JPS62168992A - タ−ボ分子ポンプの腐食性ガス排気方法 - Google Patents

タ−ボ分子ポンプの腐食性ガス排気方法

Info

Publication number
JPS62168992A
JPS62168992A JP26798185A JP26798185A JPS62168992A JP S62168992 A JPS62168992 A JP S62168992A JP 26798185 A JP26798185 A JP 26798185A JP 26798185 A JP26798185 A JP 26798185A JP S62168992 A JPS62168992 A JP S62168992A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
pump
machine room
corrosive gas
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP26798185A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Narita
潔 成田
Juichi Kawaguchi
川口 重一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP26798185A priority Critical patent/JPS62168992A/ja
Publication of JPS62168992A publication Critical patent/JPS62168992A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Non-Positive Displacement Air Blowers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、ターボ分子ポンプで例えば半導体製造装置の
被排気容器から腐食性ガスを排気する場合などにおいて
、その機械室内への腐食性ガスの侵入を確実に防止する
排気方法に関するものである。
〔従来の技術] ターボ分子ポンプは、静翼と動完とを交互に配置して構
成されるタービン翼列の機械的な排気作用で高真空を実
現するものであるが、一般にそのポンプ構造は第3図に
示されるように、外枠ケースに内に形成されるポンプ室
1にロータ3を配置して同ポンプ室l内に吸気口4側か
ら排気口5側に排気する翼車群Tを構成する一方、ケー
スに内のモータハウジングH内に形成した機械室2に前
記ロータ3を一端に固定したローターシャフト6を導入
しこれをベアリング7.7で軸承するとともに、同機械
室2に組み込んだモータ8でローターターシャフト6を
介し前記ポンプ室l内のロータ3を回転駆動するように
したものが普通である。そして、この種のものでは、ポ
ンプ本体のベース9にオイルタンク10を付設し、この
タンク10内のオイル11を機械室2内に還流してベア
リング7.7を潤滑し、かつ機械室2内を冷却するのが
通例である。
ところが、その機械室2からポンプ室lにローターシャ
フト6が貫通して延出する構造のものであると、その軸
貫通部にシール15を設けても両室を完全に気密隔離す
ることができず、両室の圧力差で若干のガスの流出入が
避けられないものとなる。そして、ポンプ室1と機械室
2とにかかる隙間があれば、特に腐食性ガスを排気する
場合では、機械室2内に漏入した同ガスがオイル11を
劣化したりベアリング5,5等を腐食するなど、とり分
は深刻な事態を来たすことになる。
そこで、従来ではこのような事態に対処するため、ター
ボ分子ポンプの機械室2に、微量の不活性ガスを導入し
、411械室2側を相対的に高圧にするガスパージ機構
を設ける対策手段も講じられている。すなわち、第3図
の例(実願昭59−47220号参照)によると、ポン
プ本体のベース9にオイルタンク10内と連通するガス
導入通路12を設け、図外の供給源から切換弁13等を
介し微量のガスパージ用ガスを該通路12からタンクl
O内に導びき、さらにオイル戻り孔14を通して機械室
z内にガスが導入されるようになっている(ガスの流れ
を図に矢印で示す)。
[発明が解決しようとする問題点1 しかし、従来のガスパージ機構では、その機械室2に導
入されるガスパージ用ガスの流量が一定であるため、例
えばターボ分子ポンプが接続される排気系に腐食性ガス
の流入が開始されるときなど、そのポンプ室lに腐食性
ガスが突然多量に侵入してくる突発的なポンプ室l側の
圧力変動に対応できず、ポンプ室1側から機械室2側に
腐食性ガスが逆流する現象を完全には防止し得なかった
本発明は、このような不備に着眼し、 ターボ分子ポン
プの機械室内に有害な腐食性ガスが漏入するおそれを完
全に排除できるようにした排気方法を提供するものであ
る。
[問題点を解決するための手段] 本発明による腐食性ガスの排気方法は、ターボ分子ポン
プで腐食性ガスを排気するにさいし、ポンプ室への腐食
性ガスの侵入に同期して機械室に導入させるガスパージ
用ガスの流量を一旦増大してから所定量に調整するよう
にしたことを特徴とするものである。
[作用] このようにポンプ室への腐食性ガスの侵入に同期して機
械室へのガスパージ用ガスの流量を増大すれば、ポンプ
室側の圧力が増大しても、それよりも高い圧力に機械室
側を圧力変化させることができ、これにより常に機械室
側が相対的に高圧に保持され、腐食性ガスの逆流を防止
できる。
[実施例] 以下1本発明の一実施例を第1図のシステム構成例と共
に説明する。
まず、第1図において、図においてRCは、半導体製造
装置のチャンバ、ガスボンベもしくはガス配管などの被
排気容器であって、大気圧以下の圧力、例えば10To
rrの高真空に設定される。この被排気容器RCには、
その供給源Tlからガスバルブ(電磁切換弁)GVを介
して腐食性ガスが導入可能に構成される一方、メインバ
ルブ(電磁切換弁)MVを介してMS3図に如きターボ
分子ポンプTMPを接続し、さらにその後段にロータリ
ポンプRPを接続して排気ラインを構成している。
しかして、ターボ分子ポンプTMPは、その機械室2内
にガスパージ用ガス(不活性ガス)を導入するため、そ
の−側の前記ガス導入通路12にガスバージバルブ(電
磁切換弁)GPVを介しガスパージ用ガスの供給源T1
が接続されている。
このガスバージバルブGPVは3ポート切換弁で、ター
ボ分子ポンプTMPに接続されるボートに対し、各供給
源T1に接続されるポート1、IIが選択的に連通され
るようになっている。そして、ボー)I側のラインから
は大流量のガスパージ用ガスが流入でるようになってお
り、一方ポート■側のラインからは流量調整弁(ニード
ル弁)FCVを介して調整された微量のガスパージ用ガ
スが流入できるようになっている。そして、このガスバ
ージバルブGPVのポート接続位置の切換は、前記ガス
バルブGVと前記メインバルブMYとから各開度信号V
1.Vl、を入力し、これらバルフ開度に応じてガスバ
ージバルブGPVに切換信号tを出力する制御手段Cに
より所定のタイミングで自動的に行なわれるように構成
している。
なお、図中RVはターボ分子ポンプTMPの排気ライン
に付設した大気リーク用のバルブであって、必要なとき
このバルブRVを開いて同ラインに大気圧を導入するこ
とにより、ロータリポンプF、 Pによるターボ分子ポ
ンプTMPのオイル汚染を防止する役目を果す。
このようなシステム構成のものにおいて、真空引きした
被排気容器RCにガスバルブGVを開いて急激に腐食性
ガスを導入する場合を例に、この発明の排気方法を説明
する。いま、ターボ分子ポンプTMPのポンプ室1の圧
力をPt、同機械室2の圧力をPlとすれば、ガスバル
ブGVの開成と同時にターボ分子ポンプTMPのポンプ
室1には、被排気容器RCからメインバルブMVを通り
急激に多量の腐食性ガスが侵入してくるため、そのポン
プ室lの圧力P1は第2図のように定常圧力から急激に
上昇することになる。このさい、従来のように一定微量
のガスパージ用ガスをその機械室2に導入させるシステ
ムでは、機械室z内のPt力が第2図(PI)のように
変化し、(Pl)<PI となる、つまり、腐食性カス
が機械室2内に逆流する不都合を来たす。
これに対し、この発明によると、制御手段Cによりガス
バルブGVの開成と連動してガスパージバルブGPVが
ボートIの位置で開成され、腐食性ガスがターボ分子ポ
ンプTMPのポンプ室1に侵入するのと同期するタイミ
ングでその機械室2内に大流星のガスパージ用ガスを導
入することができるため、かかる突発的な腐食性ガスの
侵入に対しても、第2図に示すようにP1≧P1に保つ
ことができる。そして、この腐食性ガスの供給の後、メ
インバルブMVの絞りに連動してガスパージバルブGP
Vをボー)IIの位置に切換るようにすれば、第2図の
ように、Plの低下に応答させてPlを順次定常レベル
まで低下し、必要最小限のガス量によるガスパージが実
行できるものとなる。
したがって、このような排気方法によれば、ポンプ室l
から機械室2内に腐食性ガスが逆流して機械室2内を汚
染し腐食する現象を確実に防止することができる。
本発明は、以上のようなガスパージコントロールを行う
ものであるが、ターボ分子ポンプTMPに突発的に多量
の腐食性ガスが侵入する条件はその能様々であり、その
いずれの場合に対しても、要はそのポンプ室1へのガス
の侵入と同期して一旦モ分大きなガスパージ流量を確保
してから流量調整を行なうようにすればよい、なお、タ
ーボ分子ポンプTMPの機械室2に対するガスパージ用
ガスの流量可変機構は、必ずしも図示した構成例のもの
に限らない。
[発明の効果] 本発明の腐食性ガス排気方法は、以上に述べたように、
ターボ分子ポンプのポンプ室への腐食性ガスの侵入に同
期してその機械室に導入するガスパージ用ガスの論量を
一旦増量するものであるから、そのポンプ室に一時的に
圧力増大を来たす突発的な腐食性ガスの侵入に対しても
確実にその機
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に供する被排気容器からの排
気システムの概要を示す回路構成図である。第2図は本
発明の排気特性を従来法と対比して示す圧力変化図であ
る。第3図はターボ分子ポンプの内部構造を示す破断側
面図である。 TMP寺・・ターボ分子ポンプ GPV・・・ガスパージバルブ l・1111ポンプ室 2・・・機械室 PI  ・・争ポンプ室圧力 Pl ・・・機械室圧力

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ターボ分子ポンプで腐食性ガスを排気するにさいし、ポ
    ンプ室への腐食性ガスの侵入に同期して機械室に導入さ
    せるガスパージ用ガスの流量を一旦増大してから所定量
    に調整するようにしたことを特徴とするターボ分子ポン
    プの腐食性ガス排気方法。
JP26798185A 1985-11-27 1985-11-27 タ−ボ分子ポンプの腐食性ガス排気方法 Pending JPS62168992A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26798185A JPS62168992A (ja) 1985-11-27 1985-11-27 タ−ボ分子ポンプの腐食性ガス排気方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP26798185A JPS62168992A (ja) 1985-11-27 1985-11-27 タ−ボ分子ポンプの腐食性ガス排気方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS62168992A true JPS62168992A (ja) 1987-07-25

Family

ID=17452252

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP26798185A Pending JPS62168992A (ja) 1985-11-27 1985-11-27 タ−ボ分子ポンプの腐食性ガス排気方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS62168992A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01118190U (ja) * 1988-02-03 1989-08-09
JP2022505497A (ja) * 2018-10-25 2022-01-14 エドワーズ リミテッド 通気導管を有する真空ポンプ用のオイル供給組立体
US11391283B2 (en) 2017-03-10 2022-07-19 Edwards Japan Limited Vacuum pump exhaust system, vacuum pump provided for vacuum pump exhaust system, purge gas supply unit, temperature sensor unit, and exhausting method of vacuum pump

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01118190U (ja) * 1988-02-03 1989-08-09
US11391283B2 (en) 2017-03-10 2022-07-19 Edwards Japan Limited Vacuum pump exhaust system, vacuum pump provided for vacuum pump exhaust system, purge gas supply unit, temperature sensor unit, and exhausting method of vacuum pump
EP3594504B1 (en) * 2017-03-10 2024-05-08 Edwards Japan Limited Vacuum pump exhaust system and vacuum pump exhaust method
JP2022505497A (ja) * 2018-10-25 2022-01-14 エドワーズ リミテッド 通気導管を有する真空ポンプ用のオイル供給組立体
US12092126B2 (en) 2018-10-25 2024-09-17 Edwards Limited Oil feed assembly for a vacuum pump having a venting conduit

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100316300B1 (ko) 플라즈마처리장치및플라즈마처리장치의프라즈마클리닝방법
EP1512844B1 (en) Gas turbine installation and cooling air supplying method
KR101310490B1 (ko) 드라이 진공 펌프
JP5330896B2 (ja) ドライ真空ポンプ
JPS62168992A (ja) タ−ボ分子ポンプの腐食性ガス排気方法
US6598615B1 (en) Compact independent pressure control and vacuum isolation for a turbomolecular pumped plasma reaction chamber
JP2010270656A (ja) ドライ真空ポンプ
KR20230079022A (ko) 진공 배기 시스템
GB2440542A (en) Vacuum pump gearbox purge gas arrangement
JP2003097487A (ja) 遠心圧縮機
US20120027583A1 (en) Vacuum pump
JP3752348B2 (ja) 多段遠心圧縮機装置およびその運転方法
JPS63285279A (ja) 真空ポンプの軸封装置
Ando et al. Gradational lead screw vacuum pump development
JP2007107398A (ja) 真空排気装置および真空排気方法
JPH0436091A (ja) 油回転真空ポンプ
JP2003343472A (ja) 真空ポンプの軸シール構造
JPH05152217A (ja) 高性能半導体製造用の排気システムおよびその制御方法
KR100227830B1 (ko) 반도체 공정챔버용 진공시스템 및 이를 이용한가스공급방법
JPS6118235Y2 (ja)
US20240093362A1 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JPS6269509A (ja) 低圧cvd装置
RU2133879C1 (ru) Система уплотнений турбокомпрессора
JPH09151897A (ja) 真空ポンプ
KR100222960B1 (ko) 저압 공정용 펌핑 라인