JPS62163921A - ロ−タリ−エンコ−ダ− - Google Patents
ロ−タリ−エンコ−ダ−Info
- Publication number
- JPS62163921A JPS62163921A JP573686A JP573686A JPS62163921A JP S62163921 A JPS62163921 A JP S62163921A JP 573686 A JP573686 A JP 573686A JP 573686 A JP573686 A JP 573686A JP S62163921 A JPS62163921 A JP S62163921A
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- Japan
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- light
- beams
- optical path
- radiation grating
- diffracted
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明はロータリーエンコーダーに関し、特に円周上に
例えば透光部と反射部の格子模様を複数個、周期的に該
んだ放射格子を回転物体に取付け、該放射格子に例えば
レーザーからの光束を照射し、該放射格子からの回折光
を利用して、放射格子若しくは回転物体の回転速度や回
転速度の変ＪＪＪ ！１１等の回転状態を光電的に検出
するロータリーエンコーターに関するものである。
例えば透光部と反射部の格子模様を複数個、周期的に該
んだ放射格子を回転物体に取付け、該放射格子に例えば
レーザーからの光束を照射し、該放射格子からの回折光
を利用して、放射格子若しくは回転物体の回転速度や回
転速度の変ＪＪＪ ！１１等の回転状態を光電的に検出
するロータリーエンコーターに関するものである。
（従来の技術）
従来よりフロッピーデスクの駆動等のコンピューター機
器、プリンター等の一１工務機器、あるいはＮＣ工作機
城さらにはＶＴＲのキャブステンモーターや回転トラム
等の回転機構の回転速度や回転速度の変動：」■を検出
するムの手段として九電的なロータリーエンコーターが
利用されてきている。
器、プリンター等の一１工務機器、あるいはＮＣ工作機
城さらにはＶＴＲのキャブステンモーターや回転トラム
等の回転機構の回転速度や回転速度の変動：」■を検出
するムの手段として九電的なロータリーエンコーターが
利用されてきている。
光１“Ｗ的なロータリーエンコーターは例えば第３図に
示すように回転軸３０に連絡した円板３５の周囲に透光
部と遮光部を等間隔に設けた、所謂メインスケール３１
とこれに対応してメインスケールと等しい間隔で透光部
と遮光部とを設けた所謂固定のインデックススケール３
２との双方のスケールを投光手段３３と受光手段３４て
挟んで対向配置した所謂インデックススケール方式の構
成を採っている。
示すように回転軸３０に連絡した円板３５の周囲に透光
部と遮光部を等間隔に設けた、所謂メインスケール３１
とこれに対応してメインスケールと等しい間隔で透光部
と遮光部とを設けた所謂固定のインデックススケール３
２との双方のスケールを投光手段３３と受光手段３４て
挟んで対向配置した所謂インデックススケール方式の構
成を採っている。
この方法はメインスケールの回転に伴って双方のスケー
ルの透光部と遮光部の間隔に同期した信号か得られ、こ
の信号を周波数解析して回転軸の回転速度の変動を検出
している。この為、双方のスケールの透光部と遮光部と
のスケール間隔を細かくすればする程、検出精度を高め
ることができる。しかしながらスケール間隔を細かくす
ると回折光の死習で受光手段からの出力信号のＳ／Ｎ比
が低下し、検出精度が低下してしまう欠点があった。こ
の為メインスケールの透光部と遮光部の格子の総本数を
固定させ、透光部と遮光部の間隔を回折光の影響を受け
ない程度まで拡大しようとするとメインスケールの円板
の直径が増大し更に厚さも増大し装置全体が大型化し、
この結果被検回転物体への負荷が大きくなってくる等の
欠点があった。
ルの透光部と遮光部の間隔に同期した信号か得られ、こ
の信号を周波数解析して回転軸の回転速度の変動を検出
している。この為、双方のスケールの透光部と遮光部と
のスケール間隔を細かくすればする程、検出精度を高め
ることができる。しかしながらスケール間隔を細かくす
ると回折光の死習で受光手段からの出力信号のＳ／Ｎ比
が低下し、検出精度が低下してしまう欠点があった。こ
の為メインスケールの透光部と遮光部の格子の総本数を
固定させ、透光部と遮光部の間隔を回折光の影響を受け
ない程度まで拡大しようとするとメインスケールの円板
の直径が増大し更に厚さも増大し装置全体が大型化し、
この結果被検回転物体への負荷が大きくなってくる等の
欠点があった。
又ロータリーエンコーダーには光源としてレーザーが多
く用いられている。このうちレーザーからの光束を被検
回転物体に入射させ、該被検回転物体からの光束よりモ
渉絹を形成し、この干渉縞を利用して被検回転物体の回
転状態を測定する場合にはレーザーの発振波長の安定性
及び干渉させるべき２光束間の光路長を厳密に設定して
おく必要がある。レーザー光源として半導体レーザーは
小型で装置全体の小型化を図るには有利であるが発振波
長か例えば温度により変動してくる。この為、半導体レ
ーザーを用いて装置全体の小型化を図ろうとすると干渉
させる２光束の光路長が変化し、測定精度を低下させる
原因となってくる。
く用いられている。このうちレーザーからの光束を被検
回転物体に入射させ、該被検回転物体からの光束よりモ
渉絹を形成し、この干渉縞を利用して被検回転物体の回
転状態を測定する場合にはレーザーの発振波長の安定性
及び干渉させるべき２光束間の光路長を厳密に設定して
おく必要がある。レーザー光源として半導体レーザーは
小型で装置全体の小型化を図るには有利であるが発振波
長か例えば温度により変動してくる。この為、半導体レ
ーザーを用いて装置全体の小型化を図ろうとすると干渉
させる２光束の光路長が変化し、測定精度を低下させる
原因となってくる。
（発明が解決しようとする問題点）
本発明は半導体レーザー等の光源を用い２光束による干
渉縞を利用して被検回転物体の回転状態を測定する際、
光源の発振波長が多少変化しても２光束間の光路長を容
易に調整することができ、又、高精度の測定が可能でし
かも被検回転物体の負荷が小さく、装置全体の小型化か
容易なロータリーエンコーターの提供を目的とする。
渉縞を利用して被検回転物体の回転状態を測定する際、
光源の発振波長が多少変化しても２光束間の光路長を容
易に調整することができ、又、高精度の測定が可能でし
かも被検回転物体の負荷が小さく、装置全体の小型化か
容易なロータリーエンコーターの提供を目的とする。
（問題点を解決するための手段）
可干渉性の光源からの光束を光分割手段により複数に分
割した後、分割した複数の光束を回転物体に連結した円
板上の放射格子上であって該回転物体の異なる複数の位
置に各々入射させ、前記放射格子からの特定次数の回折
光を反射手段を利用して、同一光路を逆行させて前記放
射格子の略同一位置に再度入射させると共に該放射格子
からの特定次数の回折光を前記九分割手段に導光させた
後、該特定次数の回折光を重ね合わせ、そして受光手段
に導光し、該受光手段からの出力信号を利用して前記回
転物体の回転状態を求める際、光路長を可変とする調整
手段を設け、前記光分割手段で分割した２つの光束が該
光分割手段に再度人射し重ね合わされるまでの２つの光
束の光路長を調整したことである。
割した後、分割した複数の光束を回転物体に連結した円
板上の放射格子上であって該回転物体の異なる複数の位
置に各々入射させ、前記放射格子からの特定次数の回折
光を反射手段を利用して、同一光路を逆行させて前記放
射格子の略同一位置に再度入射させると共に該放射格子
からの特定次数の回折光を前記九分割手段に導光させた
後、該特定次数の回折光を重ね合わせ、そして受光手段
に導光し、該受光手段からの出力信号を利用して前記回
転物体の回転状態を求める際、光路長を可変とする調整
手段を設け、前記光分割手段で分割した２つの光束が該
光分割手段に再度人射し重ね合わされるまでの２つの光
束の光路長を調整したことである。
この他、本発明の特徴は実Ｍｉ例において記載されてい
る。
る。
（実施例）
第１図（Ａ）は本発明の一実施例の光学系の概略図であ
る。第１図（Ｂ）は同図（Ａ）の一部の側面図である。
る。第１図（Ｂ）は同図（Ａ）の一部の側面図である。
本実施例ではレーザー１より放射された光束をコリメー
ターレンズ２によって平行光束とし光分割手段としての
偏光ビームスプリッタ−３に入射させ、略等光用の反射
光束と透過光束の２つの直線偏光の光束に分割している
。このうち反射した光束は電波長板４を経て、円偏光と
し、プリズム１８、１８を介した後、被測定回転物体と
連結した円板６上の放射状の回折格子が設けられている
放射路ｒ７の位置Ｍ１に入射させている。このとき放射
格子７からの特定次数の回折光か放射格子７から略垂直
に射出するように光束を入射させている。そして放射格
子７に入射し回折した透過回折光のうち特定次数の回折
光を反射手段８により反射させ、同一光路を逆行させ放
射格子７上の略同一位置Ｍ１に再入射させている。そし
て放射格子７により再回折された特定次数の回折光を％
波長板４を介して入射したときと９０度偏光方位の異な
る直線偏光とし偏光ビームスプリッタ−３に入射させて
いる。
ターレンズ２によって平行光束とし光分割手段としての
偏光ビームスプリッタ−３に入射させ、略等光用の反射
光束と透過光束の２つの直線偏光の光束に分割している
。このうち反射した光束は電波長板４を経て、円偏光と
し、プリズム１８、１８を介した後、被測定回転物体と
連結した円板６上の放射状の回折格子が設けられている
放射路ｒ７の位置Ｍ１に入射させている。このとき放射
格子７からの特定次数の回折光か放射格子７から略垂直
に射出するように光束を入射させている。そして放射格
子７に入射し回折した透過回折光のうち特定次数の回折
光を反射手段８により反射させ、同一光路を逆行させ放
射格子７上の略同一位置Ｍ１に再入射させている。そし
て放射格子７により再回折された特定次数の回折光を％
波長板４を介して入射したときと９０度偏光方位の異な
る直線偏光とし偏光ビームスプリッタ−３に入射させて
いる。
本実施例では偏光ビームスプリッタ−３から反射手段８
に至る特定次数の回折光の往復光路を同一としている。
に至る特定次数の回折光の往復光路を同一としている。
第２図は第１図で示した反射手段の一実施例の説明図で
ある。
ある。
同図においては反射鏡４０を集光レンズ４１の略焦点面
上に配置し、集光レンズ４１に平行に入射してきた特定
次数の回折光のみをマスク４２の開口部４３を通過させ
反射鏡４０で反射させた後、元の光路を逆戻りするよう
にしている。そして、その他の次数の回折光をマスク４
２により遮光している。反射手段としては、この他第２
図に示す機能と同一のものであれば、例えばキャッツア
イ光学系等とのような構成のものでも良い。このような
光学系を用いれば例えばレーザーの発振波長が変化し、
回折角が多少変化しても略同じ光路で戻すことができる
特徴がある。
上に配置し、集光レンズ４１に平行に入射してきた特定
次数の回折光のみをマスク４２の開口部４３を通過させ
反射鏡４０で反射させた後、元の光路を逆戻りするよう
にしている。そして、その他の次数の回折光をマスク４
２により遮光している。反射手段としては、この他第２
図に示す機能と同一のものであれば、例えばキャッツア
イ光学系等とのような構成のものでも良い。このような
光学系を用いれば例えばレーザーの発振波長が変化し、
回折角が多少変化しても略同じ光路で戻すことができる
特徴がある。
又、キャッツアイ光学系に、屈折率分布型レンズ、例え
ば日本板硝子社製のセルフォックマイクロレンズ（商品
名）等を適用し、その両端平面な点に着目して片面に反
射膜を設けることにより、構成が簡便で且つ又生産性に
富む光学素子として本発明に有効に適用することかでき
る。
ば日本板硝子社製のセルフォックマイクロレンズ（商品
名）等を適用し、その両端平面な点に着目して片面に反
射膜を設けることにより、構成が簡便で且つ又生産性に
富む光学素子として本発明に有効に適用することかでき
る。
第１図に戻り偏光ビームスプリッタ−３で分割された２
つの光束のうち透過した光束は属波長板５を介し円偏光
とし、プリズム１７．１９を介した後円板６上の放射格
子７上の位置Ｍ１と回転軸５０に対して略点対称の位置
Ｍ２に入射させている。そして放射格子７に入射し回折
した透過回折光のうち特定次数の回折光を前述の反射手
段８と同様の反射手段９により同一光路を逆行させて、
放射格子７の略同一位置Ｍ２に再入射させている。モし
て放射格子７より再回折された特定次数の回折光を電波
長板５を介し入射したときとは９０度偏光方位の異なる
直線偏光とし偏光ビームスプリッタ−３に入射させてい
る。
つの光束のうち透過した光束は属波長板５を介し円偏光
とし、プリズム１７．１９を介した後円板６上の放射格
子７上の位置Ｍ１と回転軸５０に対して略点対称の位置
Ｍ２に入射させている。そして放射格子７に入射し回折
した透過回折光のうち特定次数の回折光を前述の反射手
段８と同様の反射手段９により同一光路を逆行させて、
放射格子７の略同一位置Ｍ２に再入射させている。モし
て放射格子７より再回折された特定次数の回折光を電波
長板５を介し入射したときとは９０度偏光方位の異なる
直線偏光とし偏光ビームスプリッタ−３に入射させてい
る。
このとき、透過光束も前述の反射光束と同様に偏光ビー
ムスプリッタ−３から反射手段９に至る特定次数の回折
光の往復光路を同一としている。
ムスプリッタ−３から反射手段９に至る特定次数の回折
光の往復光路を同一としている。
そして反射手段８を介し入射してきた回折光と重なり合
わせた後、％波長板ＩＯを介し円偏光とし、光分割器１
１で２つの光束に分割し、各々の光束を互いの偏光方位
を４５度傾けて配置した偏光板１２゜Ｉ３を介し双方の
光束に９０度の位相差を付けた直線偏光として各々の受
光手段１４．１５に入射させている。そして受光手段１
４．１５により形成された２光束の干渉縞の強度を検出
している。
わせた後、％波長板ＩＯを介し円偏光とし、光分割器１
１で２つの光束に分割し、各々の光束を互いの偏光方位
を４５度傾けて配置した偏光板１２゜Ｉ３を介し双方の
光束に９０度の位相差を付けた直線偏光として各々の受
光手段１４．１５に入射させている。そして受光手段１
４．１５により形成された２光束の干渉縞の強度を検出
している。
本実施例では偏光ビームスプリッタ−３を２つの光束の
放射格子７上への入射点Ｍ、、Ｍ２を結ぶ線上の放射格
子７に対する略垂直２等分線上に若しくはその略２等分
線に直交する方向に配置して、２つの光束間の光路長を
等しくしている。
放射格子７上への入射点Ｍ、、Ｍ２を結ぶ線上の放射格
子７に対する略垂直２等分線上に若しくはその略２等分
線に直交する方向に配置して、２つの光束間の光路長を
等しくしている。
本実施例において被測定回転物体か放射格子７の１ピツ
チ分だけ回転するとｍ次の回折光の位相は２ｎπだけ変
化する。同様に放射格子７により再回折されたｎ次の回
折光の位相は２ｎπたけ変化する。これにより全体とし
て受光手段からは（２ｍ−２ｎ）個の正弦波形が得られ
る。本実施例ではこのときの正弦波形を検出することに
より回転量を測定している。
チ分だけ回転するとｍ次の回折光の位相は２ｎπだけ変
化する。同様に放射格子７により再回折されたｎ次の回
折光の位相は２ｎπたけ変化する。これにより全体とし
て受光手段からは（２ｍ−２ｎ）個の正弦波形が得られ
る。本実施例ではこのときの正弦波形を検出することに
より回転量を測定している。
例えば回折格子のピッチが３，２μｍ、回折光として１
次及び−１次を利用したとすれば回転物体がピッチの３
．２μｍ分だけ回転したとき受光素子からは４個の正弦
波形か得られる。即ち正弦波形１個当りの分解能として
回折格子の１ピツチの％の３２７４＝ ０．３μｍが得
られる。
次及び−１次を利用したとすれば回転物体がピッチの３
．２μｍ分だけ回転したとき受光素子からは４個の正弦
波形か得られる。即ち正弦波形１個当りの分解能として
回折格子の１ピツチの％の３２７４＝ ０．３μｍが得
られる。
しかしなから、例えば光源であるレーザーの発振波長λ
が温度等の影響によりΔλ変動したとすると、２光束の
位相ずれΔφは、２光束間の光路長差をｄとしたとき となる。
が温度等の影響によりΔλ変動したとすると、２光束の
位相ずれΔφは、２光束間の光路長差をｄとしたとき となる。
受光手段から出力される周期信号を例えば電気分割によ
りＸ分割して数値化したとすればレーザーの発振波長の
変動による２光束間の位相ずれΔφは なる不等式を満たせば略影響しなくなる。
りＸ分割して数値化したとすればレーザーの発振波長の
変動による２光束間の位相ずれΔφは なる不等式を満たせば略影響しなくなる。
例えばλ＝ ７８０ｎｍ、Δλ＝ ０．３ｎｍ （モー
ドホップによる）、ｘ＝４とすると となる。本実施例では前記条件を満たすように調整手段
を設けて２光束間の光路長が略等しくなるように調整し
ている。
ドホップによる）、ｘ＝４とすると となる。本実施例では前記条件を満たすように調整手段
を設けて２光束間の光路長が略等しくなるように調整し
ている。
よ１整手段及びその調整方法としては、例えば（イ）反
射手段８．９の一方を第１図に示す矢印Ｙ１の如く光軸
方向に移動させる。
射手段８．９の一方を第１図に示す矢印Ｙ１の如く光軸
方向に移動させる。
（ロ）第１図の点線１００て囲まれる各要素を一体的に
同図の矢印Ｙ２の如く傾動させる。
同図の矢印Ｙ２の如く傾動させる。
（ハ）放射格子７の近傍に楔形のプリズム１８を矢印Ｙ
３の方向に出し入れして、そのノアさを変えて行う。
３の方向に出し入れして、そのノアさを変えて行う。
（ニ）放射格子７の近傍に２つ楔形のプリズム１９、２
０を平行平面板となるように重ね合わせ、少なくとも一
方のプリズムを矢印Ｙ４の方向にスライドさせる。
０を平行平面板となるように重ね合わせ、少なくとも一
方のプリズムを矢印Ｙ４の方向にスライドさせる。
（ホ）２枚の反射鏡、若しくは２つの反射面を有するプ
リズムを用いて一方の光路長を変える。
リズムを用いて一方の光路長を変える。
この他２つの光束のうち−・方の光路長を変えることの
できる調整手段であれば、どのようなものであっても良
く、又、調整手段を装置のどの位置に設定して行っても
良い。
できる調整手段であれば、どのようなものであっても良
く、又、調整手段を装置のどの位置に設定して行っても
良い。
本実施例では光分割器１１により光束を２分割し各々の
光束間に９０度の位相差をつけることにより回転物体の
回転方向も判別出来るようにしている。
光束間に９０度の位相差をつけることにより回転物体の
回転方向も判別出来るようにしている。
尚、回転量のみを測定するのであれば光分割器１１、偏
光板１２．１３及び一方の受光手段は不要である。
光板１２．１３及び一方の受光手段は不要である。
本実施例では回転中心に対して略点対称の２つの位置Ｍ
＋ 、 Ｍ ２からの回折光を利用することにより回
転物体の回転中心と放射格子の中心との偏心による測定
誤差な軽派させている。
＋ 、 Ｍ ２からの回折光を利用することにより回
転物体の回転中心と放射格子の中心との偏心による測定
誤差な軽派させている。
尚、本実施例に於る構成は略点対称な２点からの回折光
を利用しているわけであるが、略点対称に限らす複数の
位置からの回折光を用いることにより略同等の効果を得
ることが出来る。例えば、互いに１２０°の角度を成す
３点からの回折光を利用したり、近接しない任意の２点
からの回折光を利用するのも有効である。
を利用しているわけであるが、略点対称に限らす複数の
位置からの回折光を用いることにより略同等の効果を得
ることが出来る。例えば、互いに１２０°の角度を成す
３点からの回折光を利用したり、近接しない任意の２点
からの回折光を利用するのも有効である。
更に一方の光束の回転軸中心寄りの光束要素と略点対称
な位置に入射させた他方の光束の回転軸中心寄りの光束
要素とを互いに重なり合わせ、同様に回転中心の外側寄
りの光束要素同志を重ね合わせることにより、放射格子
の外側と内側のピッチの違いより生しる波面収差の１．
セコを除去している。
な位置に入射させた他方の光束の回転軸中心寄りの光束
要素とを互いに重なり合わせ、同様に回転中心の外側寄
りの光束要素同志を重ね合わせることにより、放射格子
の外側と内側のピッチの違いより生しる波面収差の１．
セコを除去している。
本実施例では偏光ビームスプリッタ−３から反射手段８
，９に至る特定次数の回折光の往復の光路を同一とする
ことにより、偏光ビームスプリッタ−３における２つの
回折光束の重なり具合を容易にし、装置全体の組立粒度
を向上させている。
，９に至る特定次数の回折光の往復の光路を同一とする
ことにより、偏光ビームスプリッタ−３における２つの
回折光束の重なり具合を容易にし、装置全体の組立粒度
を向上させている。
尚、以上の実施例において％波長板４．５は偏光ど一ム
スプリッター３又は偏光プリズム２２と反射手段との間
であればどこに配置しても良い。
スプリッター３又は偏光プリズム２２と反射手段との間
であればどこに配置しても良い。
又、実施例においては透過回折光の代わりに反射回折光
を利用しても良い。
を利用しても良い。
尚、本発明において使用する回折格子は、透光部と遮光
部から成る所謂振幅型の回折格子、互いに異なる屈折率
を仔する部分から成る位相型の回折格子である。特に位
相型の回折格子は、例えば透明円盤の円周上に凹凸のレ
リーフベターンを形成することにより作成出来、エンボ
ス、スタンパ等のプロセスにより足圧か可能である。
部から成る所謂振幅型の回折格子、互いに異なる屈折率
を仔する部分から成る位相型の回折格子である。特に位
相型の回折格子は、例えば透明円盤の円周上に凹凸のレ
リーフベターンを形成することにより作成出来、エンボ
ス、スタンパ等のプロセスにより足圧か可能である。
（発明の効果）
本発明によれば調整手段を用い２光束のうち−方の光束
の光路長を１週整し、２光束間の光路長を略等しくする
と共に偏光ビームスプリッタ−から反射手段に至るまで
の特定次数の回折光の往復光路を同一とすることにより
、半導体レーザー等の発振波長が変動する光源を用いた
ときの測定精度の低下を防止することができ、又、被検
回転物体の回転状態を高精度に測定することのでき、し
かも装置全体の小型化を図ったロータリーエンコーダー
を達成することができる。
の光路長を１週整し、２光束間の光路長を略等しくする
と共に偏光ビームスプリッタ−から反射手段に至るまで
の特定次数の回折光の往復光路を同一とすることにより
、半導体レーザー等の発振波長が変動する光源を用いた
ときの測定精度の低下を防止することができ、又、被検
回転物体の回転状態を高精度に測定することのでき、し
かも装置全体の小型化を図ったロータリーエンコーダー
を達成することができる。
第１図は本発明の一実施例の光学系の概略図、第２図は
第１図の一部分の説明図、第３図は従来の光電的ロータ
リーエンコーダーの説明図である。図中１はレーザー、
２はコリメーターレンズ、３は偏光ビームスプリッタ−
１４，５，１０は電波長板、６は円板、７は放射格子、
８，９は各々反射手段、１２．１３は各々偏光板、１４
．１５は各−々受光手段である。 男 １ 口（Ａ） 男 ！ ２ｒｇ
＞第 ２ 図
第１図の一部分の説明図、第３図は従来の光電的ロータ
リーエンコーダーの説明図である。図中１はレーザー、
２はコリメーターレンズ、３は偏光ビームスプリッタ−
１４，５，１０は電波長板、６は円板、７は放射格子、
８，９は各々反射手段、１２．１３は各々偏光板、１４
．１５は各−々受光手段である。 男 １ 口（Ａ） 男 ！ ２ｒｇ
＞第 ２ 図
Claims (2)
- （１）可干渉性の光源からの光束を光分割手段により複
数に分割した後、分割した複数の光束を回転物体に連結
した円板上の放射格子上であって該回転物体の異なる複
数の位置に各々入射させ、前記放射格子からの特定次数
の回折光を反射手段を利用して、同一光路を逆行させて
前記放射格子の略同一位置に再度入射させると共に該放
射格子からの特定次数の回折光を前記光分割手段に導光
させた後、該特定次数の回折光を重ね合わせ、そして受
光手段に導光し、該受光手段からの出力信号を利用して
前記回転物体の回転状態を求める際、光路長を可変とす
る調整手段を設け、前記光分割手段で分割した２つの光
束が該光分割手段に再度入射し重ね合わされるまでの２
つの光束の光路長を調整したことを特徴とするロータリ
ーエンコーダー。 - （２）前記光分割手段を前記２つの光束の放射格子上の
入射点を結ぶ線分の略垂直２等分線上に配置したことを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載のロータリーエン
コーダー。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61005736A JPH07119623B2 (ja) | 1986-01-14 | 1986-01-14 | 変位測定装置 |
| DE3700906A DE3700906C2 (de) | 1986-01-14 | 1987-01-14 | Verschlüßler |
| GB8700784A GB2185314B (en) | 1986-01-14 | 1987-01-14 | Encoder |
| US07/608,629 US5036192A (en) | 1986-01-14 | 1990-11-06 | Rotary encoder using reflected light |
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|---|---|---|---|
| JP61005736A JPH07119623B2 (ja) | 1986-01-14 | 1986-01-14 | 変位測定装置 |
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| JPS62163921A true JPS62163921A (ja) | 1987-07-20 |
| JPH07119623B2 JPH07119623B2 (ja) | 1995-12-20 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
| JP (1) | JPH07119623B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5442172A (en) * | 1994-05-27 | 1995-08-15 | International Business Machines Corporation | Wavefront reconstruction optics for use in a disk drive position measurement system |
| US5909333A (en) * | 1994-05-27 | 1999-06-01 | International Business Machines Corporation | Servo-writing system for use in a data recording disk drive |
| JP2010038654A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-02-18 | Sony Corp | 光学式変位測定装置 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5953209U (ja) * | 1982-10-01 | 1984-04-07 | ソニ−マグネスケ−ル株式会社 | 光学式測長スケ−ル |
| JPS6049406A (ja) * | 1983-08-29 | 1985-03-18 | Kubota Ltd | 自動走行作業車 |
| JPS6086520A (ja) * | 1983-08-30 | 1985-05-16 | ザ・パ−キン−エルマ−・コ−ポレイシヨン | ビ−ムスプリツタ用補償板調整ユニツトおよび干渉計 |
-
1986
- 1986-01-14 JP JP61005736A patent/JPH07119623B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5953209U (ja) * | 1982-10-01 | 1984-04-07 | ソニ−マグネスケ−ル株式会社 | 光学式測長スケ−ル |
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| JPS6086520A (ja) * | 1983-08-30 | 1985-05-16 | ザ・パ−キン−エルマ−・コ−ポレイシヨン | ビ−ムスプリツタ用補償板調整ユニツトおよび干渉計 |
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| JP2010038654A (ja) * | 2008-08-01 | 2010-02-18 | Sony Corp | 光学式変位測定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07119623B2 (ja) | 1995-12-20 |
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