JPS62171716A - 沈澱分離装置 - Google Patents

沈澱分離装置

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JPS62171716A
JPS62171716A JP1171286A JP1171286A JPS62171716A JP S62171716 A JPS62171716 A JP S62171716A JP 1171286 A JP1171286 A JP 1171286A JP 1171286 A JP1171286 A JP 1171286A JP S62171716 A JPS62171716 A JP S62171716A
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JP
Japan
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separator
supernatant liquid
discharge pipe
sludge
separation
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JP1171286A
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English (en)
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JPS6344402B2 (ja
Inventor
Masatake Kano
昌武 加納
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SUIREI KK
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SUIREI KK
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Granted legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 1′産業上の利用分5?J 本発明は工場廃液処理、水処理、その他排水処理等に於
て用いられる沈澱分離装置に関するものである。
r従来の技術j 従来この種沈澱分離装置としては種りのものが提案され
ており、また技術文献としても多数のものがある0例え
ば特公昭49−46823号・の沈澱分離装置は、菱型
状の容体を形成し、この容体内のL部内錐体の内側に流
通路を介して円錐型隔壁を1Φ人し、前記容体のヒ部に
原液・ぐ1人管を、ド端に排出管を夫々庄通させ、前記
円錐型隔壁に連通した排出管を容体外に延設してなる構
Wであり、傾斜状の流通路を介して」−澄液とスラリン
とを分離すると共に、大きな上痘液滞蒲室を形成してな
るものである。そしてこの発明と軌を−にする特公昭5
2−15148号−または改良を加えた実公昭57−3
5366号等がある。また特公昭58−29122 S
3−のiJl水処理装置は、スラッジ滞溜槽、回纜拌部
、同e縮槽部t9・を内蔵してなる円n5状の凝集沈降
槽とを設けてなり、凝集沈降と砂ろ過とにより浄化する
ものである。
′:発明の解決しようとする問題点」 前述の技術文献による発明は、比較的筒中な構造である
にかかわらず、原液の流下方向とスラッジの凝集沈下の
方向が同一方向であることから。
l二澄液とスラっ・ジとの分離効二Fはよいが、流通路
で分離されたL m液とスラッジとがその先端より流ド
する際に、スラッジの一部は確かに円錐体の内壁に沿っ
て沈下するものの、他の一部は上澄液のに)1流に巻き
込まれる。この現象は微粒子のスラ7.シに強く発生し
ており、必fしも理想の如くJ+’r )’flなI−
M液に分離されるとわ思われないこと。
また他の技術文献特公昭58−29122号は凝集沈降
と<jl>ろ過とによるもので、均質なろ過は達成され
るか構造が複雑となり、装置がかなり大型化するおそれ
がある。
r問題点を解決するための手段j 」二足に鑑み、本発明は、構造簡単にしてしかもスムー
ズに上澄液とスラッジとの分離ができるようにし、清冷
な上澄液を得るようにしたものである。その要旨は1円
筒部と下方に向って収れんされた円錐部とでなる容器に
一ヒ澄液排出管を垂設し、この上澄液排出管の上方から
下方に向って順次傘状の第1分離体及び連中状で開孔を
開設してなる第2分離体並びに傘状の第3分離体とでな
る分離体装置を配備し、この分離体装置と容器の円錐部
とで上澄液滞溜室を形成してなり、前記容器に流入され
た原液を第1分離体を介して放射方向に向って落流させ
て第1処理をなし、つづいて第2分離体を介して中心方
向に向って落流させかつ第2分離体の中心部開孔より次
の第3分離体に落流させて第2処理をなし、この第2処
理された原液を第3分離体を介して放射方向に向って落
流して第3処理をなし、その以後上澄液滞溜室を介して
上澄液を上澄液排出管より排出すると共に、分離凝集さ
れたスラッジを円錐部の下端に設けたスラッジ排出管を
介し排出する構造である。
4作用」 次に本発明の詳細な説明すると、原液導入管(図示せず
)を介して原液M1室に導かれた原液は、この原液溜室
に開設した開孔を介して流下させていき、先ず傘状をな
す第1分離体の傾斜面を放射力向に向って落流していき
、下方への拡がりに伴って原液中に!γするスラッジは
分離され、この傾、14面」;に1ili H1=凝集
される。この現象は流下するに従って高まり、傾斜面の
下端部に近づくにつれてその沈降速が一層高まると共に
、フロ7クが形成される。いわゆる第1処理がなされる
。つづいて逆傘状をなす第2分離体の傾斜面を中心方向
に向って落流していき、下方へ収れんされるに従がって
原液中にj′i!遊するスラッジは分離されると共に前
記フロ7クは傾斜面をすベリ降りていき更に大きく成L
i してい〈、これは傾斜面の収れん部に6づくにつれ
て促進され、スラッジの分離とフロ7クの成長という固
液分離が盛んになされる。そしてこの処理原液は第2分
離体の中央部に開設した開孔を介して第3分階体の傾斜
面に流下される。いわゆる第2処理がなされる。この第
2処理原液は傘状をなす第3分離体の傾斜面を放射方向
に向って落流していき、前述の固液分離が一層促進され
て第3処理がなされる。これにより成長したフロックは
容器の円S&部の内壁面をすベリ降りていきスラッジ1
非出口に到り、そのスラッジ排出管より外部に排出され
る。一方分離された上澄液は上澄液滞溜室に到り、ここ
で更にこの上′Kk液中に含まれている微小なスラッジ
は分離沈降されていき、最終的には分離された一ヒ2G
液は微速をもって上昇していき、その上澄液排出管を介
して外部にD1出される。このような操作を繰り返して
原液が順次処理されていくのである。
r実施例j 図面は本発明の一実施例を示すもので、1は円筒部2と
下方に向って収れんする円錐部3とでなる容器で、この
−例では容器1のと面間11部1aには原液溜室4が形
成されている。尚この原液溜室4には図示しないが原液
導入管が配備されていると共に、hi’G液括出管5が
重設されている。この上澄液排出管5の先端はほぼ円筒
部2のS近くに到っている。図中6は原液溜室4に開設
した開孔である。7はその基筒部を原液Wfl室4の下
部で、かつ−上澄液排出管5の北端に嵌乙した傘状をな
す第1分離体で、この第1分離体7は容器lの放射方向
でかつ下方に向って拡開した傾斜面7aを右していると
共に、その裾野部7bと容器lの円ぬ部2内壁及び後述
する第2分離体の傾斜面との間には第1流下路8が形成
されている。9はその)1(t’:i部を上澄液排出管
5の下部に嵌着しだ連中状をなす第2分離体で、この第
2分離体9は容′!ji1の下方に向ってかつ中心方向
に収れんする傾斜面9aを有していると共に、その花弁
先端部9bが容器lの円筒部2内壁に添接若しくは圧n
されている。そしてこの第2分離体の基t〕部やや上方
には:jS2処理原液が流下する開孔10が数個開設さ
れている。また第2分離体9の傾斜面9aと第1分離体
7の裾5f部7bhgの間には第1浣下路8が形成され
ていることは前述のとおりである。11はそのノ、(筒
部を、F澄液1オ出管5の下部で、かつIit記第2分
離体9の基筒部に連設するように嵌着した傘状をなす第
3分離体で、この第3分離体11は容器lの放射方向で
かつ下方に向って拡開した傾斜面11aを有していると
共に、前記第2分離体9とほぼ対称関係となっている。
そしてこの第3分離体11の裾!?部ttbと容器1の
円↑、1部2内壁との間には第2流下路12が形成され
ている。尚この一例では第2分離体9と第3分離体11
とが分離されている構成となっているが一体構造でも勿
論よいものである。また第1分離体7〜第3分離体11
とで分離体装置が構成される。13は容器lとその円筒
部2の下端部及び第3分離体11とで構成される略亀甲
型をなす上澄液滞溜室で、この−L澄液滞溜室13では
後述するように処理された。上澄液中に含有する微小な
スランンを分離沈降させるのである。14は円錐部3の
収れん部に設けたスラッジ排出口であり、15はそのス
ラッジ排出管である。16は容器lを支持するフレーム
である。
次に本発明の詳細な説明すると、原液導入’R(図示せ
ず)を介して原液溜室4に導かれた原液は、この原液溜
室4に開設した開孔6を介して流ドされていき、先ず傘
状をなす第1分離体7のll/l斜面7aを放射方向に
向って落流していき、下方への拡かりに伴って原液中に
浮遊するスラッジは分離され、この傾斜面7a上に捕捉
凝集される。この現象は流下するに従って高まり、傾斜
面7aの下端部に近づくにつれてその沈降速度が一層高
まると共に、フロックが形成される。そうして第1流ド
路8を流下して第1処理がなされる。つづいて連中状を
なす第2分離体9の傾斜面9aを中心方向に向って落流
していき、下方へ収れんされるに従がって原液中に浮遊
するスラッジは分離されると共に、前記フロ・ンクは傾
斜面9aをすべり降りていき史に太きく成長していく。
この現象は傾斜面9aの収れん部に近ずくにつれて促進
され1スラッジの分離とフロックの成長という固液分離
か盛んになされる。そうしてこの処理原液は第2分階体
9の中央部に開設した開孔lOを介して第3分離体11
の傾斜面11aに流下されて第2処理がなされる。この
第2処理に:(液は傘状をなす第3分階体11の傾斜面
11aを放射方向に向って落流していき、 +iij述
の固液分離が一層促進されて第3処理がなされる。これ
により成長したフロックは容器lの円錐r、II3の内
壁面をすへり降りていきスラッジ排出口14に到り、そ
のスラッジυ[円管15より外部に排出される。一方分
離された1−澄液は上澄液滞溜室13に到り、ここで更
にこの」;澄液中に含まれている微小なスラッジは分離
沈降されていき、最終的には分離された上澄液は全速を
もって上シ1していき、その上澄液排出管5を介して外
部に排出される。このような操作を繰り返して原液が順
次処理されていくのである。
r発明の効果」 本発明は以上詳述したように、容器に垂設した上澄液排
出管に第1分離体〜第3分離体″9の分離体装置を配備
し、原液をこ、れらの分離体装置を介して迂回させてス
ラッジと上澄液とを分離すると共に、スラッジを捕捉凝
集させる構成であるので、前述の分離効率が極めてよく
、微小なスラッジまで捕捉凝集することができるし、美
jになI−澄液を採集することができる。また第2分離
体に開孔を開設し、処理原液をこの開孔を通過させる構
成としたので、微小なスラッジの集合を促進させここで
フロックを生成することが■[能となり、より効−(4
よ<tIII捉凝集ができる。更に第1分離体〜第3分
離体等の分離体装置を1−澄液Iノ目口!i↑に嵌着す
る構成とすれば、これら分離体装置の保守管理が容易に
なり誠に合理的である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の一実施例を示す要部断面図である。 1−・祷容器  2・・・円筒部  3・・・円i11
部  4・・・原液溜室  5・・・上澄液排出管  
6.10・辱・開孔  7・・Φ第1分離体  8・・
・第1 FEド路  9・・・第2分離体  11・・
・第3分離体  12・・・第2 /Iタド路  13
・・・」−1C1液滞溜室  14Φ・・スラッジ涛出
1コ  15・・・スラッジ排出管

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)円筒部と下方に向って収れんされた円錐部とでな
    る容器に上澄液排出管を垂設し、この上澄液排出管の上
    方から下方に向って順次傘状の第1分離体及び逆傘状で
    開孔を開設してなる第2分離体並びに傘状の第3分離体
    とでなる分離体装置を配備し、この分離体装置と容器の
    円錐部とで上澄液滞溜室を形成してなり、前記容器に流
    入された原液を第1分離体を介して放射方向に向って落
    流させて第1処理をなし、つづいて第2分離体を介して
    中心方向に向って落流させかつ第2分離体の中央部開孔
    より次の第3分離体に落流させて第2処理をなし、この
    第2処理された原液を第3分離体を介して放射方向に向
    って落流して第3処理をなし、それ以後上澄液滞溜室を
    介して上澄液を上澄液排出管より排出すると共に、分離
    凝集されたスラッジを円錐部の下端に設けたスラッジ排
    出管を介して排出することを特徴とする沈澱分離装置(
    2)前記分離体装置が上澄液排出管に着脱自在となって
    いる特許請求の範囲第1項記載の沈澱分離装置。
JP1171286A 1986-01-22 1986-01-22 沈澱分離装置 Granted JPS62171716A (ja)

Priority Applications (1)

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JP1171286A JPS62171716A (ja) 1986-01-22 1986-01-22 沈澱分離装置

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JPS62171716A true JPS62171716A (ja) 1987-07-28
JPS6344402B2 JPS6344402B2 (ja) 1988-09-05

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ID=11785653

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002096078A (ja) * 2000-09-25 2002-04-02 Suirei:Kk 触媒装置を装備した工業用の汚水、排水等原水の浄化装置と、浄化システム
JP7246800B1 (ja) * 2022-10-28 2023-03-28 龍 静観 沈殿槽

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002096078A (ja) * 2000-09-25 2002-04-02 Suirei:Kk 触媒装置を装備した工業用の汚水、排水等原水の浄化装置と、浄化システム
JP7246800B1 (ja) * 2022-10-28 2023-03-28 龍 静観 沈殿槽

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