JPS6216258B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6216258B2 JPS6216258B2 JP16102481A JP16102481A JPS6216258B2 JP S6216258 B2 JPS6216258 B2 JP S6216258B2 JP 16102481 A JP16102481 A JP 16102481A JP 16102481 A JP16102481 A JP 16102481A JP S6216258 B2 JPS6216258 B2 JP S6216258B2
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- coil
- annealing
- retort
- burner
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- 239000000567 combustion gas Substances 0.000 claims description 10
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D9/00—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
- C21D9/52—Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for wires; for strips ; for rods of unlimited length
- C21D9/54—Furnaces for treating strips or wire
- C21D9/663—Bell-type furnaces
- C21D9/677—Arrangements of heating devices
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は直火式コイル焼鈍装置に係わり、詳し
くは炉壁に設けたバーナからの燃焼ガスによつ
て、レトルト内に入れられたコイルを1000℃以上
の高温にて焼鈍する直火式焼鈍装置に関する。 なお、直火式コイル焼鈍装置とはバーナからの
燃焼ガスを加熱源とするコイル焼鈍装置を云う。 従来の直火式コイル焼鈍装置を第1図により述
べる。図面において、1は炉体、2は前記炉体1
に設けられたバーナである。3は炉床で、この炉
床3にはコイル支持リング4がおかれ、該コイル
支持リング4はコイル台板5を介してコイル6を
支持している。7はレトルト内雰囲気ガス循環装
置例えばベースフアンで、前記炉床3上であつて
コイル支持リング4のほぼ中心部に設置されてい
る。8はレトルトで、その内部におかれた前記コ
イル6を所定の保護雰囲気下にて焼鈍するため
に、前記バーナ2からの燃焼ガスと隔離してい
る。 ところで、前記コイル6はバーナ2の燃焼作用
により加熱されたレトルト8からの輻射により加
熱される。一般に良く知られている様にコイル6
は、その半径方向の熱伝達に比べ、高さ方向の熱
伝達が圧倒的に大きいので、最短時間で効率的に
加熱する為、炉床3とコイル台板5間のコイル支
持リング4内に設けたベースフアン7を作動させ
て、雰囲気ガスを強制的に下部から循環させ、そ
の対流によつてコイル6の加熱を促進していた。 このレトルト内雰囲気ガス循環装置7を有する
コイル焼鈍装置は一般に広く使われているが、そ
の殆んどが加熱温度が600〜900℃程度の低温用コ
イル焼鈍炉である。従つて係るコイル焼鈍炉にて
1000℃以上の高温度の焼鈍を行なう場合は、前記
レトルト内雰囲気ガス循環装置7の耐熱性耐久性
が大きな問題となる。前記雰囲気ガス循環装置の
構成材料として、高級な耐熱鋼或いは特殊な耐火
物を使用するとしても、その耐久性及び整備性が
悪く、工業用実機設備としては成りたたなかつ
た。 また従来の直火式コイル焼鈍装置においては、
炉床3と最下段のコイル台板5の間隔は、ベース
フアン7が設置可能なだけの間隔で通常100〜250
mmであり、かつ前記コイル台板5は、外周部分を
コイル支持リング4により支持されている。この
ため、従来の直火式コイル焼鈍装置で1000℃以上
の高温に加熱した場合には、ベースフアン7が実
用に耐えられないことと相まつて、コイル下部か
ら加熱作用を与えることが難しく、大きな温度偏
差を生じる。 直火式コイル焼鈍装置は、加熱源を電気ヒータ
とするコイル焼鈍装置にくらべ、元来温度偏差が
大きいのであるが、特に加熱温度を1000℃以上の
高温とする場合には、温度偏差は大きくなる傾向
がある。他の従来の直火式コイル焼鈍装置として
は、第2図に示す様にコイル6を下部からも加熱
する為に炉床3とコイル台板5の間に補助ヒータ
ー9を設けたものもあつた。 この様な補助ヒータ9を併用した直火式コイル
焼鈍炉は、この補助ヒータ9で消費する電力が大
きく、熱処理に必要なコストを考えた場合不利で
あり、また、この補助ヒータ9への給電設備が必
要となり、設備が複雑化するとともに設備費もか
さみ問題である。 本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、バ
ーナからの燃焼熱により、レトルト内におかれた
コイルを1000℃以上の高温に温度偏差少なく加熱
し焼鈍する直火式コイル焼鈍装置を提供するもの
である。 即ち本発明の要旨は、炉体にバーナを1段また
は多段に設け、該バーナからの燃焼ガスによりレ
トルト内のコイルを加熱するコイル焼鈍装置にお
いて、コイルを載置したコイル台板の中央下部に
柱状支持具を設け、炉床と前記コイル台板の間に
300mm以上の高さ方向の空間を形成し、少なくと
も一部のバーナを、前記空間の高さの範囲内の前
記炉体に設けて、コイルを1000℃以上の高温にて
加熱するようにしたことを特徴とする直火式コイ
ル焼鈍装置にある。 次に本発明を第3図、第4図を参照して詳細に
説明する。 図面において、1は炉体、2はバーナで、前記
炉体1の下部と中間部にレトルト8の接線方向向
きに設けられている。また下部に設けられたバー
ナ2―1は後述するが、炉床3面とコイル台板5
の間に形成された空間の高さと同じ高さ範囲内の
炉体1に設けられている。 10は柱状支持具で、コイル6を載置したコイ
ル台板5の下部中央を支持し、該コイル台板5と
炉床3の間に高さ方向の空間11を形成してい
る。前記炉床3とコイル台板5の間の空間11に
より、レトルト8の側面からの輻射熱12が第4
図に示すように、コイル台板5の下面を通り、コ
イル6を下方からも加熱する。この下方からの加
熱を奏するには、前記空間11の高さを300mm以
上にする必要がある。この高さが低いとコイル6
の下方からの加熱作用が少なくなり、コイル6を
1000℃以上の高温にて焼鈍するさい温度偏差が大
となるので、300mm以上とする。 また本発明においては、前記空間11の高さと
同じ高さ範囲内に、少なくとも一部のバーナ2―
1を設けているので、該バーナ2―1で加熱され
たレトルト8下側面からの輻射熱12が、コイル
下方から入熱され、コイル6を高さ方向から効率
的に加熱する。この加熱によりコイル6内の温度
偏差も小さくなる。 さらに前記バーナ2―1から燃焼ガスはレトル
ト8に沿つて、上方に燃焼ガス流として当然流れ
るので、レトルト8の全面をも加熱する。これら
の作用と他のバーナ2の燃焼ガスにより、レトル
ト8内にあるコイル6は1000℃以上の高温、例え
ば1100℃に加熱された場合にも温度偏差は少な
い。 本発明は以上のようであるから、バーナからの
燃焼ガスにより、コイルを1000℃以上の高温に
て、温度偏差も少なく焼鈍することができる。 またレトルト8の裾部はシール溝13内に入れ
られ、レトルト8内に燃焼ガスが侵入しないよう
にしている。なおレトルト8内には雰囲気ガス供
給管(図示しない)が設けられ雰囲気ガスを供給
するようになつている。 次に実施例を示す。 板厚0.3mm、板巾950mmの珪素鋼帯に焼鈍分離剤
を塗布した後、巻取つて外径1600mmとした珪素鋼
コイルを第1図に示した従来の直火式コイル焼鈍
炉と、本発明による高温用直火式コイル焼鈍炉に
よつて、それぞれ1170℃に加熱した。 従来の焼鈍炉では、炉床3面とコイル台板5の
間隙は220mmで、ベースフアン7は停止させて焼
鈍を行なつた。 本発明による焼鈍炉では炉床3上面に外径550
mm、高さ350mmの耐熱鋼製の柱状支持具10を置
き、その上に厚さ170mmのコイル台板5とコイル
6を乗せて焼鈍した。 この焼鈍のさい前記両焼鈍炉について、下段コ
イルのコイル外周上部(コイルの最高温部に相当
する箇所)が1170℃に到達してから、各時間後の
該下段コイルのコイル内周中央部(コイルの最低
温部に相当する箇所)との温度偏差を第1表に示
す。 この第1表から本発明によると1170℃と云う高
温の焼鈍であつても、温度偏差が少なく効率的に
加熱でき焼鈍されることがわかる。 【表】
くは炉壁に設けたバーナからの燃焼ガスによつ
て、レトルト内に入れられたコイルを1000℃以上
の高温にて焼鈍する直火式焼鈍装置に関する。 なお、直火式コイル焼鈍装置とはバーナからの
燃焼ガスを加熱源とするコイル焼鈍装置を云う。 従来の直火式コイル焼鈍装置を第1図により述
べる。図面において、1は炉体、2は前記炉体1
に設けられたバーナである。3は炉床で、この炉
床3にはコイル支持リング4がおかれ、該コイル
支持リング4はコイル台板5を介してコイル6を
支持している。7はレトルト内雰囲気ガス循環装
置例えばベースフアンで、前記炉床3上であつて
コイル支持リング4のほぼ中心部に設置されてい
る。8はレトルトで、その内部におかれた前記コ
イル6を所定の保護雰囲気下にて焼鈍するため
に、前記バーナ2からの燃焼ガスと隔離してい
る。 ところで、前記コイル6はバーナ2の燃焼作用
により加熱されたレトルト8からの輻射により加
熱される。一般に良く知られている様にコイル6
は、その半径方向の熱伝達に比べ、高さ方向の熱
伝達が圧倒的に大きいので、最短時間で効率的に
加熱する為、炉床3とコイル台板5間のコイル支
持リング4内に設けたベースフアン7を作動させ
て、雰囲気ガスを強制的に下部から循環させ、そ
の対流によつてコイル6の加熱を促進していた。 このレトルト内雰囲気ガス循環装置7を有する
コイル焼鈍装置は一般に広く使われているが、そ
の殆んどが加熱温度が600〜900℃程度の低温用コ
イル焼鈍炉である。従つて係るコイル焼鈍炉にて
1000℃以上の高温度の焼鈍を行なう場合は、前記
レトルト内雰囲気ガス循環装置7の耐熱性耐久性
が大きな問題となる。前記雰囲気ガス循環装置の
構成材料として、高級な耐熱鋼或いは特殊な耐火
物を使用するとしても、その耐久性及び整備性が
悪く、工業用実機設備としては成りたたなかつ
た。 また従来の直火式コイル焼鈍装置においては、
炉床3と最下段のコイル台板5の間隔は、ベース
フアン7が設置可能なだけの間隔で通常100〜250
mmであり、かつ前記コイル台板5は、外周部分を
コイル支持リング4により支持されている。この
ため、従来の直火式コイル焼鈍装置で1000℃以上
の高温に加熱した場合には、ベースフアン7が実
用に耐えられないことと相まつて、コイル下部か
ら加熱作用を与えることが難しく、大きな温度偏
差を生じる。 直火式コイル焼鈍装置は、加熱源を電気ヒータ
とするコイル焼鈍装置にくらべ、元来温度偏差が
大きいのであるが、特に加熱温度を1000℃以上の
高温とする場合には、温度偏差は大きくなる傾向
がある。他の従来の直火式コイル焼鈍装置として
は、第2図に示す様にコイル6を下部からも加熱
する為に炉床3とコイル台板5の間に補助ヒータ
ー9を設けたものもあつた。 この様な補助ヒータ9を併用した直火式コイル
焼鈍炉は、この補助ヒータ9で消費する電力が大
きく、熱処理に必要なコストを考えた場合不利で
あり、また、この補助ヒータ9への給電設備が必
要となり、設備が複雑化するとともに設備費もか
さみ問題である。 本発明は前記実情に鑑みてなされたもので、バ
ーナからの燃焼熱により、レトルト内におかれた
コイルを1000℃以上の高温に温度偏差少なく加熱
し焼鈍する直火式コイル焼鈍装置を提供するもの
である。 即ち本発明の要旨は、炉体にバーナを1段また
は多段に設け、該バーナからの燃焼ガスによりレ
トルト内のコイルを加熱するコイル焼鈍装置にお
いて、コイルを載置したコイル台板の中央下部に
柱状支持具を設け、炉床と前記コイル台板の間に
300mm以上の高さ方向の空間を形成し、少なくと
も一部のバーナを、前記空間の高さの範囲内の前
記炉体に設けて、コイルを1000℃以上の高温にて
加熱するようにしたことを特徴とする直火式コイ
ル焼鈍装置にある。 次に本発明を第3図、第4図を参照して詳細に
説明する。 図面において、1は炉体、2はバーナで、前記
炉体1の下部と中間部にレトルト8の接線方向向
きに設けられている。また下部に設けられたバー
ナ2―1は後述するが、炉床3面とコイル台板5
の間に形成された空間の高さと同じ高さ範囲内の
炉体1に設けられている。 10は柱状支持具で、コイル6を載置したコイ
ル台板5の下部中央を支持し、該コイル台板5と
炉床3の間に高さ方向の空間11を形成してい
る。前記炉床3とコイル台板5の間の空間11に
より、レトルト8の側面からの輻射熱12が第4
図に示すように、コイル台板5の下面を通り、コ
イル6を下方からも加熱する。この下方からの加
熱を奏するには、前記空間11の高さを300mm以
上にする必要がある。この高さが低いとコイル6
の下方からの加熱作用が少なくなり、コイル6を
1000℃以上の高温にて焼鈍するさい温度偏差が大
となるので、300mm以上とする。 また本発明においては、前記空間11の高さと
同じ高さ範囲内に、少なくとも一部のバーナ2―
1を設けているので、該バーナ2―1で加熱され
たレトルト8下側面からの輻射熱12が、コイル
下方から入熱され、コイル6を高さ方向から効率
的に加熱する。この加熱によりコイル6内の温度
偏差も小さくなる。 さらに前記バーナ2―1から燃焼ガスはレトル
ト8に沿つて、上方に燃焼ガス流として当然流れ
るので、レトルト8の全面をも加熱する。これら
の作用と他のバーナ2の燃焼ガスにより、レトル
ト8内にあるコイル6は1000℃以上の高温、例え
ば1100℃に加熱された場合にも温度偏差は少な
い。 本発明は以上のようであるから、バーナからの
燃焼ガスにより、コイルを1000℃以上の高温に
て、温度偏差も少なく焼鈍することができる。 またレトルト8の裾部はシール溝13内に入れ
られ、レトルト8内に燃焼ガスが侵入しないよう
にしている。なおレトルト8内には雰囲気ガス供
給管(図示しない)が設けられ雰囲気ガスを供給
するようになつている。 次に実施例を示す。 板厚0.3mm、板巾950mmの珪素鋼帯に焼鈍分離剤
を塗布した後、巻取つて外径1600mmとした珪素鋼
コイルを第1図に示した従来の直火式コイル焼鈍
炉と、本発明による高温用直火式コイル焼鈍炉に
よつて、それぞれ1170℃に加熱した。 従来の焼鈍炉では、炉床3面とコイル台板5の
間隙は220mmで、ベースフアン7は停止させて焼
鈍を行なつた。 本発明による焼鈍炉では炉床3上面に外径550
mm、高さ350mmの耐熱鋼製の柱状支持具10を置
き、その上に厚さ170mmのコイル台板5とコイル
6を乗せて焼鈍した。 この焼鈍のさい前記両焼鈍炉について、下段コ
イルのコイル外周上部(コイルの最高温部に相当
する箇所)が1170℃に到達してから、各時間後の
該下段コイルのコイル内周中央部(コイルの最低
温部に相当する箇所)との温度偏差を第1表に示
す。 この第1表から本発明によると1170℃と云う高
温の焼鈍であつても、温度偏差が少なく効率的に
加熱でき焼鈍されることがわかる。 【表】
第1図は従来の直火式コイル焼鈍装置の説明
図、第2図は従来の他の直火式コイル焼鈍装置の
説明図、第3図は本発明の直火式コイル焼鈍装置
の1例を示す説明図、第4図は本発明の作用の説
明図である。 1:炉体、2:バーナ、3:炉床、5:コイル
台板、11:高さ方向空間。
図、第2図は従来の他の直火式コイル焼鈍装置の
説明図、第3図は本発明の直火式コイル焼鈍装置
の1例を示す説明図、第4図は本発明の作用の説
明図である。 1:炉体、2:バーナ、3:炉床、5:コイル
台板、11:高さ方向空間。
Claims (1)
- 1 炉体にバーナを1段または多段に設け、該バ
ーナからの燃焼ガスによりレトルト内のコイルを
加熱する焼鈍装置において、コイルを載置したコ
イル台板の中央下部に柱状支持具を設け、炉床面
と前記コイル台板の間に300mm以上の高さ方向の
空間を形成し、少なくとも一部のバーナを前記空
間の高さの範囲内に設けて、コイルを1000℃以上
の高温にて加熱するようにしたことを特徴とする
直火式コイル焼鈍装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16102481A JPS5864323A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 直火式コイル焼鈍装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16102481A JPS5864323A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 直火式コイル焼鈍装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5864323A JPS5864323A (ja) | 1983-04-16 |
JPS6216258B2 true JPS6216258B2 (ja) | 1987-04-11 |
Family
ID=15727131
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16102481A Granted JPS5864323A (ja) | 1981-10-12 | 1981-10-12 | 直火式コイル焼鈍装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5864323A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6467137A (en) * | 1987-09-05 | 1989-03-13 | Toshiteru Konishi | Apparatus for water culture |
JPH0249850U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-06 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AT507671B1 (de) * | 2009-03-13 | 2010-07-15 | Ebner Ind Ofenbau | Hochtemperaturofen zur glühbehandlung von blechbunden |
-
1981
- 1981-10-12 JP JP16102481A patent/JPS5864323A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6467137A (en) * | 1987-09-05 | 1989-03-13 | Toshiteru Konishi | Apparatus for water culture |
JPH0249850U (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-06 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5864323A (ja) | 1983-04-16 |
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