となる。ここでｋｐは比例ゲインｐｋｌは積分ゲインで
ある。本実施例ではｋｌ、に、　　をに、＝−Ｌ−ｉ−
に） ｋ　ＩＫ＠ により決定する。ここで であり、ｄは設計者が指定する。ｋ、とｋＩ、をこのよ
うに決めると、極零相殺により閉ループ伝達関数の次数
が一つ減って見かけ上１次系となり、その極はｄの値と
して指定することができる。すなわち ここでＧ　、（２）はプロセスの伝達関数であり、式（
１１からＧ、（２）＝（１−ａ）Ｋ／（ｚ−ａ）である
。

本実施例ではデータサンプリング時間を５分とし、テス
トシグナルとしては３０分毎にランダムに値の変化する
矩形波を用いた。したがってテストシグナルに含まれる
信号は１時間周期のものとその高調波である。そこで平
均時間は２時間に設定した。すなわち式α４．αりのｍ
は２４である。

活性汚泥プロセスの負荷は人間の生活パターンＩこよっ
て変化するため、負荷変動に含まれる波形の主要周期は
１２時間および２４時間である。そこで負荷が１２時間
周期で変るものとすると式（６）となり、本発明の方法
が有効に機能することがわかる。

第５図は上述の制御システムｌこより第３図ｉこ示した
活性汚泥プロセスの制御を実施した際の時間経過に対し
て得られた諸データの変化を示した線図である。制御は
Ｏｒ　＝　０．５　ｍ　ｇ　／　ｌでスタートし、約３
００時間継続した。制御開始時点ではＯｒが低いため、
Ｋ、、、＜Ｋ、、となり、その結果Ｏｒが上方修正され
ている。Ｏｒは約５０時間後には一定値に遅し、その後
は１．０〜１．５ｍｇ／ｌの範囲を変動している。流入
水量は大きく変動しているが設定値の調節動作は、この
負荷変動により乱されることなく、極めて安定して行な
われており、本発明による制御機能が十分に達成されて
いることがわかる。

〔発明の効果〕

以上説明してきたように本発明の方法によれば、プロセ
スの入出力信号から低周波外乱を効率よく除去できるた
め、新たに高域フィルタを設ける必要がなく、またＵと
ｙが低周波外乱を含まないということは、これらがテス
トジグアルにより零を中心に変化し、偏りがないことで
あるから、Ｋ、１ｆｆｌ域と６領域の区分も公平に行な
われる。したがってこのように高性能を有する本発明の
変曲点制御法は、各種工業プロセスに適用して極めて有
効に作用するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は移動平均要素のゲイン曲線図、第２図は活性汚
泥プロセスのエアレーション空気−ＨＦとＤｏ濃ｆｃの
関係を示す線図、第３図は本発明の適用される活性汚泥
プロセスの機器構成と機能を示す系統図、第４図は本発
明の方法による制御演算を示すブロック線図、第５図は
本発明の方法により活性汚泥プロセス制御で得られた諸
データの時間経過に対する変化を示した線図、第６図は
変曲点をもつ入出力特性曲線およびＫｌとに、の関係を
示した線図で６る。 トエアレーションブロア、２　空気流量計。 ３・・エアレーションタンク、４・・散気管、５・・・
最終沈澱池、６・・・Ｄｏセンサ、７・・・信号変換器
。 ８・・・演算装置、９・・調節計、　　１０　　インバ
ータ。 ２１・活性汚泥プロセス、２２−ＰＩ制御装置。 ２３・・高域フィルタ、２４・・・適応折線近似演算部
。 ２５・・・割算器、２６・積分器、２７・・テストシグ
ナル発生器。 Ｃ＝ＤＣ１１１度（出力）、Ｆ・・・空気流量、ｙ・・
・Ｃから低周波成分を除去した信号、ｕ−Ｆから低周波
成分を除去した信号＃　Ｑｗ１　ｌ　Ｑ＠＠　ｌ　Ｋａ
、　ｌ　Ｋ、、　”’プロセスモデルのパラメータ、Ｑ
８・・Ｑ　ＪとＱ、！の平均、に、−ＫＨとＫａｔの平
均ｖ　Ｃｒ２−’設定値＋Ｃｒ’ＣＹ？＋テストシグナ
ルｔ　Ｑｗ・・・流入水量。 ・′、パχ ：九ノ２人ノ一二　西　口　　　、叔　］１．ノ蒲　１
　口 第２　（２）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）入力（Ｆ）と出力（Ｃ）の関係を表わす静特性曲線
   が変曲点を有するプロセスのＣの基準値を定め、Ｃがそ
   の基準値より小さいときのゲイン（Ｋ＿１）とＣが基準
   値より大きいときのゲイン（Ｋ＿２）を同定し、Ｋ＿１
   とＫ＿２とが等しくなるように出力レベルを調整するこ
   とによりＣを変曲点付近に制御する方法において、一定
   時間区間のＦの移動平均（＠Ｆ＠）および同一時間区間
   のＣの移動平均（＠Ｃ＠）を演算し、上記時間区間の中
   間点のＦの値ＦｈとＣの値Ｃｈとを求め、ｕ＝Ｆｈ−＠
   Ｆ＠およびｙ＝Ｃｈ−＠Ｃ＠の時系列データを用いたオ
   ンラインパラメータ同定法によりＫ＿１とＫ＿２を求め
   ることを特徴とするプロセス制御方法。 ２）特許請求の範囲第１項記載の方法において、移動平
   均の時間区間はＦおよびＣに含まれる主要周波数成分の
   周期の整数倍であることを特徴とするプロセス制御方法
   。