JPS5953209U - 光学式測長スケ−ル - Google Patents

光学式測長スケ−ル

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JPS5953209U
JPS5953209U JP14801482U JP14801482U JPS5953209U JP S5953209 U JPS5953209 U JP S5953209U JP 14801482 U JP14801482 U JP 14801482U JP 14801482 U JP14801482 U JP 14801482U JP S5953209 U JPS5953209 U JP S5953209U
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JP
Japan
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light
diffraction grating
optical length
order
reflected light
Prior art date
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Application number
JP14801482U
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JPH0416177Y2 (ja
Inventor
成松　明壽
Original Assignee
ソニ−マグネスケ−ル株式会社
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は透過型回折格子を使った本考案による光学式測
長スケールの代表的な構成を示す図、第２図、第３図ａ
および゛ｂ１第４図、第５図ａおよびｂは透過型回折格
子を用いる本考案の４つの異なった状態の構成を示す図
で、それぞれの図のｂは同じ図のａに示す装置を紙面に
平行な方向から見た図、第６図および第７図は反射型回
折格子を使った本考案による光学式測長スケールの構成
を示す、それぞれ第２図および第５図に対応する図であ
る。 １・・・光源、２・・・レンズ、３，１１・・・半透鏡
、４・・・回折格子、５，６・・・平面鏡、７．８・・
・偏光子、９・・・受光系、１０・・・反射鏡、１２．
１３・・・検光子、１４．１５・・・光検出器、１６・
・・コーナ・キューブ。 補正　昭５８．　４．１８ 実用新案登録請求の範囲、図面の簡単な説明を次のよう
に補正する。 ◎実用新案登録請求の範囲 （１）レーザ発生装置と、該レーザ発生装置から出る光
ビームを二つに分割する手段と、回折格子と、上記二つ
の光ビームの上記回折格子によるそれぞれ＋１次および
一１次の回折光の透過光または反射光を上記回折格子に
向って送り返す反射面と、上記＋１次および一１次の回
折光の透過光または反射光がつぎに回折格子に当る前に
１回通過するように設けられた偏光子と、上記＋１次お
よび一１次の回折光の透過光または反射光が２度目に回
折格子に当った時のそれぞれ一１次および′＋１次の透
過光または反射光から成る光ビームが入射するように設
けられた受光系とを含むことを特徴とする光学式測長ス
ケール。 （２）上記レーザ発生装置からの光ビームが上記回折格
子に対して、上記＋１次または−１次の回折光の透過光
または反射光が上記回折格子に対して垂直となるように
傾斜して入射することを特徴とする実用新案登録請求の
範囲第１項記載の光学式測長スケール。 （３）　　上記反射面が平面鏡であることを特徴とする
実用新案登録請求の範囲第２項記載の光学式測長スケー
ル。 （４）上記反射面がプリズムの面であることを特徴とす
る実用新案登録請求の範囲第２項記載の光−学式測長ス
ケール。 図面の簡単な説明 第１図、第２図ａ、　　ｂおよび第３図はいずれも透過
型回折格子を用いた場合の本考案実施例による光学式測
長スケールを示す構成図、第４図および第５図は共に反
射型回折格子を用いた場合の本考案実施例による光学式
測長スケールを示す構成図である。 １・・・光源、２・・・レンズ、３・・・半透鏡、４・
・・回折格子、５．６・・・平面鏡、７，８・・・偏光
子、９・・・受光系。

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）レーザ発生装置と、該レーザ発生装置から出る光
    ビームを二つに分割する手段と、回折格子と、上記二つ
    の光ビームの上記回折格子によるそれぞれ＋１次および
    一１次の回折光の透過光または反射光を上記回折格子に
    向って送り返す反射面と、上記＋１次および一１次の回
    折光の透過光または反射光がつぎに回折格子に当る前に
    １・　回通過するように設けられた偏光子と、上記＋１
    次および一１次の回折光の透過光または反射光が２度目
    に回折格子に当った時のそれぞれ一１次および＋１次の
    透過光または反射光から成る光ビームが傾斜して入射す
    るように設けられたビーム・スプリッタと、該ビーム・
    スプリッタの反射側および透過側に設けられた検光子お
    よび光検出器とから成ることを特徴とする、光学式測長
    スケール。
  2. （２）上記レーザ発生装置からの光ビームが上記回折格
    子に対して、上記＋１次または一１次の回折光の透過光
    または反射光が上記回折格子に対して垂直となるように
    傾斜して入射することを特徴とする、実用新案登録請求
    の範囲第１項記載の光学式測長スケール。
  3. （３）上記反射面が平面鏡であることを特徴とする、実
    用新案登録請求の範囲第２項記載の光学式測長スケール
    。
  4. （４）上記反射面がプリズムの面であることを特徴とす
    る、実用新案登録請求の範囲第２項記載の光学式測長ス
    ケール。
JP14801482U 1982-10-01 1982-10-01 光学式測長スケ−ル Granted JPS5953209U (ja)

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JPH0416177Y2 JPH0416177Y2 (ja) 1992-04-10

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6235223A (ja) * 1985-08-08 1987-02-16 Agency Of Ind Science & Technol 相対変位測定方法
JPS62163921A (ja) * 1986-01-14 1987-07-20 Canon Inc ロ−タリ−エンコ−ダ−
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JPH01161113A (ja) * 1987-12-18 1989-06-23 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 移動量測定方法及び移動量測定装置
JP2016156805A (ja) * 2015-02-23 2016-09-01 ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツングＤｒ． Ｊｏｈａｎｎｅｓ Ｈｅｉｄｅｎｈａｉｎ Ｇｅｓｅｌｌｓｃｈａｆｔ Ｍｉｔ Ｂｅｓｃｈｒａｎｋｔｅｒ Ｈａｆｔｕｎｇ 光学位置測定装置

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JPS5781510U (ja) * 1980-11-05 1982-05-20

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